Hybrid ZnO/SWNT Nanostructures Based Gas Sensor

Electroanalysis

Volumn 24, Issue 7, 2012, Pages 1613-1620

  Hernández, Sandra C ^a   Kakoullis, James ^b   Lim, Jae Hong ^a   Mubeen, Syed ^a   Hangarter, Carlos M ^a   Mulchandani, Ashok ^a   Myung, Nosang V ^a  

^a University of California Riverside   (United States)

^b UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

Electrodeposition; Gas sensors; Hydrogen sulfide; Single walled carbon nanotubes; Zinc oxide

Indexed keywords

CHEMICAL SENSORS; GAS DETECTORS; GAS SENSING ELECTRODES; METAL NANOPARTICLES; SINGLE-WALLED CARBON NANOTUBES (SWCN); SULFUR COMPOUNDS; SYNTHESIS (CHEMICAL); YARN; ZNO NANOPARTICLES;

ANALYTES; CONDUCTOMETRICS; DEPOSITION CONDITIONS; GAS SENSING; GAS-SENSORS; SENSING PERFORMANCE; SINGLE WALLED CARBON NANOTUBE; SINGLE-WALLED CARBON; SYNTHESISED; ZINC OXIDE NANOPARTICLES;

II-VI SEMICONDUCTORS;

EID: 84863544654     PISSN: 10400397     EISSN: 15214109     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/elan.201200135     Document Type: Article

References (52)

