Ultrafast direct ablative patterning of HOPG by single laser pulses to produce graphene ribbons

Advanced Functional Materials

Volumn 21, Issue 20, 2011, Pages 3836-3842

  Kurra, Narendra ^a   Sagade, Abhay A ^a   Kulkarni, Giridhar U ^a  

^a JAWAHARLAL NEHRU CENTRE FOR ADVANCED SCIENTIFIC RESEARCH   (India)

Author keywords

few layer graphene ribbons; HOPG grating; interference lithography; near field phase mask; pulsed laser ablation

Indexed keywords

AFM; CARBON MATERIAL; DIRECT-PATTERNING; ELECTRICAL MEASUREMENT; FEW LAYER GRAPHENE RIBBONS; HIGH QUALITY; HIGHLY ORIENTED PYROLYTIC GRAPHITE; HOPG GRATING; INTERFERENCE LITHOGRAPHY; LASER INTENSITIES; NEAR FIELDS; PATTERNED SURFACE; PERIODIC ARRAYS; PHASE MASKS; PULSED LASER INTERFERENCE; SINGLE LASER PULSE; SINGLE-STEP; ULTRA-FAST;

ABLATION; GRAPHENE; GRAPHITE; LASER PULSES; PYROLYSIS; SILICONES; SURFACES;

PULSED LASERS;

EID: 80054801003     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201100832     Document Type: Article

References (37)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666.
2. A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183.
3. J. S. Bunch, A. M. van der Zande, S. S. Verbridge, I. W. Frank, D. M. Tanenbaum, J. M. Parpia, H. G. Craighead, P. L. McEuen, Science 2007, 315, 490.
4. W. Bao, G. Liu, Z. Zhao, H. Zhang, D. Yan, A. Deshpande, B. LeRoy, C. Lau, Nano Res. 2010, 3, 98-102.
5. Y. B. Tang, C. S. Lee, Z. H. Chen, G. D. Yuan, Z. H. Kang, L. B. Luo, H. S. Song, Y. Liu, Z. B. He, W. J. Zhang, I. Bello, S. T. Lee, Nano Lett. 2009, 9, 1374.
6. V. P. Gusynin, S. G. Sharapov, Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 146801.
7. K. S. Novoselov, E. McCann, S. V. Morozov, V. I. Fal'ko, M. I. Katsnelson, U. Zeitler, D. Jiang, F. Schedin, A. K. Geim, Nat. Phys. 2006, 2, 177.
8. K. Nakada, M. Fujita, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, Phys. Rev. B 1996, 54, 17954.
9. M. Ezawa, Phys. Rev. B 2006, 73, 045432.
10. J. Bai, X. Duan, Y. Huang, Nano Lett. 2009, 9, 2083.
11. G. Xu, C. M. Torres, J. Tang, J. Bai, E. B. Song, Y. Huang, X. Duan, Y. Zhang, K. L. Wang, Nano Lett. 2011, 11, 1082.
12. Y. Yang R. Murali, IEEE Electron Device Letters 2010, 31, 237.
13. K. S. Novoselov, D. Jiang, F. Schedin, T. J. Booth, V. V. Khotkevich, S. V. Morozov, A. K. Geim, Natl. Acad. Sci. USA. 2005, 102, 10451.
14. L. M. Viculis, J. J. Mack, R. B. Kaner, Science 2003, 299, 1361.
15. D. A. Dikin, S. Stankovich, E. J. Zimney, R. D. Piner, G. H. B. Dommett, G. Evmenenko, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Nature 2007, 448, 457.
16. Y. Hernandez, V. Nicolosi, M. Lotya, F. M. Blighe, Z. Y. Sun, S. De, I. T. McGovern, B. Holland, M. Byrne, Y. K. Gun'Ko, J. J. Boland, P. Niraj, G. Duesberg, S. Krishnamurthy, R. Goodhue, J. Hutchison, V. Scardaci, A. C. Ferrari, J. N. Coleman, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 563.
17. M. Lotya, Y. Hernandez, P. L. King, R. J. Smith, V. Nicolosi, L. S. Karisson, F. M. Blighe, S. De, Z. M. Wang, I. T. McGovern, G. S. Duesberg, J. N. Coleman, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 3611.
18. C. A. Di, D. C. Wei, G. Yu, Y. Q. Liu, Y. L. Guo, D. B. Zhu, Adv. Mater. 2008, 20, 3289.
19. X. Liang, Z. Fu, S. Y. Chou, Nano Lett. 2007, 7, 3840.
20. L. Song, L. Ci, W. Gao, P. M. Ajayan, ACS Nano 2009, 3, 1353.
21. X. Liang, A. S. P. Chang, Y. Zhang, B. D. Harteneck, H. Choo, D. L. Olynick, S. Cabrini, Nano Lett. 2008, 9, 467.
22. D. S. Li, W. Windl, N. P. Padture, Adv. Mater. 2009, 21, 1243.
23. M. Bieda, E. Beyer, A. F. Lasagni, J. Eng. Mater. Technol. 2010, 132, 031015.
24. A. F. Lasagni, J. L. Hendricks, C. M. Shaw, D. Yuan, D. C. Martin, S. Das, Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 9186.
25. T. Roch, E. Beyer, A. Lasagni, Diamond Relat. Mater. 2010, 19, 1472.
26. A. Lasagni, R. Cross, S. Graham, S. Das, Nanotechnology 2009, 20, 245305.
27. J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16 59.
28. J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 2658.
29. C. Larosa, E. Stura, R. Eggenhöffner, C. Nicolini, Materials 2009, 2, 1193.
30. S. I. Kudryashov, A. A. Thikhov, V. D. Zvorykin, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2010, 102, 493-499.
31. M. J. Allen, V. C. Tung, L. Gomez, Z. Xu, L. M. Chen, K. S. Nelson, C. W. Zhou, R. B. Kaner, Y. Yang, Adv. Mater. 2009, 21, 2098.
32. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J.-H. Ahn, P. Kim, J.-Y. Choi, B. H. Hong, Nature 2009, 457, 706.
33. M. S. Dresselhaus, A. Jorio, M. Hofmann, G. Dresselhaus, R. Saito, Nano Lett. 2010, 10, 751.
34. M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, L. G. Cancado, A. Jorio, R. Saito, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 1276.
35. G. Jo, M. Choe, C.-Y. Cho, J. H. Kim, W. Park, S. Lee, W.-K. Hong, T.-W. Kim, S.-J. Park, B. H. Hong, Y. H. Kahng, T. Lee, Nanotechnology 2010, 21 175201.
36. J. Jiang, R. Saito, G. G. Samsonidze, A. Jorio, S. G. Chou, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, Phys. Rev. B 2007, 75, 035407.
37. D. Graf, F. Molitor, K. Ensslin, C. Stampfer, A. Jungen, C. Hierold, L. Wirtz, Nano Lett. 2007, 7, 238.