Routes to achieving high quantum yield luminescence from gas-phase-produced silicon nanocrystals

Advanced Functional Materials

Volumn 21, Issue 21, 2011, Pages 4042-4046

  Anthony, Rebecca J ^a   Rowe, David J ^a   Stein, Matthias ^b   Yang, Jihua ^a   Kortshagen, Uwe ^a  

^a University of Minnesota   (United States)

^b UNIVERSITY OF DUISBURG ESSEN   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AFTERGLOW PLASMAS; ALKENE LIGANDS; ATOMIC HYDROGEN; GAS INJECTION; HIGH FLUX; IDENTICAL CONDITIONS; NANOCRYSTAL SURFACE; PARTICLE TEMPERATURE; PHOTOLUMINESCENCE EFFICIENCY; PHOTOLUMINESCENCE QUANTUM YIELDS; POSTSYNTHESIS; SIGNIFICANT IMPACTS; SILICON NANOCRYSTALS;

HYDROGEN; OLEFINS; PHOTOLUMINESCENCE; PLASMAS; QUANTUM YIELD;

NANOCRYSTALS;

EID: 82955217292     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201100784     Document Type: Article

References (26)

1. M. Wang, A. Anopchenko, A. Marconi, E. Moser, S. Prezioso, L. Pavesi, G. Pucker, P. Bellutti, L. Vanzetti, Physica E 2009, 41, 912.
2. S. Yanagisawa, K. Sato, K. Hirakuri, Thin Solid Films 2007, 515, 7990.
3. K. Cheng, R. Anthony, U. R. Kortshagen, R. J. Holmes, Nano Lett. 2010, 10, 4, 1154.
4. A. Biaggi-Labiosa, F. Sola, O. Resto, L. F. Fonseca, A. Gonzalez-Berrios, J. De Jesus, G. Morell, Nanotechnology 2008, 19.
5. F. Erogbogbo, K. Yong, I. Roy, G. Xu, P. N. Prasad, M. T. Swihart, ACS Nano 2008, 2, 873-878.
6. D. Jurbergs, E. Rogojina, L. Mangolini, U. Kortshagen, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 233116.
7. R. M. Sankaran, D. Holunga, R. C. Flagan, K. P. Giapis, Nano Lett. 2005, 5, 537.
8. M. C. Beard, K. P. Knutsen, P. Yu, J. M. Luther, Q. Song, W. K. Metzger, R. J. Ellingson, A. J. Nozik, Nano Lett. 2007, 7, 2506.
9. T. Nozaki, K. Sasaki, T. Ogino, D. Asahi, K. Okazaki, Nanotechnology 2007, 18, 235603.
10. A. Gupta, M. T. Swihart, H. Wiggers, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 696.
11. P. Shen, N. Uesawa, S. Inasawa, Y. Yamaguchi, J. Mater. Chem. 2010, 20, 1669.
12. S. Cheylan, R. G. Elliman, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 1912.
13. P. Pellegrino, B. Garrido, C. Garcia, R. Ferre, J. A. Moreno, J. R. Morante, Physica E. 2003, 16, 424.
14. H. L. Hao, W. Z. Shen, Nanotechnology 2008, 19.
15. J. Holm, J. T. Roberts, J. Vac. Sci. Technol. 2010, 28, 161.
16. L. Mangolini, D. Jurbergs, E. Rogojina, U. Kortshagen, J. Lumin. 2006, 121, 327.
17. M. A. Hines, P. Guyot-Sionnest, J. Phys. Chem. 1996, 100, 468.
18. A. A. Seraphin, S. Ngiam, K. D. Kolenbrander, J. Appl. Phys. 1996, 80, 6429.
19. K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma, A. Polman, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 2033.
20. S. Godefroo, M. Hayne, M. Jivanescu, A. Stesmans, M. Zacharias, O. I. Lebedev, G. Van Tendeloo, V. V. Moshchalkov, Nat. Nano. 2008, 3, 174.
21. L. Mangolini, U. Kortshagen, Phys. Rev. E. 2009, 79, 026405.
22. R. N. Pereira, D. J. Rowe, R. J. Anthony, U. Kortshagen, Phys. Rev. B. 2011, 83, 155327.
23. D. C. Marra, E. A. Edelberg, R. L. Naone, E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 1998, 16, 3199.
24. M. Stutzmann, D. K. Biegelsen, Phys. Rev. B 1989, 40, 9834.
25. J. Holm, J. T. Roberts, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 15955.
26. G. Ledoux, O. Guillois, D. Porterat, C. Reynaud, F. Huisken, B. Kohn, V. Paillard, Phys. Rev. B 2000, 62, 15942.