Tungsten oxide thin films grown by thermal evaporation with high resistance to leaching

Journal of the Brazilian Chemical Society

Volumn 25, Issue 5, 2014, Pages 822-830

  Corrêa, Diogo S ^a   Pazinato, Julia C O ^b   De Freitas, Maurício A ^b   Dorneles, Lucio S ^c   Radtke, Claudio ^b   Garcia, Irene T S ^b  

^a FEDERAL UNIVERSITY OF PELOTAS   (Brazil)

^b FEDERAL UNIVERSITY OF RIO GRANDE DO SUL   (Brazil)

^c FEDERAL UNIVERSITY OF SANTA MARIA   (Brazil)

Author keywords

Leaching resistance; Photocatalysis; Thermal evaporation; Tungsten oxide

Indexed keywords

EID: 84902342660     PISSN: 01035053     EISSN: 16784790     Source Type: Journal    
DOI: 10.5935/0103-5053.20140041     Document Type: Article

References (43)

1. Liao, C. H.; Huang, C. W.; Wu, J. C. S.; Catalysts 2012, 2, 490.
2. Miyauchi, M.; Nakajima, A.; Watanabe, T.; Hashimoto, K.; Chem. Mater. 2002, 14, 2812.
3. Lambert-Mauriat, C.; Oison, V.; Saadi, L.; Aguir, K.; Surf. Sci. 2012, 606, 40.
4. Hong, S. J.; Jun, H.; Borse, P. H.; Lee, J. S.; Int. J. Hydrogen. Energy 2009, 34, 3234.
5. Peng, T.; Ke, D.; Xiao, J.; Wang, L.; Hu, J.; Zan, L.; J. Solid State Chem. 2012, 194, 250.
6. Szilágyi, I. M.; Fórizs, B.; Rosseler, O.; Szegedi, Á.; Németh, P.; Király, P.; Tárkányi, G.; Vajna, B.; Varga-Josepovits, K.; László, K.; Tóth, A. L.; Baranyai, P.; Leskelä, M.; J. Catal. 2012, 294, 119.
7. Martinez-de la Cruz, A.; Martinez, D. S.; Cuellar, E. L.; Solid State Sci. 2010, 12, 88.
8. Fraga, L. E.; Zanoni, M. V. B.; J. Braz. Chem. Soc. 2011, 22, 718.
9. Houweling, Z. S.; Geus, J. W.; de Jong, M.; Harks, P. P. R. M. L.; van der Werf, K. H. M.; Schropp, R. E. I.; Mater. Chem. Phys. 2011, 131, 375.
10. Van Hieu, N.; Van Vuong, H.; Van Duy, N.; Hoa, N. D.; Sens. Actuators, B 2012, 171, 760.
11. Park, S.; Kim, H.; Jin, C.; Choi, S. W.; Kim, S. S.; Lee, C.; Thermochim. Acta 2012, 542, 69.
12. Vidyarthi, V. S.; Hofmann, M.; Sayan, A.; Sliozberg, K.; Konig, D.; Beranek, R.; Schuhmann, W.; Ludwig, A.; Int. J. Hydrogen. Energy 2011, 36, 4724.
13. Yang, L.; Ge, D.; Zhao, J.; Ding, Y.; Kong, X.; Li, Y.; Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2012, 100, 251.
14. de los Arcos, T.; Cwik, S.; Milanov, A. P.; Gwildies, V.; Parala, H.; Wagner, T.; Birkner, A.; Rogalla, D.; Becker, H. W.; Winter, J.; Ludwig, A.; Fischer, R. A.; Devi, A.; Thin Solid Films 2011, 522, 11.
15. Ponzoni, A.; Comini, E.; Ferroni, M.; Sberveglieri, G.; Thin Solid Films 2005, 490, 81.
16. Schmitz, J. E. J.; Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications, 1st ed.; William Andrew: New York, US, 1992.
17. Wong, H. Y.; Ong, C. W.; Kwok, R. W. M.; Wong, K. W.; Wong, S. P.; Cheung, W. Y.; Thin Solid Films 2000, 376, 131.
18. Leftheriotis, G.; Papaefthimiou, S.; Yianoulis, P.; Siokou, A.; Thin Solid Films 2001, 384, 298.
