Co 3O 4/ZnO nanocomposites: From plasma synthesis to gas sensing applications

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 2, 2012, Pages 928-934

  Bekermann, D ^a   Gasparotto, A ^a   Barreca, D ^a   Maccato, C ^a   Comini, E ^b   Sada, C ^a   Sberveglieri, G ^b   Devi, A ^c   Fischer, R A ^c  

^a UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

^b UNIVERSITY OF BRESCIA   (Italy)

^c RUHR UNIVERSITY BOCHUM   (Germany)

Author keywords

Co 3O 4 ZnO; gas sensors; nanocomposites; plasma enhanced chemical vapor deposition

Indexed keywords

ALUMINA SUBSTRATES; ANALYTES; COMPOSITIONAL ANALYSIS; FUNCTIONAL TEST; GAS SENSING; GAS SENSING APPLICATIONS; NANO GRAINS; OPERATING TEMPERATURE; OVERDISPERSION; OXIDIZING SPECIES; PLASMA SYNTHESIS; SENSING RESPONSE; ZNO; ZNO NANOPARTICLES;

ALUMINA; CHEMICAL DETECTION; CHEMICAL SENSORS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; GAS DETECTORS; GAS SENSING ELECTRODES; NANOCOMPOSITES; ZINC OXIDE;

PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 84857434387     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am201591w     Document Type: Article

References (39)

