Synthesis, characterization, electronic and gas-sensing properties towards H 2 and CO of transparent, large-area, low-layer graphene

Chemistry - A European Journal

Volumn 18, Issue 47, 2012, Pages 14996-15003

  Kayhan, Emine ^a   Prasad, Ravi Mohan ^a   Gurlo, Alexander ^a   Yilmazoglu, Oktay ^a   Engstler, Jörg ^a   Ionescu, Emanuel ^a   Yoon, Songhak ^b   Weidenkaff, Anke ^b   Schneider, Jörg J ^a  

^a DARMSTADT UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

^b SWISS FEDERAL LABORATORIES FOR MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Switzerland)

Author keywords

chemical vapor deposition; electrical properties; graphene; Raman spectroscopy; sensors

Indexed keywords

ELECTRICAL STUDIES; GAS SENSING PROPERTIES; GRAPHENE LAYERS; LINEAR CURRENTS; MICRO-RAMAN ANALYSIS; OUTPUT CHARACTERISTICS; SENSOR RESPONSE; SILICON SUBSTRATES; SPECIFIC CONTACT RESISTANCES;

CATALYSTS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CONTACT RESISTANCE; ELECTRIC PROPERTIES; GRAIN BOUNDARIES; RAMAN SPECTROSCOPY; SENSORS; VAPORS;

GRAPHENE;

EID: 84869099383     PISSN: 09476539     EISSN: 15213765     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/chem.201201880     Document Type: Article

References (48)

