Hierarchical structural nanopore arrays fabricated by pre-patterning aluminum using nanosphere lithography

Small

Volumn 8, Issue 7, 2012, Pages 972-976

  Wang, Xinnan ^a   Xu, Shuping ^a   Cong, Ming ^a   Li, Haibo ^a   Gu, Yuejiao ^a   Xu, Weiqing ^a  

^a Jilin University   (China)

Author keywords

close packed; hexagonal array; highly ordered structure; nanochannel

Indexed keywords

ALUMINUM SUBSTRATE; ANODIZATIONS; CLOSE-PACKED; HEXAGONAL ARRAYS; HIGHLY ORDERED STRUCTURE; NANO CHANNELS; NANO SPHERE LITHOGRAPHY; NANOCHANNEL STRUCTURES; NANOPORE ARRAY; PRE-PATTERNING;

ALUMINUM; ALUMINUM FOIL; ANODIC OXIDATION; NANOINDENTATION; NANOSPHERES;

NANOPORES;

ALUMINUM; NANOSPHERE;

ARTICLE; CHEMISTRY; METHODOLOGY; NANOPORE; NANOTECHNOLOGY; SURFACE PROPERTY; ULTRASTRUCTURE;

ALUMINUM; NANOPORES; NANOSPHERES; NANOTECHNOLOGY; SURFACE PROPERTIES;

EID: 84859562519     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201102274     Document Type: Article

References (25)

1. K. Kanamori K. Nakanishi, Chem. Soc. Rev. 2011, 40, 754.
2. Z. K. Sun, Y. H. Deng, J. Wei, D. Gu, B. Tu, D. Y. Zhao, Chem. Mater. 2011, 23, 2176.
3. L. D. Qin, S. Park, L. Huang, C. A. Mirkin, Science 2005, 309, 113.
4. H. M. Bok, K. L. Shuford, S. Kim, S. K. Kim, S. Park, Nano Lett. 2008, 8, 2265.
5. X. N. Wang, S. P. Xu, H. B. Li, J. L. Tao, B. Zhao, W. Q. Xu, J. Raman Spectrosc. DOI 10.1002/jrs.3041.
6. D. F. Gu, H. Baumgart, T. M. Abdel-Fattah, G. Namkoong, ACS Nano 2010, 4, 753.
7. S. Shukla, K. Kim, A. Baev, Y. K. Yoon, N. M. Litchinitser, P. N. Prasad, ACS Nano 2010, 4, 2249.
8. W. Knoll, A. M. Caminade, K. Char, H. Duran, C. L. Feng, A. Gitsas, D. H. Kim, A. Lau, T. D. Lazzara, J. P. Majoral, M. Steinhart, B. Yameen, X. H. Zhong, Small 2011, 7, 1384.
9. K. S. Yang, H. J. Kim, J. K. Ahn, D. H. Kim, Curr. Appl. Phys. 2009, 9, e60.
10. M. Kaltenbrunner, P. Stadler, R. Schwodiauer, A. W. Hassel, N. S. Saricifftci, S. Bauer, Adv. Mater. 2011, 23, 4892.
11. H. Masuda, K. Fukuda, Science 1995, 286, 1466.
12. H. Masuda, H. Yamada, M. Satoh, H. Asoh, M. Nakao, T. Tamamura, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 2770.
13. H. Asoh, K. Nishio, M. Nakao, A. Yokoo, T. Tamamura, H. Masuda, J. Vac. Sci. Tech. B 2001, 19, 569.
14. C. Y. Liu, A. Datta, Y. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 120.
15. B. Chen, K. Lu, Z. P. Tian, Langmuir 2011, 27, 800.
16. S. Fournier-Bidoz, V. Kitaev, D. Routkevitch, I. Manners, G. A. Ozin, Adv. Mater. 2004, 16, 2193.
17. T. S. Kustandi, W. W. Loh, H. Gao, H. Y. Low, ACS Nano 2010, 4, 2561.
18. A. S. Maria Chong, L. K. Tan, J. Deng, H. Gao, Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 1629.
19. A. L. Lipson, D. J. Comstock, M. C. Hersam, Small 2009, 5, 2807.
20. S. M. Yang, S. G. Jang, D. G. Choi, S. Kim, H. K. Yu, Small 2006, 2, 458.
21. M. C. Gwinner, E. Koroknay, L. Fu, P. Patoka, W. Kandulski, M. Giersig, H. Giessen, Small 2009, 5, 400.
22. G. Ctistis, E. Papaioannou, P. Patoka, J. Gutek, P. Fulnagalli, M. Giersig, Nano Lett. 2009, 9, 1.
23. Y. F. Li, J. H. Zhang, S. J. Zhu, H. P. Dong, F. Jia, Z. H. Wang, Z. Q. Sun, L. Zhang, Y. Li, H. B. Li, W. Q. Xu, B. Yang, Adv. Mater. 2009, 21, 4731.
24. F. Keller, M. S. Hunter, D. L. Robinson, J. Electrochem. Soc. 1953, 100, 411.
25. J. H. Zhang, Z. Chen, Z. L. Wang, W. Y. Zhang, N. B. Ming, Mater. Lett. 2003, 57, 4466.