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Physical Chemistry Chemical Physics

Volumn 13, Issue 11, 2011, Pages 4881-4887

Selective layer-by-layer self-assembly on patterned porous films modulated by Cassie-Wenzel transition

(5) Ke, Bei Bei a Wan, Ling Shu a Li, Yang a Xu, Ming Yao a Xu, Zhi Kang a

a ZHEJIANG UNIVERSITY (China)

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ALGINIC ACID; CHITOSAN; GLUCURONIC ACID; HEXURONIC ACID; METHACRYLIC ACID DERIVATIVE; NYLON; POLY(2 (DIMETHYLAMINO)ETHYL METHACRYLATE); POLY(2-(DIMETHYLAMINO)ETHYL METHACRYLATE); POLYSTYRENE DERIVATIVE;

ARTICLE; CHEMISTRY; POROSITY;

ALGINATES; CHITOSAN; GLUCURONIC ACID; HEXURONIC ACIDS; METHACRYLATES; NYLONS; POLYSTYRENES; POROSITY;

EID: 79952163570 PISSN: 14639076 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c0cp01229g Document Type: Article

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