Electrochemical stability of self-assembled alkylphosphate monolayers on conducting metal oxides

Langmuir

Volumn 27, Issue 16, 2011, Pages 9890-9894

  Yildirim, Oktay ^a   Yilmaz, M Deniz ^a   Reinhoudt, David N ^a   Blank, Dave H A ^a   Rijnders, Guus ^a   Huskens, Jurriaan ^a  

^a UNIVERSITY OF TWENTE   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONDUCTING METAL OXIDES; CONDUCTING SUBSTRATES; ELECTROCHEMICAL ACTIVITIES; ELECTROCHEMICAL STABILITIES; IMPEDANCE SPECTROSCOPY; NB-DOPED SRTIO; SAMS; SELF-ASSEMBLED; VOLTAGE RANGES;

CYCLIC VOLTAMMETRY; METALLIC COMPOUNDS; NIOBIUM; SUBSTRATES;

SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

EID: 80051517296     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la200925v     Document Type: Article

References (47)

1. Finklea, H. O.; Robinson, L. R.; Blackburn, A.; Richter, B.; Allara, D.; Bright, T. Langmuir 1986, 2, 239-244
2. Sabatani, E.; Rubinstein, I. J. Phys. Chem. 1987, 91, 6663-6669
3. Shervedani, R. K.; Hatefi-Mehrjardi, A.; Babadi, M. K. Electrochim. Acta 2007, 52, 7051-7060
4. Jedaa, A.; Burkhardt, M.; Zschieschang, U.; Klauk, H.; Habich, D.; Schmid, G.; Halik, M. Org. Electron. 2009, 10, 1442-1447
5. Campuzano, S.; Pedrero, M.; Montemayor, C.; Fatas, E.; Pingarron, J. M. J. Electroanal. Chem. 2006, 586, 112-121
6. Ganesh, V.; Pal, S. K.; Kumar, S.; Lakshminarayanan, V. J. Colloid Interface Sci. 2006, 296, 195-203
7. Quinones, R.; Gawalt, E. S. Langmuir 2008, 24, 10858-10864
8. Diao, P.; Jiang, D. L.; Cui, X. L.; Gu, D. P.; Tong, R. T.; Zhong, B. J. Electroanal. Chem. 1999, 464, 61-67
9. Finklea, H. O.; Snider, D. A.; Fedyk, J. Langmuir 1990, 6, 371-376
10. Porter, M. D.; Bright, T. B.; Allara, D. L.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 3559-3568
11. Finklea, H. O.; Avery, S.; Lynch, M.; Furtsch, T. Langmuir 1987, 3, 409-413
12. Janek, R. P.; Fawcett, W. R.; Ulman, A. Langmuir 1998, 14, 3011-3018
13. Ma, H. Y.; Yang, C.; Chen, S. H.; Jiao, Y. L.; Huang, S. X.; Li, D. G.; Luo, J. L. Electrochim. Acta 2003, 48, 4277-4289
14. Rubinstein, I.; Steinberg, S.; Tor, Y.; Shanzer, A.; Sagiv, J. Nature 1988, 332, 426-429
15. Onclin, S.; Ravoo, B. J.; Reinhoudt, D. N. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 6282-6304
16. Schreiber, F. Prog. Surf. Sci. 2000, 65, 151-256
17. Acton, B. O.; Ting, G. G.; Shamberger, P. J.; Ohuchi, F. S.; Ma, H.; Jen, A. K. Y. ACS Appl. Mater. Interf. 2010, 2, 511-520
18. Adadi, R.; Zorn, G.; Brener, R.; Gotman, I.; Gutmanas, E. Y.; Sukenik, C. N. Thin Solid Films 2010, 518, 1966-1972
19. Allara, D. L.; Nuzzo, R. G. Langmuir 1985, 1, 45-52
20. Allara, D. L.; Nuzzo, R. G. Langmuir 1985, 1, 52-66
