Turbostratic boron carbonitride films produced by bias-assisted hot filament chemical vapor deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 8, 2000, Pages 4022-4025

  Yu, J ^a,b   Wang, E G ^b   Ahn, J ^a   Yoon, S F ^a   Zhang, Q ^a   Cui, J ^a   Yu, M B ^a  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000043251     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.372456     Document Type: Article

References (28)

1. A. Y. Liu, R. M. Wentzcovitch, and M. L. Cohen, Phys. Rev. B 39, 1760 (1989).
2. M. O. Watanabe, T. Sasaki, S. Itoh, and K. Mizushima, Thin Solid Films 281-282, 334 (1996).
3. M. O. Watanabe, S. Itoh, T. Sasaki, and K. Mizushima, Phys. Rev. Lett. 77, 187 (1996).
4. J. Yu and E. G. Wang, Appl. Phys. Lett. 74, 2948 (1999).
5. A. R. Badzian, Mater. Res. Bull. 16, 1385 (1981).
6. E. Knittle, R. B. Kanner, R. Jeanloz, and M. L. Cohen, Phys. Rev. B 51, 2149 (1995).
7. A. R. Badzian, T. Niemyski, S. Appenheimer, and E. Olkusnik, Proceedings of the 3rd International Conference on Chemical Vapor Deposition, edited by F. A. Glaski (American Nuclear Society, Hinsdale, IL. 1972), Vol. 3, p. 747.
8. R. B. Kaner, J. Kouvetakis, C. E. Warble, M. L. Sattler, and N. Bartlett, Mater. Res. Bull. 22, 399 (1987).
9. B. Yao, W. J. Chen, L. Liu, B. Z. Ding, and W. H. Su, J. Appl. Phys. 84, 1412 (1998).
10. J. Kouvetakis, T. Sasaki, C. Shen, R. Hagiwara, M. Lerner, K. M. Krishnan, and N. Bartlett, Synth. Met. 34, 1 (1989).
11. L. Maya, J. Am. Ceram. Soc. 71, 1104 (1988).
12. M. Kawaguchi and T. Kawashima, J. Chem. Soc: Chem. Commun., p. 1133 (1993).
13. J. Bill and R. Riedel, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 271, 839 (1992).
14. M. Kawaguchi, T. Kawashima, and T. Nakajima, Denki Kagaku 61, 1403 (1993).
15. Y. Bando, S. Nakano, and K. Kurshima, J. Electron Microsc. 45, 135 (1996).
16. Z. Weng-Sieh, K. Cherrey, N. G. Chopra, S. Blase, Y. Miyamoto, A. Rubio, M. L. Cohen, S. G. Louie, A. Zettle, and R. Gronsky, Phys. Rev. B 51, 11229 (1995).
17. B. M. Way, J. R. Dahn, T. Tiedje, K. Myrtle, and M. Kasrai, Phys. Rev. B 46, 1697 (1992).
18. A. W. Moore, S. L. Strong, G. I. Doll, M. S. Dresselhaus, I. L. Spain, C. W. Bowers, J. P. Issi, and L, Piraux, J. Appl. Phys. 65, 5109 (1989).
19. L. Filipozzi, A. Derre, J. Conard, L. Piraux, and A. Marchand, Carbon 33, 1747 (1995).
20. T. Takahashi, H. Itoh, and A. Takeuchi, J. Cryst. Growth 47, 245 (1979).
21. F. Tuninstra and J. L. Koenig, J. Chem. Phys. 53, 1126 (1970).
22. T. Hagio, M. Nakamizo, and K. Kobayashi, Carbon 27, 259 (1989).
23. M. P. Johansson, I. Ivanov, L. Hultman, E. P. Munger, and A. Schtze, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3100 (1996).
24. E. H. A. Dekempeneer, J. Meneve, S. Kuypers, and J. Smeets, Surf. Coat. Technol. 74, 75, 399 (1995).
25. Y. F. Lu, Z. M. Ren, W. D. Song, D. S. H. Chan, T. S. Low, K. Gamani, G. Chen, and K. Li, J. Appl. Phys. 84, 2909 (1998).
26. P. Gonzalez, R. Soto, E. G. Parada, X. Redondas, S. Chiussi, J. Serra, J. Pou, B. Leon, and M. Perez-Amor, Appl. Surf. Sci. 109/110, 380 (1997).
27. J. Kastner, T. Pichler, H. Kuzmany, S. Curran, W. Blau, D. N. Weldon, M. Delamesiere, S. Draper, and H. Zandbergen, Chem. Phys. Lett. 221, 53 (1994).
28. J. Yu, E. G. Wang, and G. C. Xu, J. Mater. Res. 14, 1137 (1999).