1. A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183-191.
2. C. Lee, X. Wei, J. W. Kysar, J. Hone, Science 2008, 321, 385-388.
3. D. C. Elias, R. R. Nair, T. M. G. Mohiuddin, S. V. Morozov, P. Blake, M. P. Halsall, A. C. Ferrari, D. W. Boukhvalov, M. I. Katsnelson, A. K. Geim, K. S. Novoselov, Science 2009, 323, 610-613.
4. I. Jung, D. A. Dikin, R. D. Piner, R. S. Ruoff, Nano Lett. 2008, 8, 4283-4287.
5. A. Peigney, C. Laurent, E. Flahaut, R. R. Bacsa, A. Rousset, Carbon 2001, 39, 507-514.
6. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666-669.
7. Y. Xu, Z. Liu, X. Zhang, Y. Wang, J. Tian, Y. Huang, Y. Ma, X. Zhang, Y. Chen, Adv. Mater. 2009, 21, 1275-1279.
8. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J.-H. Ahn, P. Kim, J.-Y. Choi, B. H. Hong, Nature 2009, 457, 706-710.
9. C. Berger, Z. Song, X. Li, X. Wu, N. Brown, C. Naud, D. Mayou, T. Li, J. Hass, A. N. Marchenkov, E. H. Conrad, P. N. First, W. A. de Heer, Science 2006, 312, 1191-1196.
10. J. Coraux, A. T. N'Diaye, C. Busse, T. Michely, Nano Lett. 2008, 8, 565-570.
11. P. W. Sutter, J.-I. Flege, E. A. Sutter, Nat. Mater. 2008, 7, 406-411.
12. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, R. S. Ruoff, Science 2009, 324, 1312-1314.
13. M. Gautam, A. H. Jayatissa, Mater. Sci. Eng. C 2011, 31, 1405-1411.
14. R. K. Joshi, H. Gomez, F. Alvi, A. Kumar, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 6610-6613.
15. F. Schedin, A. K. Geim, S. V. Morozov, E. W. Hill, P. Blake, M. I. Katsnelson, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 652-655.
16. K. S. Subrahmanyam, S. R. C. Vivekchand, A. Govindaraj, C. N. R. Rao, J. Mater. Chem. 2008, 18, 1517-1523.
17. R. Arsat, M. Breedon, M. Shafiei, P. G. Spizziri, S. Gilje, R. B. Kaner, K. Kalantar-zadeh, W. Wlodarski, Chem. Phys. Lett. 2009, 467, 344-347.
18. L.-S. Zhang, W. D. Wang, X.-Q. Liang, W.-S. Chu, W.-G. Song, W. Wang, Z.-Y. Wu, Nanoscale 2011, 3, 2458-2460.
19. A. Kaniyoor, R. I. Jafri, T. Arockiadoss, S. Ramaprabhu, Nanoscale 2009, 1, 382-386.
20. W. Wu, Z. Liu, L. A. Jauregui, Q. Yu, R. Pillai, H. Cao, J. Bao, Y. P. Chen, S.-S. Pei, Sensors and Actuators B: Chemical 2010, 150, 296-300.
21. G. Singh, A. Choudhary, D. Haranath, A. G. Joshi, N. Singh, S. Singh, R. Pasricha, Carbon 2012, 50, 385-394.
22. S. J. Chae, F. GüneÅ, K. K. Kim, E. S. Kim, G. H. Han, S. M. Kim, H.-J. Shin, S.-M. Yoon, J.-Y. Choi, M. H. Park, C. W. Yang, D. Pribat, Y. H. Lee, Adv. Mater. 2009, 21, 2328-2333.
23. W. Eck, A. Küller, M. Grunze, B. Völkel, A. Gölzhäuser, Adv. Mater. 2005, 17, 2583-2587.
24. X. Wang, H. You, F. Liu, M. Li, L. Wan, S. Li, Q. Li, Y. Xu, R. Tian, Z. Yu, D. Xiang, J. Cheng, Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 53-56.
25. C. H. See, A. T. Harris, Ind. Eng. Chem. Res. 2007, 46, 997-1012.
26. Z. Ni, Y. Wang, T. Yu, Z. Shen, Nano Res. 2008, 1, 273-291.
27. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, A. K. Geim, Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 187401.
28. L. G. Cançado, A. Reina, J. Kong, M. S. Dresselhaus, Phys. Rev. B 2008, 77, 245408.
29. L. M. Malard, M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, Phys. Rep. 2009, 473, 51-87.
30. Y. Y. Wang, Z. H. Ni, Z. X. Shen, H. M. Wang, Y. H. Wu, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 043121.
31. J. S. Bunch, A. M. van der Zande, S. S. Verbridge, I. W. Frank, D. M. Tanenbaum, J. M. Parpia, H. G. Craighead, P. L. McEuen, Science 2007, 315, 490-493.
32. C. Thomsen, S. Reich, Phys. Rev. Lett. 2000, 85, 5214-5217.
33. M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, L. G. Cancado, A. Jorio, R. Saito, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 1276-1290.
34. S. Kumar, N. McEvoy, T. Lutz, G. P. Keeley, V. Nicolosi, C. P. Murray, W. J. Blau, G. S. Duesberg, Chem. Commun. 2010, 46, 1422-1424.
35. A. Reina, X. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. Son, V. BuloviÄ, M. S. Dresselhaus, J. Kong, Nano Lett. 2008, 8, 30-35.
36. H. Mousavi, Commun. Theor. Phys. 2011, 56, 373.
37. H. Chang, J. D. Lee, S. M. Lee, Y. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 3863-3865.
38. J. Zhao, A. Buldum, J. Han, J. P. Lu, Nanotechnology 2002, 13, 195.
39. R. K. Joshi, J. E. Weber, Q. Hu, B. Johnson, J. W. Zimmer, A. Kumar, Sensors and Actuators B: Chemical 2010, 145, 527-532.
40. O. Leenaerts, B. Partoens, F. M. Peeters, Phys. Rev. B 2008, 77, 125416.
41. Y.-H. Zhang, Y.-B. Chen, K.-G. Zhou, C.-H. Liu, J. Zeng, H.-L. Zhang, Y. Peng, Nanotechnology 2009, 20, 185504.
42. Y. Zou, F. Li, Z. Zhu, M. Zhao, X. Xu, X. Su, Eur. Phys. J. B: Condensed Matter and Complex Systems 2011, 81, 475-479.
43. A. Z. Sadek, C. Zhang, Z. Hu, J. G. Partridge, D. G. McCulloch, W. Wlodarski, K. Kalantar-Zadeh, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 238-242.
44. J. S. Arellano, L. M. Molina, A. Rubio, J. A. Alonso, J. Chem. Phys. 2000, 112, 8114-8119.
45. Y. Okamoto, Y. Miyamoto, J. Phys. Chem. B 2001, 105, 3470-3474.
46. G. Ko, H. Y. Kim, J. Ahn, Y. M. Park, K. Y. Lee, J. Kim, Curr. Appl. Phys. 2010, 10, 1002-1004.
47. J. Khanderi, R. C. Hoffmann, A. Gurlo, J. J. Schneider, J. Mater. Chem. 2009, 19, 5039-5046.
48. T. Sahm, A. Gurlo, N. Barsan, U. Weimar, Partic. Sci. and Technol. 2006, 24, 441-452.