Crystal structure and phototransistor behavior of N-substituted heptacence

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 4, 2012, Pages 1883-1886

  Wu, Yuechao ^a   Yin, Zongyou ^a   Xiao, Jinchong ^a,b   Liu, Yi ^a   Wei, Fengxia ^a   Tan, Ke Jie ^a   Kloc, Christian ^a   Huang, Ling ^c   Yan, Qingyu ^a   Hu, Fangzhong ^d   Zhang, Hua ^a   Zhang, Qichun ^a  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b HEBEI UNIVERSITY   (China)

^c Nanyang Technological University   (Singapore)

^d NANKAI UNIVERSITY   (China)

Author keywords

device fabrication; N substituted heptacene; phototransistor; single crystal; structure

Indexed keywords

DEVICE FABRICATIONS; N-SUBSTITUTED HEPTACENE; PHOTOCONDUCTIVE EFFECT; SIGNAL AMPLIFICATIONS; SINGLE CRYSTAL X-RAY STRUCTURES;

SIGNAL PROCESSING; SINGLE CRYSTALS; STRUCTURE (COMPOSITION); SUBSTITUTION REACTIONS;

PHOTOTRANSISTORS;

EID: 84860334250     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am3003389     Document Type: Article

References (34)

1. Michael, W.; Houk, K. N. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 1805-1815
2. Tonzola, C. J.; Alam, M. M.; Kaminsky, W.; Jenekhe, S. A. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 13548-13558
3. Tadokoro, M.; Yasuzuka, S.; Nakamura, M.; Shinoda, T.; Tatenuma, T.; Mitsumi, M.; Qzawa, Y.; Toriumi, K.; Yoshino, H.; Shiomi, D.; Sato, K.; Takui, T.; Mori, T.; Murata, K. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 5144-5147
4. Hutchison, K. A.; Srdanov, G.; Hicks, R.; Yu, H.; Wudl, F.; Strassner, T.; Nendel, M.; Houk, K. N. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 2989-2990
5. Wudl, F.; Koutentis, P. A.; Weiz, A.; Ma, B.; Strassner, T.; Houk, K. N.; Khan, S. I. Pure Appl. Chem. 1999, 71, 295-302
6. Riley, A. E.; Mitchell, G. W.; Koutentis, P. A.; Bendikov, M.; Kaszynki, P.; Wudl, F.; Tolbert, S. H. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 531-540
7. Constaninides, C. P.; Koutentis, P. A.; Schatz, J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 16232-16241
8. Langer, P.; Bodtke, A.; Saleh, N. N. R.; Görls, H.; Schreiner, P. R. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 5255-5259
9. Miao, Q.; Nguyen, T. Q.; Someya, T.; Blanchet, G. B.; Nuckolls, C. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 10284-10287
10. Ma, Y.; Sun, Y.; Liu, Y.; Gao, J.; Chen, S.; Sun, X.; Qiu, W.; Yu, G.; Cui, G.; Hu, W.; Zhu, D. J. Mater. Chem. 2005, 15, 4894-4898
11. Chen, H. Y.; Chao, I. Chem. Phys. Chem. 2006, 7, 2003-2007
12. Coropceanu, J. V.; Cornil, J.; da Silva, D. A.; Olivier, Y.; Silbey, R.; Bredas, J. L. Chem. Rev. 2007, 107, 926-952
13. Anthony, E.; Facchetti, A.; Heeney, M.; Marder, S. R.; Zhan, X. Adv. Mater. 2010, 22, 3876-3892
14. de Leeuw, D. M.; Simenon, M. M. J.; Brown, A. R.; Einerhand, R. E. F. Synth. Met. 1997, 87, 53-59
15. Zhang, Q.; Divayana, Y.; Xiao, J.; Wang, Z.; Tiekink, E. R. T.; Doung, H. M.; Zhang, H.; Boey, F.; Sun, X.; Wudl, F. Chem.-Eur. J. 2010, 16, 7422-7426
16. Zhang, Q.; Xiao, J.; Yin, Z.; Duong, H. M.; Qiao, F.; Boey, F.; Hu, X.; Zhang, H.; Wudl, F. Chem. Asian. J. 2011, 6, 856-862
17. Xiao, J.; Divayana, Y.; Zhang, Q.; Doung, H. M.; Zhang, H.; Boey, F.; Sun, X.; Wudl, F. J. Mater. Chem. 2010, 20, 8167-8170
18. Duong, H. M.; Bendikov, M.; Steiger, D.; Zhang, Q.; Sonmez, G.; Yamada, J.; Wudl, F. Org. Lett. 2003, 5, 4433-4436
19. Pascal, R. A., Jr. Chem. Rev. 2006, 106, 4809-4819
20. Wu, Y. T.; Siegel, J. S. Chem. Rev. 2006, 106, 4843-4867
21. Anthony, J. E. Chem. Rev. 2006, 106, 5028-5048
22. Mateo-Alonso, A.; Kulisic, N.; Valenti, G.; Marcaccio, M.; Paolucci, F.; Prato, M. Chem. Asian. J. 2010, 5, 482-485
23. Pauling, L. Acta Crystallogr. 1980, B36, 1898
24. Xiao, J.; Duong, H. M.; Liu, Y.; Shi, W.; Ji, L.; Li, G.; Li, S.; Liu, X.; Ma, J.; Wudl, F.; Zhang, Q. Angew Chem. Int. Ed. 2012, 10.1002/anie. 201200949.
25. Xiao, J.; Liu, S.; Liu, Y.; Ji, L.; Liu, X.; Zhang, H.; Sun, X.; Zhang, Q. Chem. Asian J. 2012, 7, 561-564
26. Xiao, J.; Malliakas, C. D.; Liu, L.; Zhou, F.; Li, G.; Su, H.; Kanatzidis, M. G.; Wudl, F.; Zhang, Q. Chem. Asian J. 2012, 7, 672
27. Madjar, A.; Herczfeld, P. R.; Paolella, A. IEEE Trans. Microwave Theory Tech. 1992, 40, 1681
28. Romero, M. A.; Martinez, M. A. G.; Herczfeld, P. R. IEEE Trans. Microwave Theory Tech. 1996, 44, 2279-2287
29. Noh, Y. Y.; Kim, D. Y.; Yase, K. J. Appl. Phys. 2005, 98, 074505-074511
30. Forrest, S. R.; Thompson, M. E. Chem. Rev. 2007, 107, 923-925
31. Tang, Q. X.; Li, L. Q.; Li, B. Y.; Xu, W.; Liu, Y. Q.; Hu, W. P.; Zhu, D. B. Adv. Mater. 2007, 19, 2624-2628
32. Ji, H. X.; Hu, S. J.; Wan, L. J. Chem. Commun. 2008, 2653
33. Sze, S. M.; Ng, K. K. Physics of Semiconductor Devices, 3 rd ed.; Wiley: New York, 2007.
34. Nunley, W.; Birtalan, D. Optoelectronics: Infrared-Visible-Ultraviolet Devices and Applications, 2 nd ed.; CRC Press: Boca Raton, FL, 2009.