Argon ion-induced dissociation of acetylene in an expanding Ar/C2H2 plasma

Applied Physics Letters

Volumn 74, Issue 20, 1999, Pages 2927-2929

  De Graaf, A ^a   Van Hest, M F A M ^a   Van De Sanden, M C M ^a   Letourneur, K G Y ^a   Schram, D C ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000723288     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.123968     Document Type: Article

References (16)

1. J. C. Angus and Y. Wang, in Diamond and Diamond-like Films and Coatings, NATO ASI Series B, Vol. 266, edited by R. E. Clausing, L. L. Horton, J. C. Angus, and P. Koidl (Plenum, New York, 1991), p. 173.
2. J. C. Angus, P. Koidl, and S. Domitz, in Plasma Deposited Thin Films, edited by J. Mort and F. Jansen (CRC, Boca Raton, FL, 1986), p. 89.
3. J. W. A. M. Gielen, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 82, 2643 (1997); J. W. A. M. Gielen, P. R. M. Kleuskens, M. C. M. van de Sanden, L. J. van Ijzendoorn, D. C. Schram, E. H. A. Dekempeneer, and J. Meneve, ibid 80, 5986 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C, M. van de Sanden, P. R. M. Kleuskens, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 492 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 69, 152 (1996).
4. J. W. A. M. Gielen, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 82, 2643 (1997); J. W. A. M. Gielen, P. R. M. Kleuskens, M. C. M. van de Sanden, L. J. van Ijzendoorn, D. C. Schram, E. H. A. Dekempeneer, and J. Meneve, ibid 80, 5986 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C, M. van de Sanden, P. R. M. Kleuskens, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 492 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 69, 152 (1996).
5. J. W. A. M. Gielen, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 82, 2643 (1997); J. W. A. M. Gielen, P. R. M. Kleuskens, M. C. M. van de Sanden, L. J. van Ijzendoorn, D. C. Schram, E. H. A. Dekempeneer, and J. Meneve, ibid 80, 5986 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C, M. van de Sanden, P. R. M. Kleuskens, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 492 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 69, 152 (1996).
6. J. W. A. M. Gielen, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 82, 2643 (1997); J. W. A. M. Gielen, P. R. M. Kleuskens, M. C. M. van de Sanden, L. J. van Ijzendoorn, D. C. Schram, E. H. A. Dekempeneer, and J. Meneve, ibid 80, 5986 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C, M. van de Sanden, P. R. M. Kleuskens, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 492 (1996); J. W. A. M. Gielen, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 69, 152 (1996).
7. W. B. Maier, J. Chem. Phys. 42, 1790 (1965).
8. P. M. Mul and J. W. McGowan, Astrophys. J. 237, 749 (1980).
9. S.-H. Zheng and S. K. Srivastava, J. Phys. B 29, 3235 (1996).
10. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, J. W. A. M. Gielen, R. M. J. Paffen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 268 (1996).
11. M. C. M. van de Sanden, M. F. A. M. van Hest, A. de Graaf, A. H. M. Smets, K. G. Y. Letourneur, M. G. H. Boogaarts, and D. C. Schram, Diamond Rel. Mater, (to be published).
12. F. F. Chen, in Plasma Diagnostic Techniques, edited by R. H. Huddlestone and L. L. Stanley (Academic, New York, 1965), Chap. 4.
13. A. de Graaf, M. F. A. M. van Hest, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram (unpublished).
14. G. M. W. Kroesen, D. C. Schram, A. T. M. Wilbers, and G. J. Meeusen, Contrib. Plasma Phys. 31, 27 (1991).
15. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 84, 2426 (1998).
16. K. T. A. L. Burm, W. J. Goedheer, J. A. M. van der Mullen, G. M. Janssen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 395 (1998).