Improved quality GaN by growth on compliant silicon-on-insulator substrates using metalorganic chemical vapor deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 83, Issue 7, 1998, Pages 3829-3834

  Cao, J ^a   Pavlidis, D ^a   Park, Y ^a   Singh, J ^a   Eisenbach, A ^a  

^a UNIVERSITY OF MICHIGAN   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000428548     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.366613     Document Type: Article

References (19)

1. S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, Y. Sugimoto, and H. Kiyoku, Appl. Phys. Lett. 70, 1417 (1997).
2. S. C. Binari, K. Doverspike, G. Keiner, H. B. Dietrich, and A. E. Wickenden, Solid-State Electron. 41, 177 (1997).
3. H. Amano, M. Kito, K. Hiramatsu, and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 28, L2112 (1989).
4. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, J. Appl. Phys. 71, 5543 (1992).
5. C. H. Hong, K. Wang, and D. Pavlidis, J. Electron. Mater. 24, 213 (1995).
6. K. Doverspike, L. B. Rowland, D. K. Gaskill, and J. A. Freitas, Jr., J. Electron. Mater. 24, 269 (1995).
7. I. Akasaki, H. Amano, Y. Koide, K. Hiramatsu, and N. Sawaki, J. Cryst. Growth 98, 209 (1989).
8. C.-J. Sun and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 63, 973 (1993).
9. D. Teng and Y. H. Lo, Appl. Phys. Lett. 62, 43 (1993).
10. L. B. Freund and W. D. Nix, Appl. Phys. Lett. 69, 257 (1996).
11. C. L. Chua, W. Y. Hsu, C. H. Lin, G. Christenson, and Y. H. Lo, Appl. Phys. Lett. 64, 3640 (1994).
12. C. Carter-Coman, A. S. Brown, R. Bicknell-Tassius, N. M. Jokerst, and M. Allen, Appl. Phys. Lett. 69, 257 (1996).
13. F. E. Ejeckam, Y. H. Lo, S. Subramanian, H. Q. Hou, and B. E. Hammons, Appl. Phys. Lett. 70, 1685 (1997).
14. D. Pavlidis, J. Singh, Y. Park, A. Eisenbach, and J. Cao, Office of Naval Research Report (N00014-92-J-1552), July 1996.
15. A. R. Powell, S. S. Iyer, and F. K. LeGoues, Appl. Phys. Lett. 64, 1856 (1994).
16. Z. Yang, F. Guarin, I. W. Tao, W. I. Wang, and S. S. Iyer, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 789 (1995).
17. A. J. Steckl, J. Devrajan, C. Tran, and R. A. Stall, J. Electron. Mater. 26, 217 (1997).
18. J. D. Colinge, Silicon-On-Insulator Technology: Materials to VLSI (Kluwer Academic, Norwell, MA, 1991).
19. T. Lei, M. Fanciulli, R. J. Molnar, T. D. Moustakas, R. J. Graham, and J. Scanlon, Appl. Phys. Lett. 59, 944 (1991).