Effective compliant substrate for low-dislocation relaxed sige growth

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 9, 2001, Pages 1219-1221

  Luo, Y H ^a   Liu, J L ^a   Jin, G ^a   Wan, J ^a   Wang, K L ^a   Moore, C D ^a   Goorsky, M S ^a   Chin, C ^a   Tu, K N ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000728424     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1351520     Document Type: Article

References (17)

1. Y. H. Xie, D. Monroe, E. A. Fitzgerald, P. J. Silverman, F. A. Theil, and G. P. Watson, Appl. Phys. Lett. 63, 2263 (1993).
2. J. J. Welser, J. L. Hoyt, and J. F. Gibbons, IEEE Electron Device Lett. EDL15, 100 (1994).
3. W. S. Wang and I. B. Bhat, J. Electron. Mater, 24, 1047 (1995).
4. L. B. Freund, J. Appl. Phys. 68, 207, (1990).
5. P. Kvan and F. Namavar, Appl. Phys. Lett. 58, 2357 (1991).
6. Y. H. Luo, J. Wan, R. L. Forrest, J. L. Liu, G. Jin, M. S. Goorsky, and K. L. Wang. Appl. Phys. Lett. 78. 454 (2001).
7. Y. H. Lo, Appl. Phys. Lett. 59, 2311 (1991).
8. A. Powell, F. K. Legeous, and S. S. Iyer, Appl. Phys. Lett. 64, 324 (1994).
9. F. E. Ejeckam, Y. H. Lo, S. Subramanian, H. Q. Hou, and B. E. Mammons, Appl. Phys. Lett. 70, 1685 (1997).
10. C. Carter-Coman, A. S. Brown, A. Metzger, N. M. Jokerst, J. Pickering, and L. Bottomley, Appl. Phys. Lett. 71, 1344 (1997).
11. M. A. Chu, M. O. Tanner, F. Y. Huang, K. L. Wang, G. G. Chu, and M. S. Goorsky, J. Cryst. Growth 175/176, 1278 (1997).
12. J. Cao, D. Pavlidis, Y. Park, J. Singh, and A. Eisenbach, J. Appl. Phys. 83, 3829 (1998).
13. O. V. Mazurin, M. V. Streltsina, and T. P. Shavaiku-Shvaikovskaya, Handbook of Glass Data (Elsevier, Amsterdam, 1983), p. 563.
14. M. A. Chu and K. L. Wang (unpublished data).
15. F. Y. Huang, M. A. Chu, M. O. Tanner, K. L. Wang, G. D. Uren, and M. S. Goorsky, Appl. Phys. Lett. 76, 2680 (2000).
16. H. Ryssel and I. Ruge, Ion Implantation (Wiley, New York, 1986), p. 383.
17. J. C. Tsang, P. M. Mooney, F. Dacol, and J. O. Chu, J. Appl. Phys. 75, 8098 (1994).