Tunable electroluminescence from polymer-passivated 3C-SiC quantum dot thin films

Applied Physics Letters

Volumn 101, Issue 12, 2012, Pages

  Xiao, B ^a   Wu, X L ^a   Xu, W ^a   Chu, Paul K ^b  

^a NANJING UNIVERSITY   (China)

^b CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

APPLIED VOLTAGES; BLUESHIFTS; CARRIER RECOMBINATION; EASY FABRICATION; ELECTROLUMINESCENCE SPECTRA; ENVIRONMENTAL FRIENDLINESS; NON-TOXICITY; QUANTUM DOT THIN FILMS; ROOM-TEMPERATURE PHOTOLUMINESCENCE; VOLTAGE-TUNABLE; WAVELENGTH RANGES;

PASSIVATION; POLYMERS; SILICON CARBIDE; THIN FILMS;

ELECTROLUMINESCENCE;

EID: 84866870824     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4753995     Document Type: Article

References (37)

1. H. C. Leventis, S. P. King, A. Sudlow, M. S. Hill, K. C. Molloy, and S. A. Haque, Nano Lett. 10, 1253 (2010). 10.1021/nl903787j
2. F. Li, D. I. Son, S. H. Cho, W. T. Kim, and T. W. Kim, Nanotechnology 20, 155202 (2009). 10.1088/0957-4484/20/15/155202
3. I. Gur, N. A. Fromer, M. L. Geier, and A. P. Alivisatos, Science 310, 462 (2005). 10.1126/science.1117908
4. J. Y. Ouyang, C. W. Chu, C. R. Szmanda, L. P. Ma, and Y. Yang, Nature Mater. 3, 918 (2004). 10.1038/nmat1269
5. J. H. Jung, J. Y. Jin, I. Lee, T. W. Kim, H. G. Roh, and Y. H. Kim, Appl. Phys. Lett. 88, 112107 (2006). 10.1063/1.2185615
6. D. Y. Yun, J. M. Son, T. W. Kim, S. W. Kim, and S. W. Kim, Appl. Phys. Lett. 98, 243306 (2011). 10.1063/1.3596705
7. S. A. McDonald, G. Konstantatos, S. G. Zhang, P. W. Cyr, E. J. D. Klem, L. Levina, and E. H. Sargent, Nature Mater. 4, 138 (2005). 10.1038/nmat1299
8. Q. J. Sun, Y. A. Wang, L. S. Li, D. Y. Wang, T. Zhu, J. Xu, C. H. Yang, and Y. F. Li, Nat. Photonics 1, 717 (2007). 10.1038/nphoton.2007.226
9. A. Rizzo, M. Mazzeo, M. Biasiucci, R. Cingolani, and G. Gigli, Small 4, 2143 (2008). 10.1002/smll.200800350
10. P. O. Anikeeva, J. E. Halpert, M. G. Bawendi, and V. Bulovic, Nano Lett. 9, 2532 (2009). 10.1021/nl9002969
11. W. K. Bae, J. Kwak, J. W. Park, K. Char, C. Lee, and S. Lee, Adv. Mater. 21, 1690 (2009). 10.1002/adma.200801908
12. G. Cheng, M. Mazzeo, S. Carallo, H. P. Wang, Y. G. Ma, and G. Gigli, Appl. Phys. Lett. 97, 103107 (2010). 10.1063/1.3484145
13. F. S. Li, T. L. Guo, and T. W. Kim, Appl. Phys. Lett. 97, 062104 (2010). 10.1063/1.3479528
14. A. K. Rath, S. Bhaumik, and A. J. Pal, Appl. Phys. Lett. 97, 113502 (2010). 10.1063/1.3489099
15. Y. Q. Zhang and X. A. Cao, Appl. Phys. Lett. 97, 253115 (2010). 10.1063/1.3530450
16. E. M. Likovich, R. Jaramillo, K. J. Russell, S. Ramanathan, and V. Narayanamurti, Adv. Mater. 23, 4521 (2011). 10.1002/adma.201101782
