Spectroscopic studies of electron injection in quantum dot sensitized mesoporous oxide films

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 44, 2010, Pages 18866-18873

  Pijpers, J J H ^a   Koole, R ^b,d   Evers, W H ^b   Houtepen, A J ^c   Boehme, S ^a   De Mello Donega C ^b   Vanmaekelbergh, D ^b   Bonn, M ^a  

^a FOM INSTITUTE AMOLF   (Netherlands)

^b UTRECHT UNIVERSITY   (Netherlands)

^c DELFT UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^d PHILIPS RESEARCH LABORATORIES   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARRIER RECOMBINATION; CLUSTER FORMATIONS; CONDUCTION BAND EDGE; CURRENT-VOLTAGE MEASUREMENTS; EFFICIENT DESIGNS; INTERFACIAL CHARGE TRANSFER; MESOPOROUS FILMS; MESOPOROUS OXIDE FILMS; NONRADIATIVE RECOMBINATION PROCESS; OXIDE SURFACE; OXIDE SYSTEMS; PHOTOGENERATED CARRIERS; QUANTUM DOT; QUANTUM DOTS; SPECTROSCOPIC SIGNATURES; SPECTROSCOPIC STUDIES; TEM; TEM IMAGES; TERAHERTZ TIME DOMAIN SPECTROSCOPY; THZ-TDS; TIME-RESOLVED LUMINESCENCE; TIME-RESOLVED OPTICAL MEASUREMENT; TIME-SCALES; TIO; TRANSIENT ABSORPTION;

ABSORPTION SPECTROSCOPY; CHARGE TRANSFER; ELECTRON INJECTION; ELECTRON MOBILITY; ELECTRONS; EXPERIMENTS; ION EXCHANGE; LASER PULSES; LUMINESCENCE; MESOPOROUS MATERIALS; OPTICAL DATA PROCESSING; OPTICAL VARIABLES MEASUREMENT; OPTIMIZATION; PHOTOEXCITATION; SEMICONDUCTOR QUANTUM DOTS; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; TERAHERTZ SPECTROSCOPY; TIME MEASUREMENT; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; VOLTAGE MEASUREMENT;

OXIDE FILMS;

EID: 78149278387     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp108165g     Document Type: Article

References (53)

