Atomic layer deposition for nanofabrication and interface engineering

Nanoscale

Volumn 4, Issue 5, 2012, Pages 1522-1528

  Liu, Monan ^a   Li, Xianglin ^a   Karuturi, Siva Krishna ^b   Tok, Alfred Iing Yoong ^b   Fan, Hong Jin ^a  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ASPECT RATIO; COATINGS; DEPOSITION; NANOWIRES; PHOTOELECTROCHEMICAL CELLS; SOLAR CELLS;

CONFORMAL COATINGS; CYCLIC STABILITY; DIELECTRIC COATINGS; DYE-SENSITIZED SOLAR CELL; HIGH ASPECT RATIO; INTERFACE ENGINEERING; PLASMONIC NANOSTRUCTURES; SEMICONDUCTOR NANOSTRUCTURES;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84864682313     PISSN: 20403364     EISSN: 20403372     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c2nr11875k     Document Type: Review

References (44)

1. S. M. George, Chem. Rev., 2009, 110, 111-131.
2. S.-M. Lee, E. Pippel, U. Gösele, C. Dresbach, Y. Qin, C. V. Chandran, T. Bräuniger, G. Hause and M. Knez, Science, 2009, 324, 488-492.
3. Y. Zhou, D. M. King, J. Li, K. S. Barrett, R. B. Goldfarb and A. W. Weimer, Ind. Eng. Chem. Res., 2010, 49, 6964-6971.
4. R. H. A. Ras, M. Kemell, J. de Wit, M. Ritala, G. ten Brinke, M. Leskelä and O. Ikkala, Adv. Mater., 2007, 19, 102-106.
5. H. J. Fan, M. Knez, R. Scholz, K. Nielsch, E. Pippel, D. Hesse, U. Gosele and M. Zacharias, Nanotechnology, 2006, 17, 5157-5162.
6. Q. Peng, X. Y. Sun, J. C. Spagnola, C. Saquing, S. A. Khan, R. J. Spontak and G. N. Parsons, ACS Nano, 2009, 3, 546-554.
7. Y. Qin, L. F. Liu, R. B. Yang, U. Gosele and M. Knez, Nano Lett., 2008, 8, 3221-3225.
8. H. J. Fan, Y. Yang and M. Zacharias, J. Mater. Chem., 2009, 19, 885-900.
9. Y. Yang, D. S. Kim, M. Knez, R. Scholz, A. Berger, E. Pippel, D. Hesse, U. Gosele and M. Zacharias, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 4068-4074.
10. Y. Yang, R. Scholz, H. J. Fan, D. Hesse, U. Gosele and M. Zacharias, ACS Nano, 2009, 3, 555-562.
11. Y. Yang, R. B. Yang, H. J. Fan, R. Scholz, Z. P. Huang, A. Berger, Y. Qin, M. Knez and U. Gosele, Angew. Chem., Int. Ed., 2010, 49, 1442-1446.
12. H. J. Fan, U. Gosele and M. Zacharias, Small, 2007, 3, 1660-1671.
13. M. Knez, K. Niesch and L. Niinisto, Adv. Mater., 2007, 19, 3425-3438.
14. C. Detavernier, J. Dendooven, S. Pulinthanathu Sree, K. F. Ludwig and J. A. Martens, Chem. Soc. Rev., 2011, 40, 5242-5253.
15. Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials, ed. N. Pinna and M. Knez, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2012.
16. M. Liu, L. Sun, C. Cheng, H. Hu, Z. Shen and H. J. Fan, Nanoscale, 2011, 3, 3627-3630.
17. W. E. Doering, M. E. Piotti, M. J. Natan and R. G. Freeman, Adv. Mater., 2007, 19, 3100-3108.
18. N. J. Halas, S. Lal, W. S. Chang, S. Link and P. Nordlander, Chem. Rev., 2011, 111, 3913-3961.
19. G. Sinha, L. E. Depero and I. Alessandri, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2011, 3, 2557-2563.
