-
1
-
-
79952604580
-
-
Gao, J.; Luther, J. M.; Semonin, O. E.; Ellington, R. J.; Nozik, A. J.; Beard, M. C. Nano Lett. 2011, 11, 1002-1008
-
(2011)
Nano Lett.
, vol.11
, pp. 1002-1008
-
-
Gao, J.1
Luther, J.M.2
Semonin, O.E.3
Ellington, R.J.4
Nozik, A.J.5
Beard, M.C.6
-
2
-
-
77956374951
-
-
Luther, J. M.; Gao, J.; Lloyd, M. T.; Semonin, O. E.; Beard, M. C.; Nozik, A. J. Adv. Mater. 2010, 22, 3704-3707
-
(2010)
Adv. Mater.
, vol.22
, pp. 3704-3707
-
-
Luther, J.M.1
Gao, J.2
Lloyd, M.T.3
Semonin, O.E.4
Beard, M.C.5
Nozik, A.J.6
-
3
-
-
77949498840
-
-
Chen, L.-M.; Xu, Z; Hong, Z.; Yang, Y. J. Mat. Chem. 2010, 20, 2575-2598
-
(2010)
J. Mat. Chem.
, vol.20
, pp. 2575-2598
-
-
Chen, L.-M.1
Xu, Z.2
Hong, Z.3
Yang, Y.4
-
4
-
-
72849107579
-
-
Choi, J. J.; Lim, Y.; Santiago-Berrios, M. B.; Oh, M.; Hyun, B.; Sun, L.; Bartnik, A. C.; Goedhart, A.; Malliaras, G. G.; Abruña, H. D.; Wise, F. W.; Hanrath, T. Nano Lett. 2009, 9, 3749-3755
-
(2009)
Nano Lett.
, vol.9
, pp. 3749-3755
-
-
Choi, J.J.1
Lim, Y.2
Santiago-Berrios, M.B.3
Oh, M.4
Hyun, B.5
Sun, L.6
Bartnik, A.C.7
Goedhart, A.8
Malliaras, G.G.9
Abruña, H.D.10
Wise, F.W.11
Hanrath, T.12
-
5
-
-
73249152793
-
-
Leschkies, K. S.; Beatty, T. J.; Kang, M. S.; Norris, D. J.; Aydil, E. S. ACS Nano 2009, 3, 3638-3648
-
(2009)
ACS Nano
, vol.3
, pp. 3638-3648
-
-
Leschkies, K.S.1
Beatty, T.J.2
Kang, M.S.3
Norris, D.J.4
Aydil, E.S.5
-
6
-
-
0030285624
-
-
Tokito, S.; Noda, K.; Taga, Y. J. Phys. D 1996, 29, 2750-2753
-
(1996)
J. Phys. D
, vol.29
, pp. 2750-2753
-
-
Tokito, S.1
Noda, K.2
Taga, Y.3
-
7
-
-
34248589605
-
-
Li, J. H.; Huang, J.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 173505
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 173505
-
-
Li, J.H.1
Huang, J.2
Yang, Y.3
-
8
-
-
80051633040
-
-
Matsushita, T.; Kinoshita, Y.; Murata, H. Appl. Phys. Lett. 2007, 9, 1253504
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.9
, pp. 1253504
-
-
Matsushita, T.1
Kinoshita, Y.2
Murata, H.3
-
9
-
-
80051646741
-
-
You, H; Da, Y.; Zhang, Z.; Ma, D. Org. Electron. 2008, 9, 985-993
-
(2008)
Org. Electron.
, vol.9
, pp. 985-993
-
-
You, H.1
Da, Y.2
Zhang, Z.3
Ma, D.4
-
10
-
-
69949125113
-
-
Kim, D. Y.; Subbiah, J.; Sarasqueta, G.; So, F.; Ding, H.; Irfan; Gao, Y. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 093304
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 093304
-
-
Kim, D.Y.1
Subbiah, J.2
Sarasqueta, G.3
So, F.4
Ding, H.5
Irfan6
Gao, Y.7
-
11
-
-
76749164975
-
-
Subbiah, J.; Kim, D. Y.; Hartel, M.; So, F. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 063303
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.96
, pp. 063303
-
-
Subbiah, J.1
Kim, D.Y.2
Hartel, M.3
So, F.4
-
12
-
-
56249149223
-
-
Tao, C.; Ruan, S.; Zhang, X.; Xie, G.; Shen, L.; Kong, X.; Dong, W.; Liu, C.; Chen, W. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 193307
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 193307
-
-
Tao, C.1
Ruan, S.2
Zhang, X.3
Xie, G.4
Shen, L.5
Kong, X.6
Dong, W.7
Liu, C.8
Chen, W.9
-
13
-
-
59349084720
-
-
Tao, C.; Ruan, S.; Zhang, X.; Xie, G.; Kong, X.; Shen, L.; Meng, F.; Liu, C.; Zhang, X.; Dong, W.; Chen, W. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 043311
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 043311
-
-
Tao, C.1
Ruan, S.2
Zhang, X.3
Xie, G.4
Kong, X.5
Shen, L.6
Meng, F.7
Liu, C.8
Zhang, X.9
Dong, W.10
Chen, W.11
-
14
-
-
33745478390
-
-
Li, G.; Chu, C. W.; Shrotriya, V.; Huang, J.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 253503
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 253503
-
-
Li, G.1
Chu, C.W.2
Shrotriya, V.3
Huang, J.4
Yang, Y.5
-
15
-
-
32944460137
-
-
Shrotriya, V.; Li, G.; Yao, Y.; Chu, C. W.; Yang, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 88, 073508
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 073508
-
-
Shrotriya, V.1
Li, G.2
Yao, Y.3
Chu, C.W.4
Yang, Y.5
-
16
-
-
77949498840
-
-
Chen, L. M.; Xu, Z.; Hong, Z.; Yang, Y. J. Mater. Chem. 2010, 20, 2575-2598
-
(2010)
