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Volumn 85, Issue 3, 1999, Pages 1900-1906

Hydrogen plasma enhanced crystallization of hydrogenated amorphous silicon films

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EID: 0000592141     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.369182     Document Type: Article
Times cited : (73)

References (25)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.