20. X. H. Li, G. Y. Chen, L. B. Yang, Z. Jin and J. H. Liu, Adv. Funct. Mater., 2010, 20, 2815-2824.
21. S. Nishimura, N. Abrams, B. A. Lewis, L. I. Halaoui, T. E. Mallouk, K. D. Benkstein, J. Van de Lagemaat and A. J. Frank, J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 6306-6310.
22. A. Mihi, M. E. Calvos, J. A. Anta and H. Míguez, J. Phys. Chem. C, 2008, 112, 13-17.
23. A. Mihi and H. Míguez, J. Phys. Chem. B, 2005, 109, 15968-15976.
24. S. K. Karuturi, L. Liu, L. T. Su, Y. Zhao, H. J. Fan, X. Ge, S. He and A. T. I. Yoong, J. Phys. Chem. C, 2010, 114, 14843-14848.
25. L. Liu, S. K. Karuturi, L. T. Su and A. I. Y. Tok, Energy Environ. Sci., 2011, 4, 209-215.
26. C. Cheng, S. K. Karuturi, L. Liu, J. Liu, H. Li, L. T. Su, A. I. Y. Tok and H. J. Fan, Small, 2012, 8, 37-42.
27. A. Fujishima and K. Honda, Nature, 1972, 238, 37-38.
28. X. Chen and S. S. Mao, Chem. Rev., 2007, 107, 2891-2959.
29. E. Graugnard, J. S. King, D. P. Gaillot and C. J. Summers, Adv. Funct. Mater., 2006, 16, 1187-1196.
30. T. P. Brennan, P. Ardalan, H.-B.-R. Lee, J. R. Bakke, I. K. Ding, M. D. McGehee and S. F. Bent, Adv. Energy Mater., 2011, 1, 1169-1175.
31. N. P. Dasgupta, H. J. Jung, O. Trejo, M. T. McDowell, A. Hryciw, M. Brongersma, R. Sinclair and F. B. Prinz, Nano Lett., 2011, 11, 934-940.
32. R. B. Yang, J. Bachmann, M. Reiche, J. r. W. Gerlach, U. Gösele and K. Nielsch, Chem. Mater., 2009, 21, 2586-2588.
33. P. Sinsermsuksakul, J. Heo, W. Noh, A. S. Hock and R. G. Gordon, Adv. Energy Mater., 2011, 1, 1116-1125.
34. X. Li, C. Li, Y. Zhang, D. Chu, W. Milne and H. J. Fan, Nanoscale Res. Lett., 2010, 5, 1836-1840.
35. C. Cheng, B. Yan, S. M. Wong, X. Li, W. Zhou, T. Yu, Z. Shen, H. Yu and H. J. Fan, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2010, 2, 1824-1828.
36. M. Kang, J. S. Lee, S. K. Sim, B. Min, K. Cho, H. Kim, M. Y. Sung, S. Kim, S. A. Song and M. S. Lee, Thin Solid Films, 2004, 466, 265-271.
37. C. C. Wang, C. C. Kei, Y. Tao and T. P. Perng, Electrochem. Solid-State Lett., 2009, 12, K49-K52.
38. C. W. Cheng, E. J. Sie, B. Liu, C. H. A. Huan, T. C. Sum, H. D. Sun and H. J. Fan, Appl. Phys. Lett., 2010, 96, 071107.
39. A. Paracchino, V. Laporte, K. Sivula, M. Grätzel and E. Thimsen, Nat. Mater., 2011, 10, 456-461.
40. Y. S. Jung, A. S. Cavanagh, A. C. Dillon, M. D. Groner, S. M. George and S. H. Lee, J. Electrochem. Soc., 2010, 157, A75-A81.
41. Y. W. Chen, J. D. Prange, S. Dühnen, Y. Park, M. Gunji, C. E. D. Chidsey and P. C. McIntyre, Nat. Mater., 2011, 10, 539-544.
42. J. W. Elam, A. V. V. Zinovev, M. J. Pellin, D. J. Comstock and M. C. Hersam, ECS Trans., 2007, 3, 271-278.
43. H. Feng, J. A. Libera, P. C. Stair, J. T. Miller and J. W. Elam, ACS Catal., 2011, 1, 665-673.
44. S. T. Christensen, J. W. Elam, F. A. Rabuffetti, Q. Ma, S. J. Weigand, B. Lee, S. Seifert, P. C. Stair, K. R. Poeppelmeier, M. C. Hersam and M. J. Bedzyk, Small, 2009, 5, 750-757.