J. Mater. Chem.
, vol.20
, pp. 2575-2598
-
-
Chen, L.M.1
Xu, Z.2
Hong, Z.3
Yang, Y.4
-
17
-
-
80051649701
-
-
To be submitted.
-
Semonin, O. E.; Luther, J. M.; Chen, H. Y.; Choi, S.; Gao, J.; Nozik, A. J.; Beard, M. C. To be submitted.
-
-
-
Semonin, O.E.1
Luther, J.M.2
Chen, H.Y.3
Choi, S.4
Gao, J.5
Nozik, A.J.6
Beard, M.C.7
-
18
-
-
72649086680
-
-
Cheung, C. H.; Song, W. J.; So, S. K. Org. Electron. 2010, 11, 89-94
-
(2010)
Org. Electron.
, vol.11
, pp. 89-94
-
-
Cheung, C.H.1
Song, W.J.2
So, S.K.3
-
19
-
-
76449117901
-
-
Kanai, K.; Koizumi, K.; Ouchi, S.; Tsukamoto, Y.; Sakanoue, K.; Ouchi, Y.; Seki, K. Org. Electron. 2010, 11, 188-194
-
(2010)
Org. Electron.
, vol.11
, pp. 188-194
-
-
Kanai, K.1
Koizumi, K.2
Ouchi, S.3
Tsukamoto, Y.4
Sakanoue, K.5
Ouchi, Y.6
Seki, K.7
-
20
-
-
77951035521
-
-
Woodhouse, M.; Perkins, C. L.; Rawls, M. T.; Cormier, R. A.; Liang, Z.; Nards, A. M.; Gregg, B. A. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 6784-6790
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 6784-6790
-
-
Woodhouse, M.1
Perkins, C.L.2
Rawls, M.T.3
Cormier, R.A.4
Liang, Z.5
Nards, A.M.6
Gregg, B.A.7
-
21
-
-
70349655699
-
-
Kröger, M.; Hamwi, S.; Meyer, J.; Riedl, T.; Kowalsky, W.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 123301
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 123301
-
-
Kröger, M.1
Hamwi, S.2
Meyer, J.3
Riedl, T.4
Kowalsky, W.5
Kahn, A.6
-
22
-
-
77950480181
-
-
Meyer, J.; Shu, A.; Kröger, M.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 133308
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.96
, pp. 133308
-
-
Meyer, J.1
Shu, A.2
Kröger, M.3
Kahn, A.4
-
23
-
-
77249149428
-
-
Irfan, H.; Ding, Y.; Gao, D. Y.; Kim, J.; Subbiah, F. So Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 073304
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.96
, pp. 073304
-
-
Irfan, H.1
Ding, Y.2
Gao, D.Y.3
Kim, J.4
Subbiah, F.S.5
-
24
-
-
77953806260
-
-
Irfan, H.; Ding, Y.; Gao, C.; Small, D. Y.; Kim, J.; Subbiah, F. So Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 243307
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.96
, pp. 243307
-
-
Irfan, H.1
Ding, Y.2
Gao, C.3
Small, D.Y.4
Kim, J.5
Subbiah, F.S.6
-
25
-
-
77958030848
-
-
Hancox, I.; Sullivan, P.; Chauhan, K. V.; Beaumount., N.; Rochford, L.A.; Hatton, R. A.; Joes, T. S. Org. Electron 2010, 11, 2019-2025
-
(2010)
Org. Electron
, vol.11
, pp. 2019-2025
-
-
Hancox, I.1
Sullivan, P.2
Chauhan, K.V.3
Beaumount, N.4
Rochford, L.A.5
Hatton, R.A.6
Joes, T.S.7
|