21. Amalric, J.; Mutin, P. H.; Guerrero, G.; Ponche, A.; Sotto, A.; Lavigne, J. P. J. Mater. Chem. 2009, 19, 141-149
22. Bozzini, S.; Petrini, P.; Tanzi, M. C.; Zurcher, S.; Tosatti, S. Langmuir 2010, 26, 6529-6534
23. Klauk, H.; Zschieschang, U.; Pflaum, J.; Halik, M. Nature 2007, 445, 745-748
24. Kropman, B. L.; Blank, D. H. A.; Rogalla, H. Langmuir 2000, 16, 1469-1472
25. Messerschmidt, C.; Schwartz, D. K. Langmuir 2001, 17, 462-467
26. Mitchon, L. N.; White, J. M. Langmuir 2006, 22, 6549-6554
27. Paramonov, P. B.; Paniagua, S. A.; Hotchkiss, P. J.; Jones, S. C.; Armstrong, N. R.; Marder, S. R.; Bredas, J. L. Chem. Mater. 2008, 20, 5131-5133
28. Paszternak, A.; Felhosi, I.; Paszti, Z.; Kuzmann, E.; Vertes, A.; Kalman, E.; Nyikos, L. Electrochim. Acta 2010, 55, 804-812
29. Sekitani, T.; Yokota, T.; Zschieschang, U.; Klauk, H.; Bauer, S.; Takeuchi, K.; Takamiya, M.; Sakurai, T.; Someya, T. Science 2009, 326, 1516-1519
30. Sun, S. Q.; Leggett, G. J. Nano Lett. 2007, 7, 3753-3758
31. Textor, M.; Ruiz, L.; Hofer, R.; Rossi, A.; Feldman, K.; Hahner, G.; Spencer, N. D. Langmuir 2000, 16, 3257-3271
32. Wang, D. H.; Ni, Y. H.; Huo, Q.; Tallman, D. E. Thin Solid Films 2005, 471, 177-185
33. Yasseri, A. A.; Kobayashi, N. P.; Kamins, T. I. Appl. Phys. A: Mater. 2006, 84, 1-5
34. Yildirim, O.; Gang, T.; Kinge, S.; Reinhoudt, D. N.; Blank, D. H. A.; van der Wiel, W. G.; Rijnders, G.; Huskens, J. Int. J. Mol. Sci. 2010, 11, 1162-1179
35. Gawalt, E. S.; Avaltroni, M. J.; Koch, N.; Schwartz, J. Langmuir 2001, 17, 5736-5738
36. Gnauck, M.; Jaehne, E.; Blaettler, T.; Tosatti, S.; Textor, M.; Adler, H. J. P. Langmuir 2007, 23, 377-381
37. Hahner, G.; Hofer, R.; Klingenfuss, I. Langmuir 2001, 17, 7047-7052
38. Liakos, I. L.; Newman, R. C.; McAlpine, E.; Alexander, M. R. Langmuir 2007, 23, 995-999
39. Pawsey, S.; Yach, K.; Reven, L. Langmuir 2002, 18, 5205-5212
40. Mekhalif, Z.; Riga, J.; Pireaux, J. J.; Delhalle, J. Langmuir 1997, 13, 2285-2290
41. Hobara, D.; Ota, M.; Imabayashi, S.; Niki, K.; Kakiuchi, T. J. Electroanal. Chem. 1998, 444, 113-119
42. Schneider, T. W.; Buttry, D. A. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12391-12397
43. Walczak, M. M.; Popenoe, D. D.; Deinhammer, R. S.; Lamp, B. D.; Chung, C. K.; Porter, M. D. Langmuir 1991, 7, 2687-2693
44. Beulen, M. W. J.; Kastenberg, M. I.; van Veggel, F.; Reinhoudt, D. N. Langmuir 1998, 14, 7463-7467
45. Goykhman, I.; Korbakov, N.; Bartic, C.; Borghs, G.; Spira, M. E.; Shappir, J.; Yitzchaik, S. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 4788-4794
46. Spori, D. M.; Venkataraman, N. V.; Tosatti, S. G. P.; Durmaz, F.; Spencer, N. D.; Zurcher, S. Langmuir 2007, 23, 8053-8060
47. van der Marel, C.; Yildirim, M.; Stapert, H. R. J. Vac. Sci. Technol. A 2005, 23, 1456-1470