Force-microscopy contrast mechanisms in ferroelectric domain imaging

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 61, Issue 21, 2000, Pages 14390-14398

  Labardi, M ^a   Likodimos, V ^a   Allegrini, M ^a  

^a INFM   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000980633     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.61.14390     Document Type: Article

References (32)

1. F. Saurenbach and B. D. Terris, Appl. Phys. Lett. 56, 1703 (1990).
2. A. G. Chynoweth and J. L. Abel, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 1073 (1959).
3. M. Hayashi and M. Mishima, Jpn. J. Appl. Phys. 8, 968 (1969).
4. N. Nakatani, J. Appl. Phys. 12, 1723 (1973).
5. Y. Fruhuhate and K. Toriyama, Appl. Phys. Lett. 23, 361 (1973).
6. R. Lüthi, H. Haefke, W. Gutmannsbauer, E. Meyer, L. Howald, and H.-J. Güntherodt, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2451 (1994).
7. H. Bluhm, A. Wadas, R. Wiesendanger, K.-P. Meyer, and L. Szczesniak, Phys. Rev. B 55, 4 (1997).
8. J. W. Hong, K. H. Noh, Sang-il Park, S. I. Kwun, and Z. G. Khim, Phys. Rev. B 58, 5078 (1998).
9. R. Lüthi, H. Haefke, K.-P. Meyer, E. Meyer, L. Howald, and H.-J. Güntherodt, J. Appl. Phys. 74, 7461 (1993).
10. O. Kolosov, A. Gruverman, J. Hatano, K. Takahashi, and H. Tokumoto, Phys. Rev. Lett. 74, 4309 (1995).
11. H. Bluhm, U. D. Schwarz, K.-P. Meyer, and R. Wiesendanger, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 61, 525 (1995).
12. H. Bluhm, U. D. Schwarz, and R. Wiesendanger, Phys. Rev. B 57, 161 (1998).
13. A. Gruverman, O. Kolosov, J. Hatano, K. Takahashi, and H. Tokumoto, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1095 (1995).
14. A. Correia, J. Massanell, N. Garcia, A. P. Levanyuk, A. Zlatkin, and J. Przeslawski, Appl. Phys. Lett. 68, 2796 (1996).
15. K. Franke and M. Weihnacht, Ferroelectr. Lett. Sect. 19, 25 (1995).
16. K. Franke, Ferroelectr. Lett. Sect. 19, 35 (1995).
17. Y. Martin, C. C. Williams, and H. K. Wickramasinghe, J. Appl. Phys. 61, 4723 (1987).
18. T. R. Albrecht, P. Grütter, D. Horne, and D. Rugar, J. Appl. Phys. 69, 668 (1991).
19. X. K. Orlik, V. Likodimos, M. Labardi, L. Pardi, and M. Allegrini, Appl. Phys. Lett. 76, 1321 (2000).
20. V. Likodimos, X. K. Orlik, M. Labardi, L. Pardi, and M. Allegrini, J. Appl. Phys. 87, 443 (2000).
21. J. W. Hong, Sang-il Park, and Z. G. Khim, Rev. Sci. Instrum. 70, 1735 (1999).
22. J. W. Hong, D. S. Kahng, J. C. Shin, H. J. Kim, and Z. G. Khim, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2942 (1998).
23. G. Zavala, J. H. Fendler, and S. Trolier-McKinstry, J. Appl. Phys. 81, 7480 (1997).
24. J. Ohgami, Y. Sugawara, S. Morita, E. Nakamura, and T. Ozaki, Jpn. J. Appl. Phys. 35, 2734 (1996).
25. L. M. Eng, M. Abplanalp, and P. Günter, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S679 (1998).
26. M. Labardi, M. Allegrini, E. Marchetti, and P. Sgarzi, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1509 (1996).
27. P. Maivald, H. J. Butt, S. A. C. Gould, C. B. Prater, B. Drake, J. A. Gurley, V. B. Elings, and P. K. Hansma, Nanotechnology 2, 103 (1991).
28. A. Sawada and R. Abe, Jpn. J. Appl. Phys. 6, 669 (1967).
29. K. Takata, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3393 (1996).
30. M. Luna, J. Colchero, and A. M. Baró, Appl. Phys. Lett. 72, 3461 (1998).
31. M. Abplanalp, L. M. Eng, and P. Günter, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S231 (1998).
32. U. Rabe, K. Janser, and W. Arnold, Rev. Sci. Instrum. 67, 3281 (1996).