Argon metastable densities in radio frequency Ar, Ar/O2 and Ar/CF4 electrical discharges

Journal of Applied Physics

Volumn 82, Issue 6, 1997, Pages 2805-2813

  Rauf, Shahid ^a   Kushner, Mark J ^a  

^a United States of America   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000597895     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.366111     Document Type: Article

References (37)

1. See special issue of: J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 327-494 (1995).
2. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, J. Appl. Phys. 77, 5538 (1995).
3. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, J. Appl. Phys. 79, 77 (1996).
4. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 113 (1996).
5. L. J. Overzet and M. B. Hopkins, Appl. Phys. Lett. 63, 2484 (1993).
6. D. P. Lymberopoulos and D. J. Economou, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 473 (1995).
7. P. L. G. Ventzek, M. Grapperhaus, and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3118 (1994).
8. W. Z. Collison and M. J. Kushner, Appl. Phys. Lett. 68, 903 (1996).
9. M. J. Kushner, W. Z. Collison, M. Grapperhaus, J. P. Holland, and M. S. Barnes, J. Appl. Phys. 80, 1337 (1996).
10. S. Rauf and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 81, 5966 (1997).
11. T. Holstein, Phys. Rev. 83, 1159 (1951).
12. L. J. Overzet, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 100, 401 (1995).
13. K. Tachibana, Phys. Rev. A 34, 1007 (1986).
14. D. Rapp and P. Englander-Golden, J. Chem. Phys. 43, 1464 (1965).
15. R. H. McFarland and J. D. Kinney, Phys. Rev 137, A1058 (1965).
16. P. K. Leichner and R. J. Ericson, Phys. Rev. A 9, 251 (1974).
17. A. V. Phelps, JILA Information Center Report No. 28, University of Colorado (1985).
18. J. B. A. Mitchell, Phys. Rep. 186, 215 (1990).
19. R. R. Laher and F. R. Gilmore, J. Phys. Chem. Ref. Data 19, 277 (1990).
20. R. E. Olson, J. R. Peterson, and J. Moseley, J. Chem. Phys. 53, 3391 (1970).
21. D. L. Albritton, At. Data Nucl. Data Tables 22, 1 (1978).
22. Y. Ikezoe, S. Matsuoka, M. Takebe, and A. Viggiano, Gas-Phase Ion-Molecule Reaction Rate Constants Through 1986 (Maruzen, Tokyo, 1987).
23. D. L. Baulch, R. A. Cox, P. J. Crutzen, R. F. Hampson, J. A. Kerr, J. Troe, and R. T. Watson, J. Phys. Chem. Ref. Data 11, 327 (1982).
24. J. A. Davidson, H. I. Schiff, G. E. Streit, J. R. McAfee, A. L. Schmeltekopf, and C. J. Howard, J. Chem. Phys. 67, 5021 (1977).
25. D. C. Parent, R. Derai, G. Mauclaire, M. Heninger, R. Marx, M. E. Rincon, A. O'Keefe, and M. T. Bowers, Chem. Phys. Lett. 117, 127 (1985).
26. P. Gaucherel, Int. J. Mol. Spec. 25, 211 (1977).
27. L. G. Piper, J. E. Velazco, and D. W. Setser, J. Chem. Phys. 59, 3323 (1973).
28. D. L. King, L. G. Piper, and D. W. Setser, J. Chem. Soc. Faraday Trans. 73, 177 (1977).
29. R. A. Bonham, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 4157 (1994).
30. M. Hayashi, in Gaseous Dielectrics V, edited by L. G. Christophorou and D. W. Bouldin (Pergamon, New York, 1987).
31. M. Hayashi and T. Nimura, J. Appl. Phys. 54, 4879 (1983).
32. G. K. Vinogradov, P. I. Verzorov, L. S. Polak, and K. I. Slovetsky, Vacuum 32, 592 (1982).
33. E. Fisher, M. E. Weber, and P. B. Armentrout, J. Chem. Phys. 76, 4932 (1982).
34. J. E. Velazco, J. H. Koltz, and D. W. Sester, J. Chem. Phys. 65, 3468 (1976).
35. K. Okada, O. Kajimoto, and T. Fueno, B. Chem. Soc. Jpn. 51, 443 (1978).
36. E. L. Keating and R. A. Matula, J. Chem. Phys. 66, 1237 (1977).
37. K. R. Ryan and J. C. Plumb, Plasma Chem. Plasma Process. 6, 231 (1986).