19. Sucasaire, W.; Matsuoka, M.; Lopes, K. C.; Mittani, J. C. R.; Avanci, L. H.; Chubaci, J. F. D.; Added, N.; Trava, V.; Corat, E. J.; J. Braz. Chem. Soc. 2006, 17, 1163.
20. Wasa, K.; Kitabatake, M.; Adachi, H.; Sputtering of Compound Materials, 1st ed.; William Andrew: New York, 2004. p 531.
21. Kim, H.; Senthil, K.; Yong, K.; Mater. Chem. Phys. 2010, 120, 452.
22. Boulova, M.; Lucazeau, G.; J. Solid State Chem. 2002, 167, 425.
23. Aird, A.; Domeneghetti, M. C.; Mazzi, F.; Tazzoli, V.; Salje, E. K. H.; J. Phys.: Condens. Matter 1998, 10, L569.
24. Liu, W. C.; Cai, W.; Meng, X. L.; Trans. Nonferrous Met. Soc. China 2006, 16, s337.
25. Al-Kuhaili, M. F.; Al-Aswad, A. H.; Durrani, S. M. A.; Bakhtiari, I. A.; Sol. Energy 2012, 86, 3183.
26. Al-Kuhaili, M. F.; Al-Aswad, A. H.; Durrani, S. M. A.; Bakhtiari, I. A.; Sol. Energy 2009, 83, 1571.
27. Meda, L.; Dangerfield, A. M.; Jones, M. C.; White, C. M.; Navulla, A.; Jpn. J. Appl. Phys. 2012, 51, 11PE06 .
28. Vourdas, N.; Papadimitropoulos, G.; Kostis, I.; Vasilopoulou, M.; Davazoglou, D.; Thin Solid Films 2012, 520, 3614.
29. Park, N.-K.; Lee, Y. J.; Yoon, S. H.; Han, G. B.; Ryu, S. O.; Lee, T. J.; Lee, W. G.; Bae, Y. J.; Scr. Mater. 2008, 59, 328.
30. Luo, J. Y.; Zeng, Q. G.; Long, Y. B.; Wang, Y.; J. Nanosci. Nanotechnol. 2013, 13, 1372.
31. Senthilkumar, R.; Ravi, G.; Sanjeeviraja, C.; Arivanandan, M.; Hayakawa, Y. In Solid State Physics, vol. 1512.
32. Chauhan, A. K.; Murli, C.; Gadkari, S. C., eds.; American Institute of Physics: Melville, 2013.
33. Nunes, M. R.; Perez, G. M.; Loguercio, L. F.; Alves, E. W.; Carreno, N. L. V.; Martins, J. L.; Garcia, I. T. S.; J. Braz. Chem. Soc. 2011, 22, 2027.
34. Zhang, L.; Cao, X.-F.; Chen, X. T.; Xue, Z. L.; J. Colloid Interface Sci. 2011, 354, 630.
35. Taffarel, S. R.; Lansarin, M. A.; Moro, C. C.; J. Braz. Chem. Soc. 2011, 22, 1872.
36. Szilágyi, I.; Sajó, I.; Király, P.; Tárkányi, G.; Tóth, A.; Szabó, A.; Varga-Josepovits, K.; Madarász, J.; Pokol, G.; J. Therm. Anal. Calorim. 2009, 98, 707.
37. Huang, C. C.; Huang, C. H.; Kuo, I. T.; Chau, L. K.; Yang, T. S.; Colloids Surf., A 2012, 409, 61.
38. Ramana, C. V.; Utsunomiya, S.; Ewing, R. C.; Julien, C. M.; Becker, U.; J. Phys. Chem. B 2006, 110, 10430.
39. Lee, S.-H.; Cheong, H. M.; Liu, P.; Smith, D.; Tracy, C. E.; Mascarenhas, A.; Roland Pitts, J.; Deb, S. K.; Electrochim. Acta 2001, 46, 1995.
40. Daniel, M. F.; Desbat, B.; Lassegues, J. C.; Gerand, B.; Figlarz, M.; J. Solid State Chem. 1987, 67, 235.
41. Santato, C.; Odziemkowski, M.; Ulmann, M.; Augustynski, J.; J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 10639.
42. Chen, H. C.; Jan, D. J.; Chen, C. H.; Huang, K. T.; Electrochim. Acta 2013, 93, 307.
43. Szilagyi, I. M. S.; Madarasz, J. N.; Pokol, G. R.; Kiraly, P. T.; Tarkanyi, G. B.; Saukko, S.; Mizsei, J. N.; Toth, A. L.; Szabo, A. S.; Varga-Josepovits, K.; Chem. Mater. 2008, 20, 4116.