1. E. S. Snow, F. K. Perkins, E. J. Houser, S. C. Badescu, T. L. Reinecke, Science 2005, 307, 1942.
2. E. S. Snow, F. K. Perkins, J. A. Robinson, Chem. Soc. Rev. 2006, 35, 790.
3. J. A. Robinson, E. S. Snow, S. C. Badescu, T. L. Reinecke, F. K. Perkins, Nano Lett. 2006, 6, 1747.
4. J. A. Robinson, E. S. Snow, F. K. Perkins, Sens. Actuators A, Phys. 2007, 135, 309.
5. T. Zhang, M. B. Nix, B. Y. Yoo, M. A. Deshusses, N. V. Myung, Electroanalysis 2006, 18, 1153.
6. D. R. Kauffman, A. Star, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4430.
7. A. Star, V. Joshi, S. Skarupo, D. Thomas, J. C. P. Gabriel, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 21014.
8. D. R. Kauffman, A. Star, Angew. Chem.-Int. Ed. 2008, 47, 6550.
9. C. K. W. Adu, G. U. Sumanasekera, B. K. Pradhan, H. E. Romero, P. C. Eklund, Chem. Phys. Lett. 2001, 337, 31.
10. C. Staii, A. T. Johnson, Nano Lett. 2005, 5, 1774.
11. P.-C. Chen, G. Shen, C. Zhou, IEEE Trans. Nanotechnol. 2008, 7, 668.
12. E. Bekyarova, I. Kalinina, M. E. Itkis, L. Beer, N. Cabrera, R. C. Haddon, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 10700.
13. M. D. Ganji, A. Afsari, Physica E, Low-Dim. Syst. Nanostruct. 2009, 41, 1696.
14. A. Gonzalez-Campo, K. L. Orchard, N. Sato, M. S. P. Shaffer, C. K. Williams, Chem. Commun. 2009, 4034.
15. L. Q. Jiang, L. Gao, Mater. Chem. Phys. 2005, 91, 313.
16. T. G. Jiu, H. B. Liu, H. Y. Gan, Y. L. Li, S. Q. Xiao, H. M. Li, Y. Liu, F. S. Lu, L. Jiang, D. B. Zhu, Synth. Metals 2005, 148, 313.
17. J. Khanderi, R. C. Hoffmann, A. Gurlo, J. J. Schneider, J. Mater. Chem. 2009, 19, 5039.
18. H. Kim, W. Sigmund, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2085.
19. Y. W. Koh, M. Lin, C. K. Tan, Y. L. Foo, K. P. Loh, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 11419.
20. J. Liu, M. J. Casavant, M. Cox, D. A. Walters, P. Boul, W. Lu, A. J. Rimberg, K. A. Smith, D. T. Colbert, R. E. Smalley, Chem. Phys. Lett. 1999, 303, 125.
21. S. Mubeen, T. Zhang, N. Chartuprayoon, Y. Rheem, A. Mulchandani, N. V. Myung, M. A. Deshusses, Anal. Chem. 2010, 82, 250.
22. T. Zhang, S. Mubeen, B. Yoo, N. V. Myung, M. A. Deshusses, Nanotechnology 2009, 20.
23. N. Yamazoe, Sens. Actuators B, Chem. 1991, 5, 7.
24. E. Comini, C. Baratto, G. Faglia, M. Ferroni, A. Vomiero, G. Sberveglieri, Progr. Mater. Sci. 2009, 54, 1.
25. M. Izaki, T. Omi, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 2439.
26. M. Izaki, T. Omi, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, L53.
27. S. J. Limmer, E. A. Kulp, J. A. Switzer, Langmuir 2006, 22, 10535.
28. D. Lincot, Thin Solid Films 2005, 487, 40.
29. T. Yoshida, D. Komatsu, N. Shimokawa, H. Minoura, Thin Solid Films 2004, 451, 166.
30. L. S. Zhang, Z. G. Chen, Y. W. Tang, Z. J. Jia, Thin Solid Films 2005, 492, 24.
31. Y. W. Zhu, H. I. Elim, Y. L. Foo, T. Yu, Y. J. Liu, W. Ji, J. Y. Lee, Z. X. Shen, A. T. S. Wee, J. T. L. Thong, C. H. Sow, Adv. Mater. 2006, 18, 587.
32. L. M. Yu, C. C. Zhu, Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 8359.
33. L. P. Zhu, G. H. Liao, W. Y. Huang, L. L. Ma, Y. Yang, Y. Yu, S. Y. Fu, Mater. Sci. Eng. B, Adv. Funct. Solid-State Mater. 2009, 163, 194.
34. S. Mubeen, T. Zhang, B. Yoo, M. A. Deshusses, N. V. Myung, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 6321.
35. J. H. Lim, N. Phiboolsirichit, S. Mubeen, Y. Rheem, M. A. Deshusses, A. Mulchandani, N. V. Myung, Electroanalysis 2010, 22, 99.
36. S. C. Hernandez, D. Chaudhuri, W. Chen, N. V. Myung, A. Mulchandani, Electroanalysis 2007, 19, 2125.
37. A. Brenner, Electrodeposition of Alloys, Principles, Practice, Academic Press, New York 1963.
38. R. M. Nyffenegger, B. Craft, M. Shaaban, S. Gorer, G. Erley, R. M. Penner, Chem. Mater. 1998, 10, 1120.
39. S. Otani, J. Katayama, H. Umemoto, M. Matsuoka, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C551.
40. S. T. Jiang, M. Q. Wu, Y. Zhou, Y. Wen, C. T. Yang, S. R. Zhang, Integr. Ferroelectrics 2007, 88, 33.
41. E. C. Walter, B. J. Murray, F. Favier, G. Kaltenpoth, M. Grunze, R. M. Penner, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 11407.
42. Y. W. Fan, B. R. Goldsmith, P. G. Collins, Nature Mater. 2005, 4, 906.
43. L. Hu, D. S. Hecht, G. Gruner, Nano Lett. 2004, 4, 2513.
44. Q. Wan, Q. H. Li, Y. J. Chen, T. H. Wang, X. L. He, J. P. Li, C. L. Lin, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3654.
45. C. H. Wang, X. F. Chu, M. W. Wu, Sens. Actuators B, Chem. 2006, 113, 320.
46. N. VanHicu, N. D. Chien, Physica B, Cond. Matter 2008, 403, 50.
47. N. Zhang, K. Yu, Q. Li, Z. Q. Zhu, Q. Wan, J. Appl. Phys. 2008, 103.
48. C. S. Rout, G. U. Kulkarni, C. N. R. Rao, J. Phys. D, Appl. Phys. 2007, 40, 2777.
49. J. Y. Lin, J. A. May, S. V. Didziulis, E. I. Solomon, J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 4718.
50. J. A. Rodriguez, A. Maiti, J. Phys. Chem. B 2000, 104, 3630.
51. C. W. Zhou, J. Kong, H. J. Dai, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1597.
52. M. Caglar, Y. Caglar, S. Aksoy, S. Ilican, Appl. Surf. Sci. 2010, 256, 4966.