1. Martín-González, M. S.; Fernández, J. F.; Rubio-Marcos, F.; Lorite, I.; Costa-Kramer, J. L.; Quesada, A.; Bañares, M. A.; Fierro, J. L. G. J. Appl. Phys. 2008, 103, 083905
2. Kanjwal, M. A.; Sheikh, F. A.; Barakat, N. A. M.; Chronakis, I. S.; Kim, H. Y. Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 7975-7981
3. Zhang, Z. Y.; Shao, C. L.; Li, X. H.; Wang, C. H.; Zhang, M. Y.; Liu, Y. C. ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 2915-2923
4. Hsieh, J. H.; Kuo, P. W.; Peng, K. C.; Liu, S. J.; Hsueh, J. D.; Chang, S. C. Thin Solid Films 2008, 516, 5449-5453
5. Shifu, C.; Wei, Z.; Wei, L.; Huaye, Z.; Xiaoling, Y. Chem. Eng. J. 2009, 155, 466-473
6. Kim, H. G.; Borse, P. H.; Choi, W. Y.; Lee, J. S. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 4585-4589
7. Hong, R. Y.; Zhang, S. Z.; Di, G. Q.; Li, H. Z.; Zheng, Y.; Ding, J.; Wei, D. G. Mater. Res. Bull. 2008, 43, 2457-2468
8. Hwang, I. S.; Choi, J. K.; Kim, S. J.; Dong, K. Y.; Kwon, J. H.; Ju, B. K.; Lee, J. H. Sens. Actuators, B 2009, 142, 105-110
9. Na, C. W.; Woo, H.-S.; Kim, I.-D.; Lee, J.-H. Chem. Commun. 2011, 47, 5148-5150
10. Zhuge, L. J.; Wu, X. M.; Wu, Z. F.; Yang, X. M.; Chen, X. M.; Chen, Q. Mater. Chem. Phys. 2010, 120, 480-483
11. Vanaja, K.; Bhatta, U.; Ajimsha, R.; Jayalekshmi, S.; Jayaraj, M. Bull. Mater. Sci. 2008, 31, 753-758
12. Chowdhuri, A.; Sharma, P.; Gupta, V.; Sreenivas, K.; Rao, K. V. J. Appl. Phys. 2002, 92, 2172-2180
13. Uriz, I.; Arzamendi, G.; López, E.; Llorca, J.; Gandía, L. M. Chem. Eng. J. 2011, 167, 603-609
14. Rubio-Marcos, F.; Calvino-Casilda, V.; Bañares, M. A.; Fernandez, J. F. J. Catal. 2010, 275, 288-293
15. Tak, Y.; Yong, K. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 74-79
16. Barreca, D.; Bekermann, D.; Comini, E.; Devi, A.; Fischer, R. A.; Gasparotto, A.; Maccato, C.; Sberveglieri, G.; Tondello, E. Sens. Actuators, B 2010, 149, 1-7
17. Barreca, D.; Bekermann, D.; Comini, E.; Devi, A.; Fischer, R. A.; Gasparotto, A.; Maccato, C.; Sada, C.; Sberveglieri, G.; Tondello, E. CrystEngComm 2010, 12, 3419-3421
18. Huang, M. H.; Mao, S.; Feick, H.; Yan, H. Q.; Wu, Y. Y.; Kind, H.; Weber, E.; Russo, R.; Yang, P. D. Science 2001, 292, 1897-1899
19. Wang, Z. Q.; Gong, J. F.; Su, Y.; Jiang, Y. W.; Yang, S. G. Cryst. Growth Des. 2010, 10, 2455-2459
20. Barreca, D.; Bekermann, D.; Comini, E.; Devi, A.; Fischer, R. A.; Gasparotto, A.; Gavagnin, M.; Maccato, C.; Sada, C.; Sberveglieri, G.; Tondello, E. Sens. Actuators, B 2011, 160, 79-86
21. Ma, C. Y.; Mu, Z.; Li, J. J.; Jin, Y. G.; Cheng, J.; Lu, G. Q.; Hao, Z. P.; Qiao, S. Z. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 2608-2613
22. Yu, Y. B.; Takei, T.; Ohashi, H.; He, H.; Zhang, X. L.; Haruta, M. J. Catal. 2009, 267, 121-128
23. Barreca, D.; Massignan, C.; Daolio, S.; Fabrizio, M.; Piccirillo, C.; Armelao, L.; Tondello, E. Chem. Mater. 2001, 13, 588-593
24. Bekermann, D.; Rogalla, D.; Becker, H. W.; Winter, M.; Fischer, R. A.; Devi, A. Eur. J. Inorg. Chem. 2010, 2010, 1366-1372
25. Barreca, D.; Carraro, G.; Comini, E.; Gasparotto, A.; Maccato, C.; Sada, C.; Sberveglieri, G.; Tondello, E. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 10510-10517
26. Barreca, D.; Comini, E.; Gasparotto, A.; Maccato, C.; Pozza, A.; Sada, C.; Sberveglieri, G.; Tondello, E. J. Nanosci. Nanotechnol. 2010, 10, 8054-8061
27. JCPDS, pattern no. 36-1451, 2000.
28. Wei, L.; Li, Z. H.; Zhang, W. F. Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 4992-4995
29. Yang, S. G.; Pakhomov, A. B.; Hung, S. T.; Wong, C. Y. IEEE Trans. Magn. 2002, 38, 2877-2879
30. Sudakar, C.; Kharel, P.; Lawes, G.; Suryanarayanan, R.; Naik, R. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 062501
31. Bhargava, R.; Sharma, P. K.; Dutta, R. K.; Kumar, S.; Pandey, A. V.; Kumar, N. Mater. Chem. Phys. 2010, 120, 393-398
32. Barreca, D.; Gasparotto, A.; Lebedev, O. I.; Maccato, C.; Pozza, A.; Tondello, E.; Turner, S.; Van Tendeloo, G. CrystEngComm 2010, 12, 2185-2197
33. Barreca, D.; Devi, A.; Fischer, R. A.; Bekermann, D.; Gasparotto, A.; Gavagnin, M.; Maccato, C.; Tondello, E.; Bontempi, E.; Depero, L. E.; Sada, C. CrystEngComm 2011, 13, 3670-3673
34. Bekermann, D.; Ludwig, A.; Toader, T.; Maccato, C.; Barreca, D.; Gasparotto, A.; Bock, C.; Wieck, A. D.; Kunze, U.; Tondello, E.; Fischer, R. A.; Devi, A. Chem. Vap. Deposition 2011, 17, 155-161
35. Kim, H. R.; Choi, K. I.; Kim, K. M.; Kim, I. D.; Cao, G. Z.; Lee, J. H. Chem. Commun. 2010, 46, 5061-5063
36. Trinh, T. T.; Tu, N. H.; Le, H. H.; Ryu, K. Y.; Le, K. B.; Pillai, K.; Yi, J. Sens. Actuators, B 2011, 152, 73-81
37. Kakati, N.; Jee, S. H.; Kim, S. H.; Oh, J. Y.; Yoon, Y. S. Thin Solid Films 2010, 519, 494-498
38. Chougule, M. A.; Sen, S.; Patil, V. B. Ceram. Int. 2011, in press; doi: 10.1016/j.ceramint.2011.11.036.
39. Al-Hardan, N. H.; Abdullah, M. J.; Abdul Aziz, A.; Ahmad, H.; Low, L. Y. Vacuum 2010, 85, 101-106