Hydrogen generation for 500 hours by photoelectrolysis of water using GaN

Materials Research Society Symposium Proceedings

Volumn 1446, Issue , 2012, Pages 1-5

  Ohara, W ^a   Uchida, D ^a   Hayashi, T ^a   Deura, M ^a   Ohkawa, K ^a  

^a TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL ENERGY; COCATALYST; FARADIC EFFICIENCY; HYDROGEN GAS; HYDROGEN GENERATIONS; INCIDENT LIGHT; INCIDENT PHOTON-TO-CURRENT CONVERSION EFFICIENCIES; PHOTOELECTROLYSIS;

CONVERSION EFFICIENCY; HYDROGEN; HYDROGEN PRODUCTION; PHOTOCATALYSTS;

GALLIUM NITRIDE;

EID: 84867596710     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1557/opl.2012.1249     Document Type: Conference Paper

References (22)

1. A. Fujishima and K. Honda, Nature 238, 37 (1972).
2. D. Jing, L. Guo, L. Zhao, X. Zhang, H. Liu, M. Li, S. Shen, G. Liu, X. Hu, X. Zhang, K. Zhang, L. Ma, P. Guo, Int. J. Hydrogen Energy 35, 7087 (2010).
3. B.Kraeutler and A. J. Bard, J. Am. Cham. Soc. 100, 4317 (1978).
4. R. Memming, Semiconductor Electrochemistry, WILEY-VCH, p. 105 (2001).
5. S. S. Kocha, M. W. Peterson, D. J. Arent, J. M. Redwing, M. A. Tischler, J. A. Turner, J. Electrochem. Soc. 142, L236 (1995).
6. M. Ono, K. Fujii, T. Ito, Y. Iwaki, T. Yao, K. Ohkawa, J. Chem. Phys. 126, 054708 (2007).
7. K. Fujii and K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L909 (2005).
8. K. Fujii, K. Kusakabe, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 44, 7433 (2005).
9. K. Fujii and K. Ohkawa, J. Electrochem. Soc. 153, A468 (2006).
10. K. Fujii and K. Ohkawa, Phys. Status Soldi C 3, 2270 (2006).
11. K. Fujii, M. Ono, T. Ito, K. Ohkawa, Mater. Res. Soc. Sym. Proc. 0885-A11-04.1 (2006).
12. K. Fujii, T. Ito, M. Ono, Y. Iwaki, T. Yao, K. Ohkawa, Phys. Status Solidi C 4,2650 (2007).
13. K. Fujii, Y. Iwaki, H. Masui, T. J. Baker, M. Iza, H. Sato, J. Reading, T. Yao, J. S. Speck, S. P. DenBaars, S. Nakamura, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 46, 6573 (2007).
14. K. Fujii, T. Karasawa, K. Ohkawa, Jpn. J. Appl. Phys. 44, 543 (2005).
15. F. Sano, T. Koyama, M. Sorimachi, A. Hirako, K. Ohkawa, The 8th Int'l Conf. on Nitride Semiconductors, p. 18 (2009).
16. K. Ito, S. Ikeda, M. Yoshida, S. Ohta, and T. Iida, Bull. Chem. Soc. Jpn. 57, 583 (1984).
17. M. Hara, T. Kondo, M. Komoda, S. Ikeda, K. Shinohara, A. Tanaka, J. N. Kondo, K. Domen, Chem. Commun. 10, 1039 (1998).
18. H. Kato, K. Asakura, A. Kudo, J. Am. Chem. Soc. 125, 3082 (2003).
19. H. Kato and A. Kudo, J. Phys. Chem. B 105, 4285 (2001).
20. K. Sayama and H.Arakawa, Catal. Today 28, 175 (1997).
21. Y. G. Ko and W. Y. Lee, Catal. Lett. 83, 157 (2002).
22. K. Maeda, K. Teramura, K. Domen, J. Catal. 254, 198 (2008).