17. L. Qian, Y. Zheng, J. G. Xue, and P. H. Holloway, Nat. Photonics 5, 543 (2011). 10.1038/nphoton.2011.171
18. Z. N. Tan, Y. Zhang, C. Xie, H. P. Su, J. Liu, C. F. Zhang, N. Dellas, S. E. Mohney, Y. Q. Wang, J. K. Wang, and J. Xu, Adv. Mater. 23, 3553 (2011). 10.1002/adma.201100719
19. R. W. Xuan, J. P. Xu, X. S. Zhang, P. Li, C. Y. Luo, Y. Y. Wu, and L. Li, Appl. Phys. Lett. 98, 041907 (2011). 10.1063/1.3544570
20. C. C. Tu, L. Tang, J. D. Huang, A. Voutsas, and L. Y. Lin, Appl. Phys. Lett. 98, 213102 (2011). 10.1063/1.3593382
21. X. L. Wu, J. Y. Fan, T. Qiu, X. Yang, G. G. Siu, and P. K. Chu, Phys. Rev. Lett. 94, 026102 (2005). 10.1103/PhysRevLett.94.026102
22. J. Y. Fan, X. L. Wu, H. X. Li, H. W. Liu, G. G. Siu, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 88, 041909 (2006). 10.1063/1.2168018
23. J. Y. Fan, H. X. Li, J. Iiang, L. K. Y. So, Y. W. Lam, and P. K. Chu, Small 4, 1058 (2008). 10.1002/smll.200800080
24. J. Wang, S. J. Xiong, X. L. Wu, T. H. Li, and P. K. Chu, Nano Lett. 10, 1466 (2010). 10.1021/nl100407d
25. J. Zhu, Z. Liu, X. L. Wu, L. L. Xu, W. C. Zhang, and P. K. Chu, Nanotechnology 18, 365603 (2007). 10.1088/0957-4484/18/36/365603
26. X. L. Wu, S. J. Xiong, J. Zhu, J. Wang, J. C. Shen, and P. K. Chu, Nano Lett. 9, 4053 (2009). 10.1021/nl902226u
27. C. Y. He, X. L. Wu, J. C. Shen, and P. K. Chu, Nano Lett. 12, 1545 (2012). 10.1021/nl3006947
28. Y. He, Z. H. Kang, Q. S. Li, C. H. A. Tsang, C. H. Fan, and S. T. Lee, Angew. Chem Int. Ed. 48, 128 (2008). 10.1002/anie.200802230
29. S. Sato and M. T. Swihart, Chem. Mater. 18, 4083 (2006). 10.1021/cm060750t
30. M. Rosso-Vasic, E. Spruijt, B. van Lagen, L. De Cola, and H. Zuilhof, Small 4, 1835 (2008). 10.1002/smll.200800066
31. K. H. Lee, S. K. Lee, and K. S. Jeon, Appl. Surf. Sci. 255, 4414 (2009). 10.1016/j.apsusc.2008.11.047
32. M. Rosso, M. Giesbers, A. Arafat, K. Schroen, and H. Zuilhof, Langmuir 25, 2172 (2009). 10.1021/la803094y
33. M. Rosso, A. Arafat, K. Schroen, M. Giesbers, C. S. Roper, R. Maboudian, and H. Zuilhof, Langmuir 24, 4007 (2008). 10.1021/la704002y
34. S. Kundu, Y. M. Wang, W. Xia, and M. Muhler, J. Phys. Chem. C 112, 16869 (2008). 10.1021/jp804413a
35. J. D. Holmes, K. J. Ziegler, R. C. Doty, L. E. Pell, K. P. Johnston, and B. A. Korgel, J. Am. Chem. Soc. 123, 3743 (2001). 10.1021/ja002956f
36. R. Huang, H. Dong, D. Wang, K. Chen, X. Wang, J. Xu, and Z. Ma, Appl. Phys. Lett. 92, 181106 (2008). 10.1063/1.2920819
37. J. Warga, R. Li, S. N. Basu, and L. Dal Negro, Appl. Phys. Lett. 93, 151116 (2008). 10.1063/1.3003867