Carbon nanotube-based electron gun for electron microscopy

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 19, Issue 4, 2001, Pages 1790-1795

  Leopold, John G ^a   Zik, Ory ^a   Cheifetz, Eli ^a,b,c   Rosenblatt, David ^d  

^a El Mul Technologies Ltd   (Israel)

^b WEIZMANN INSTITUTE OF SCIENCE   (Israel)

^c Rosenblatt Associates ^*

^d Rosenblatt Associates   (United States)

Author keywords

C

Indexed keywords

EID: 0000224642     PISSN: 07342101     EISSN: 15208559     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1345896     Document Type: Conference Paper

References (25)

1. T. H. P. Chang, M. G. R. Thomson, M. L. Yu, E. Kratschmer, H. S. Kim, K. Y. Lee, S. A. Rishton, and S. Zolgharnian, Microelectron. Eng. MIENEF 32, 113 (1996).MIENEF
2. E. Kratchmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 13, 2498 (1995).JVTBD9
3. E. Kratchmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 12, 3503 (1994).JVTBD9
4. T. Utsumi, IEEE Trans. Electron Devices IETDAI 38, 2276 (1991).IETDAI
5. J. M. Bonard, T. Stockli, F. Maier, W. A. de Heer, and A. Chatelain, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 81, 1441 (1998).PRLTAO
6. G. E. Vibrans, J. Appl. Phys. JAPIAU 35, 2855 (1964).JAPIAU
7. J.-M. Bonard, J.-P. Salvetat, T. Stöckli, L. Forró, and A. Châtelain, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. APAMFC 69, 245 (1998); APAMFC
8. J.-M. Bonard, F. Maier, T. Stöckli, A. Châtelain, W. De Heer, J.-P. Salvetat, and L. Forró, Ultramicroscopy ULTRD6 73, 9 (1998).ULTRD6
9. Y. Saito, K. Hamaguchi, R. Mizushima, S. Uemura, T. Nagasako, J. Yotani, and T. Shimojo, Appl. Surf. Sci. ASUSEE 146, 305 (1999).ASUSEE
10. A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolaev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Colbert, and R. E. Smalley, Science SCIEAS 269, 1550 (1995).SCIEAS
11. K. A. Dean and B. R. Chalamala, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 3832 (1999).JAPIAU
12. R. B. Marcus, K. K. Chin, Y. Y. Yuan, H. Wang, and W. N. Carr, IEEE Trans. Electron Devices IETDAI 37, 1545 (1990).IETDAI
13. C. J. Edgcombe, Inst. Phys. Conf. Ser. IPHSAC 161, 347 (1999); IPHSAC, C. J. Edgcombe and U. Valdre, Proceedings of EUREM 2000 (2000) (unpublished).
14. W. B. Herrmannsfeldt, R. Becker, I. Brodie, A. Rosengreen, and C. A. Spindt, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. A NIMAER 298, 39 (1990).NIMAER
15. C. M. Tang, T. A. Swyden, K. A. Thomason, I. N. Yadon, D. Temple, C. A. Ball, W. D. Palmer, J. E. Mancusi, D. Vellenga, and G. E. McGuire, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 14, 3455 (1996).JVTBD9
16. A. Modinos, Field, Thermionic and Secondary Electron Emission Spectroscopy (Plenum, New York, 1984).
17. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, and H. Dai, Science SCIEAS 283, 512 (1999).SCIEAS
18. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, and P. N. Provencio, Science SCIEAS 282, 1105 (1998).SCIEAS
19. R. Prohaska and A. Fisher, Rev. Sci. Instrum. RSINAK 53, 1092 (1982); RSINAK
20. G. Bekefi, R. E. Shefer, and S. C. Tasker, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. A NIMAER 250, 91 (1986).NIMAER
21. S. Humphries, Jr., Field Solutions on Computers (CRC, Boca Raton, FL, 1998).
22. Z. F. Ren, Z. P. Huang, D. Z. Wang, J. G. Wen, L. E. Calvet, J. Chen, J. F. Klemic, and M. A. Reed, Appl. Phys. Lett. APPLAB 75, 1086 (1999).APPLAB
23. Y. Shi and X. Wang, IEEE Trans. Electron Devices IETDAI 46, 362 (1999).IETDAI
24. I. Brodie and C. A. Spindt, Adv. Electron. Electron Phys. AEEPAR 83, 1 (1992).AEEPAR
25. T. H. P. Chang, D. P. Kern, and L. P. Muray, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 8, 1698 (1990).JVTBD9