Light confinement-induced antireflection of ZnO nanocones

Applied Physics Letters

Volumn 99, Issue 15, 2011, Pages

  Hyun Lee, Sang ^a   Earle Jellison Jr , Gerald ^a   Duty, Chad E ^a   Xu, Jun ^a  

^a OAK RIDGE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANTI-REFLECTION; ANTIREFLECTIVE; BROAD SPECTRAL; DIFFUSE REFLECTANCE SPECTRUM; EXPERIMENTAL DATA; LIGHT CONFINEMENTS; NANO-CONES; PLANAR TEXTURES; SI SUBSTRATES; SI WAFER; ZNO; ZNO FILMS;

SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS; SILICON; SILICON WAFERS; TEXTURES; ZINC OXIDE;

LIGHT REFLECTION;

EID: 80055015150     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3651751     Document Type: Article

References (17)

1. P. Bermel, C. Luo, L. Zeng, L. C. Kimerling, and J. D. Joannopoulos, Opt. Express 15, 16986 (2007). 10.1364/OE.15.016986
2. S. Y. Lin, M. L. Kuo, D. J. Poxson, Y. S. Kim, F. W. Mont, L. K. Kim, and E. F. Schuhert, Opt. Lett. 33, 2527 (2008). 10.1364/OL.33.002527
3. J. Grandidier, D. M. Callahan, J. N. Munday, and H. A. Atwater, Adv. Mater. 23, 1272 (2011). 10.1002/adma.201004393
4. M. Boroditsky, T. F. Krauss, R. Coccioli, R. Vrijen, R. Bhat, and E. Yablonovitch, Appl. Phys. Lett. 75, 1036 (1999). 10.1063/1.124588
5. J. K. Kim, T. Gessmann, E. F. Schubert, J. Q. Xi, H. Luo, J. Cho, C. Sone, and Y. Park, Appl. Phys. Lett. 88, 013501 (2006) 10.1063/1.2159097.
6. E. S. M. Goh, T. P. Chen, C. Q. Sun, L. Ding, and Y. Liu, Jpn. J. Appl. Phys. 48, 060206 (2009). 10.1143/JJAP.48.060206
7. Y. F. Huang, S. Chattopadhyay, Y. J. Jen, C. Y. Peng, T. A. Liu, Y. K. Hsu, C. L. Pan, H. C. Lo, C. H. Hsu, Y. H. Chang, C. S. Lee, K. H. Chen, and L. C. Chen, Nat. Nanotechnol. 2, 770 (2007). 10.1038/nnano.2007.389
8. S. L. Diedenhofen, G. Vecchi, R. E. Algra, A. Hartsuiker, O. L. Muskens, G. Immink, E. P. A. M. Bakkers, W. L. Vos, and J. G. Rivas, Adv. Mater. 21, 973 (2009). 10.1002/adma.200802767
9. E. B. Grann, M. G. Moharam, and D. A. Pommet, J. Opt. Soc. Am. A 12, 333 (1995). 10.1364/JOSAA.12.000333
10. T. Fujii, Y. Gao, R. Sharma, E. L. Hu, S. P. DenBaars, and S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 84, 855 (2004). 10.1063/1.1645992
11. Y. J. Lee, D. S. Ruby, D. W. Peters, B. B. McKenzie, and J. W. P. Hsu, Nano Lett. 8, 1501 (2008). 10.1021/nl080659j
12. S. A. Boden and D. M. Bagnall, Appl. Phys. Lett. 93, 133108 (2008). 10.1063/1.2993231
13. J. Zhu, Z. F. Yu, G. F. Burkhard, C. M. Hsu, S. T. Connor, Y. Q. Xu, Q. Wang, M. McGehee, S. H. Fan, and Y. Cui, Nano Lett. 9, 279 (2009). 10.1021/nl802886y
14. S. H. Lee, X.-G. Zhang, C. M. Parish, H. N. Lee, D. B. Smith, Y. He, and J. Xu, Adv. Mater. 23, 4381 (2011). 10.1002/adma.201101655
15. G. E. Jellison, Jr., Opt. Mater. 1, 41 (1992). 10.1016/0925-3467(92) 90015-F
16. H. J. Choi, J. C. Johnson, R. R. He, S. K. Lee, F. Kim, P. Pauzauskie, J. Goldberger, R. J. Saykally, and P. Yang, J. Phys. Chem. B 107, 8721 (2003). 10.1021/jp034734k
17. S. H. Lee, T. Goto, H. Miyazaki, J. Chang, and T. Yao, Nano Lett. 10, 2038 (2010). 10.1021/nl100100z