-
2
-
-
0029346154
-
-
jjcJAPLD80021-4922
-
S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. Nagahama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L797 (1995). jjcJAPLD80021-4922
-
(1995)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.34
, pp. 797
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Iwasa, N.3
Nagahama, S.4
-
3
-
-
0043100979
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyoku, Y. Sugimoto, T. Kozaki, H. Umemoto, M. Sano, and K. Chocho, Appl. Phys. Lett. 72, 211 (1998). aplAPPLAB0003-6951
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 211
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Nagahama, S.3
Iwasa, N.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Kiyoku, H.7
Sugimoto, Y.8
Kozaki, T.9
Umemoto, H.10
Sano, M.11
Chocho, K.12
-
5
-
-
0001091792
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
F. Bertram, S. Srinivasan, F. A. Ponce, T. Riemann, J. Christen, and R. J. Molnar, Appl. Phys. Lett. 78, 1222 (2001). aplAPPLAB0003-6951
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 1222
-
-
Bertram, F.1
Srinivasan, S.2
Ponce, F.A.3
Riemann, T.4
Christen, J.5
Molnar, R.J.6
-
6
-
-
0029637531
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
S. D. Lester, F. A. Ponce, M. G. Craford, and D. A. Steigerwald, Appl. Phys. Lett. 66, 1249 (1995). aplAPPLAB0003-6951
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, pp. 1249
-
-
Lester, S.D.1
Ponce, F.A.2
Craford, M.G.3
Steigerwald, D.A.4
-
7
-
-
0000705035
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
D. P. Bour, N. M. Nickel, C. G. Van de Walle, M. S. Kneissl, B. S. Krusor, P. Mei, and N. M. Johnson, Appl. Phys. Lett. 76, 2182 (2000). aplAPPLAB0003-6951
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 2182
-
-
Bour, D.P.1
Nickel, N.M.2
Van De Walle, C.G.3
Kneissl, M.S.4
Krusor, B.S.5
Mei, P.6
Johnson, N.M.7
-
8
-
-
0030079777
-
-
jjbJAPNDE0021-4922
-
M. Kondow, K. Uomi, A. Niwa, T. Kitatani, S. Watahiki, and Y. Yazawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1273 (1996). jjbJAPNDE0021-4922
-
(1996)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.35
, pp. 1273
-
-
Kondow, M.1
Uomi, K.2
Niwa, A.3
Kitatani, T.4
Watahiki, S.5
Yazawa, Y.6
-
10
-
-
0030289447
-
-
ellELLEAK0013-5194
-
M. Kondow, S. Nakatsuka, T. Kitatani, Y. Yazawa, and M. Okai, Electron. Lett. 32, 2244 (1996). ellELLEAK0013-5194
-
(1996)
Electron. Lett.
, vol.32
, pp. 2244
-
-
Kondow, M.1
Nakatsuka, S.2
Kitatani, T.3
Yazawa, Y.4
Okai, M.5
-
11
-
-
0001411536
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
R. Kuroiwa, H. Asahi, K. Asami, S.-J. Kim, K. Iwata, and S. Gonda, Appl. Phys. Lett. 73, 2630 (1998). aplAPPLAB0003-6951
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.73
, pp. 2630
-
-
Kuroiwa, R.1
Asahi, H.2
Asami, K.3
Kim, S.-J.4
Iwata, K.5
Gonda, S.6
-
12
-
-
0001605884
-
-
jjbJAPNDE0021-4922
-
K. Iwata, H. Asahi, K. Asami, R. Kuroiwa, and S. Gonda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 1436 (1998). jjbJAPNDE0021-4922
-
(1998)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.37
, pp. 1436
-
-
Iwata, K.1
Asahi, H.2
Asami, K.3
Kuroiwa, R.4
Gonda, S.5
-
14
-
-
0035886078
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
S. A. Canales-Pozos, D. Rios-Jara, O. Alvarez-Fregoso, M. A. Alvarez-Perez, M. Garcia-Hipolito, E. Martinez-Sanchez, J. A. Juarez-Islas, O. Zelaya-Angel, and J. G. Mendoza-Alvarez, Appl. Phys. Lett. 79, 2555 (2001). aplAPPLAB0003-6951
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.79
, pp. 2555
-
-
Canales-Pozos, S.A.1
Rios-Jara, D.2
Alvarez-Fregoso, O.3
Alvarez-Perez, M.A.4
Garcia-Hipolito, M.5
Martinez-Sanchez, E.6
Juarez-Islas, J.A.7
Zelaya-Angel, O.8
Mendoza-Alvarez, J.G.9
-
15
-
-
0034341692
-
-
psbPSSBBD0370-1972
-
O. Alvarez-Fregoso, J. A. Juarez-Islas, O. Zelaya-Angel, and J. G. Mendoza-Alvarez, Phys. Status Solidi B 220, 59 (2000). psbPSSBBD0370-1972
-
(2000)
Phys. Status Solidi B
, vol.220
, pp. 59
-
-
Alvarez-Fregoso, O.1
Juarez-Islas, J.A.2
Zelaya-Angel, O.3
Mendoza-Alvarez, J.G.4
-
16
-
-
0035821089
-
-
aplAPPLAB0003-6951
-
K. Yamada, H. Asahi, H. Tampo, Y. Imanishi, K. Ohnishi, and K. Asami, Appl. Phys. Lett. 78, 2849 (2001). aplAPPLAB0003-6951
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 2849
-
-
Yamada, K.1
Asahi, H.2
Tampo, H.3
Imanishi, Y.4
Ohnishi, K.5
Asami, K.6
-
17
-
-
0003680984
-
-
edited by L. I. Maissel and R. Glang (McGraw-Hill, New York) Cha 4
-
L. I. Maissel, in Handbook of Thin Films Technology, edited by L. I. Maissel and R. Glang (McGraw-Hill, New York, 1970), Chap. 4.
-
(1970)
Handbook of Thin Films Technology
-
-
Maissel, L.I.1
|