-
6
-
-
70350663024
-
-
C. W. Cheng B. Liu H. Y. Yang W. W. Zhou Sun Li R. Chen S. F. Yu J. X. Zhang H. Gong H. D. Sun H. J. Fan ACS Nano 2009 3 3069 3076
-
(2009)
ACS Nano
, vol.3
, pp. 3069-3076
-
-
Cheng, C.W.1
Liu, B.2
Yang, H.Y.3
Zhou, W.W.4
Li, S.5
Chen, R.6
Yu, S.F.7
Zhang, J.X.8
Gong, H.9
Sun, H.D.10
Fan, H.J.11
-
8
-
-
45749125396
-
-
Y. Yang D. S. Kim M. Knez R. Scholz A. Berger E. Pippel D. Hesse U. Gosele M. Zacharias J. Phys. Chem. C 2008 112 4068 4074
-
(2008)
J. Phys. Chem. C
, vol.112
, pp. 4068-4074
-
-
Yang, Y.1
Kim, D.S.2
Knez, M.3
Scholz, R.4
Berger, A.5
Pippel, E.6
Hesse, D.7
Gosele, U.8
Zacharias, M.9
-
14
-
-
70249144677
-
-
M. Willander O. Nur Q. X. Zhao L. L. Yang M. Lorenz B. Q. Cao J. Z. Perez C. Czekalla G. Zimmermann M. Grundmann A. Bakin A. Behrends M. Al-Suleiman A. El-Shaer A. C. Mofor B. Postels A. Waag N. Boukos A. Travlos H. S. Kwack J. Guinard D. L. Dang Nanotechnology 2009 20 332001
-
(2009)
Nanotechnology
, vol.20
, pp. 332001
-
-
Willander, M.1
Nur, O.2
Zhao, Q.X.3
Yang, L.L.4
Lorenz, M.5
Cao, B.Q.6
Perez, J.Z.7
Czekalla, C.8
Zimmermann, G.9
Grundmann, M.10
Bakin, A.11
Behrends, A.12
Al-Suleiman, M.13
El-Shaer, A.14
Mofor, A.C.15
Postels, B.16
Waag, A.17
Boukos, N.18
Travlos, A.19
Kwack, H.S.20
Guinard, J.21
Dang, D.L.22
more..
-
20
-
-
42349112821
-
-
L. X. Sun Z. H. Chen Q. J. Ren K. Yu L. H. Bai W. H. Zhou H. Xiong Z. Q. Zhu X. C. Shen Phys. Rev. Lett. 2008 100 156403
-
(2008)
Phys. Rev. Lett.
, vol.100
, pp. 156403
-
-
Sun, L.X.1
Chen, Z.H.2
Ren, Q.J.3
Yu, K.4
Bai, L.H.5
Zhou, W.H.6
Xiong, H.7
Zhu, Z.Q.8
Shen, X.C.9
-
25
-
-
71949103670
-
-
J. Z. Liu Q. M. Ngo K. H. Park S. Kim Y. H. Ahn J. Y. Park K. H. Koh S. Lee Appl. Phys. Lett. 2009 95 221105 221107
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 221105-221107
-
-
Liu, J.Z.1
Ngo, Q.M.2
Park, K.H.3
Kim, S.4
Ahn, Y.H.5
Park, J.Y.6
Koh, K.H.7
Lee, S.8
-
44
-
-
0242657882
-
-
Y. L. Liu Y. C. Liu H. Yang W. B. Wang J. G. Ma J. Y. Zhang Y. M. Lu D. Z. Shen X. W. Fan J. Phys. D: Appl. Phys. 2003 36 2705 2708
-
(2003)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.36
, pp. 2705-2708
-
-
Liu, Y.L.1
Liu, Y.C.2
Yang, H.3
Wang, W.B.4
Ma, J.G.5
Zhang, J.Y.6
Lu, Y.M.7
Shen, D.Z.8
Fan, X.W.9
-
50
-
-
22044432646
-
-
J. D. Ye S. L. Gu F. Qin S. M. Zhu S. M. Liu X. Zhou L. Liu L. Q. Hu R. Zhang Y. Shi Y. D. Zheng Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2005 81 759
-
(2005)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.81
, pp. 759
-
-
Ye, J.D.1
Gu, S.L.2
Qin, F.3
Zhu, S.M.4
Liu, S.M.5
Zhou, X.6
Liu, L.7
Hu, L.Q.8
Zhang, R.9
Shi, Y.10
Zheng, Y.D.11
-
56
-
-
38549131183
-
-
G. D. Yuan W. J. Zhang J. S. Jie X. Fan J. X. Tang I. Shafiq Z. Z. Ye C. S. Lee A. T. Lee Adv. Mater. 2008 20 168 173
-
(2008)
Adv. Mater.
, vol.20
, pp. 168-173
-
-
Yuan, G.D.1
Zhang, W.J.2
Jie, J.S.3
Fan, X.4
Tang, J.X.5
Shafiq, I.6
Ye, Z.Z.7
Lee, C.S.8
Lee, A.T.9
|