Ion drag effects in inductively coupled plasmas for etching

Applied Physics Letters

Volumn 68, Issue 7, 1996, Pages 903-905

  Collison, Wenli Z ^a   Kushner, Mark J ^a  

^a University of Illinois at Urbana Champaign   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0008256815     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.116225     Document Type: Article

References (17)

1. G. S. Selwyn, J. S. McKillop, K. L. Haller, and J. J. Wu, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 8, 1726 (1990).
2. J. E. Daughtery, R. K. Porteous, M. D. Kilgore, and D. B. Graves, J. Appl. Phys. AIP 72, 3934 (1992).
3. M. D. Kilgore, J. E. Daughtery, R. K. Porteous, and D. B. Graves, J. Appl. Phys. AIP 73, 7195 (1993).
4. S. J. Choi, P. L. G. Ventzek, R. J. Hoekstra, and M. J. Kushner, Plasma Sources Sci. Technol. INS 3, 418 (1994).
5. D. B. Graves, J. E. Daugherty, M. D. Kilgore, and R. K. Porteus, Plasma Sources Sci. Technol. INS 3, 433 (1994).
6. J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Technol. INS 1, 109 (1992).
7. J. H. Keller, J. C. Forster, and M. S. Barnes, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 11, 2487 (1993).
8. M. S. Barnes, J. C. Forster, and J. H. Keller, Appl. Phys. Lett. AIP 62, 2622 (1993).
9. R. Patrick, R. Schoenborn, and H. Toda, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 11, 1296 (1993).
10. J. B. Carter, J. P. Holland, E. Peltzer, B. Richardson, E. Bogle, H. T. Nguyen, Y. Melaku, D. Gates, and M. Ben-Dor, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 11, 1301 (1993).
11. P. L. G. Ventzek, M. J. Grapperhaus, and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 12, 3118 (1994).
12. R. J. Hoekstra and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. AIP 77, 3668 (1995).
13. M. Mitchner and C. H. Kruger, Partially Ionized Gases (Wiley, New York, 1973), Chap. 2.
14. H. W. Ellis, R. Y. Pai, and E. W. McDaniel, At. Data Nucl. Data Tables INS 17, 177 (1976).
15. R. E. Olson, J. R. Petterson, and J. Moseley, J. Chem. Phys. AIP 53, 3391 (1970).
16. J. A. O'Neill, M. S. Barnes, and J. H. Keller, J. Appl. Phys. AIP 73, 1621 (1993).
17. J. Zheng, R. P. Brinkman, and J. P. McVittie, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 13, 859 (1995).