1. Nozik, A. J. Physica E 2002, 14, 115-120
2. Leschkies, K. S.; Divakar, R.; Basu, J.; Enache-Pommer, E.; Boercker, J. E.; Carter, C. B.; Kortshagen, U. R.; Norris, D. J.; Aydil, E. S. Nano Lett. 2007, 7, 1793-1798
3. Choi, J. J.; Lim, Y.-F.; Santiago-Berrios, M. E. B.; Oh, M.; Hyun, B.-R.; Sun, L.; Bartnik, A. C.; Goedhart, A.; Malliaras, G. G.; AbrunÌa, H. D.; Wise, F. W.; Hanrath, T. Nano Lett. 2009, 9, 3749-3755
4. Huynh, W. U.; Dittmer, J. J.; Alivisatos, A. P. Science 2002, 295, 2425-2427
5. Kongkanand, A.; Tvrdy, K.; Takechi, K.; Kuno, M.; Kamat, P. V. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 4007-4015
6. Pandey, A.; Guyot-Sionnest, P. Science 2008, 322, 929-932
7. Trinh, M. T.; Houtepen, A. J.; Schins, J. M.; Hanrath, T.; Piris, J.; Knulst, W.; Goossens, A.; Siebbeles, L. D. A. Nano Lett. 2008, 8, 1713-1718
8. McGuire, J. A.; Joo, J.; Pietryga, J. M.; Schaller, R. D.; Klimov, V. I. Acc. Chem. Res. 2008, 41, 1810-1819
9. Pijpers, J. J. H.; Ulbricht, R.; Tielrooij, K. J.; Osherov, A.; Golan, Y.; Delerue, C.; Allan, G.; Bonn, M. Nature Phys. 2009, 5, 811-814
10. Nair, G.; Geyer, S. M.; Chang, L.-Y.; Bawendi, M. G. Phys. Rev. B 2008, 78, 125325-125310
11. Robel, I.; Subramanian, V.; Kuno, M.; Kamat, P. V. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 2385-2393
12. HyoJoong, L.; Leventis, H. C.; Moon, S.-J.; Chen, P.; Ito, S.; Haque, S. A.; Torres, T.; Nüesch, F. A. J.; Geiger, T.; Zakeeruddin, S. M.; Grätzel, M.; Nazeeruddin, M. K. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2735-2742
13. Lee, H. J.; Chen, P.; Moon, S.-J.; Sauvage, F.; Sivula, K.; Bessho, T.; Gamelin, D. R.; Comte, P.; Zakeeruddin, S. M.; Seok, S. I.; Grätzel, M.; Nazeeruddin, M. K. Langmuir 2009, 25, 7602-7608
14. Leventis, H. C.; O'Mahony, F.; Akhtar, J.; Afzaal, M.; O'Brien, P.; Haque, S. A. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 2743-2750
15. O'Regan, B.; Gratzel, M. Nature 1991, 353, 737-740
16. Tachibana, Y.; Akiyama, H. Y.; Ohtsuka, Y.; Torimoto, T.; Kuwabata, S. Chem. Lett. 2007, 36, 88-89
17. Tisdale, W. A.; Williams, K. J.; Timp, B. A.; Norris, D. J.; Aydil, E. S.; Zhu, X. Y. Science 2010, 328, 1543-1547
18. Sambur, J. B.; Novet, T.; Parkinson, B. A. Science 2010, 330, 63-66
19. Schaller, R. D.; Pietryga, J. M.; Goupalov, S. V.; Petruska, M. A.; Ivanov, S. A.; Klimov, V. I. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 196401-196404
20. Hyun, B.-R.; Bartnik, A. C.; Lee, J.-K.; Imoto, H.; Sun, L.; Choi, J. J.; Chujo, Y.; Hanrath, T.; Ober, C. K.; Wise, F. W. Nano Lett. 2009, 10, 318-323
21. Loef, R.; Houtepen, A. J.; Talgorn, E.; Schoonman, J.; Goossens, A. Nano Lett. 2009, 9, 856-859
22. Tachibana, Y.; Umekita, K.; Otsuka, Y.; Kuwabata, S. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 6852-6858
23. Blackburn, J. L.; Selmarten, D. C.; Nozik, A. J. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 14154-14157
24. Plass, R.; Pelet, S.; Krueger, J.; Grätzel, M.; Bach, U. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 7578-7580
25. Shalom, M.; Rühle, S.; Hod, I.; Yahav, S.; Zaban, A. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 9876-9877
26. Yu, P. R.; Zhu, K.; Norman, A. G.; Ferrere, S.; Frank, A. J.; Nozik, A. J. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 25451-25454
27. Hyun, B.-R.; Zhong, Y.-W.; Bartnik, A. C.; Sun, L.; AbrunÌa, H. D.; Wise, F. W.; Goodreau, J. D.; Matthews, J. R.; Leslie, T. M.; Borrelli, N. F. ACS Nano 2008, 2, 2206-2212
28. Bang, J. H.; Kamat, P. V. ACS Nano 2009, 3, 1467-1476
29. Houtepen, A. J.; Koole, R.; Vanmaekelbergh, D. L.; Meeldijk, J.; Hickey, S. G. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 6792-6793
30. Beard, M. C.; Turner, G. M.; Schmuttenmaer, C. A. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 7146-7159
31. Zhang, X. C.; Jin, Y.; Ma, X. F. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 2764-2766
32. Planken, P. C. M.; Nienhuys, H.-K.; Bakker, H. J.; Wenckebach, T. J. Opt. Soc. Am. B 2001, 18, 313-317
33. Robel, I.; Kuno, M.; Kamat, P. V. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 4136-4137
34. Lee, H. J.; Yum, J.-H.; Leventis, H. C.; Zakeeruddin, S. M.; Haque, S. A.; Chen, P.; Seok, S. I.; Grätzel, M.; Nazeeruddin, M. K. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 11600-11608
35. Redmond, G.; Fitzmaurice, D. J. Phys. Chem. 1993, 97, 1426-1430
36. Acharya, K. P.; Alabi, T. R.; Schmall, N.; Hewa-Kasakarage, N. N.; Kirsanova, M.; Nemchinov, A.; Khon, E.; Zamkov, M. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 19531-19535
37. Dibbell, R. S.; Youker, D. G.; Watson, D. F. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 18643-18651
38. Jeon, T.-I.; Grischkowsky, D. Phys. Rev. Lett. 1997, 78, 1106
39. Hendry, E.; Koeberg, M.; O'Regan, B.; Bonn, M. Nano Lett. 2006, 6, 755-759
40. Hendry, E.; Wang, F.; Shan, J.; Heinz, T. F.; Bonn, M. Phys. Rev. B 2004, 69
41. Wang, F.; Shan, J.; Islam, M. A.; Herman, I. P.; Bonn, M.; Heinz, T. F. Nat. Mater. 2006, 5, 861-864
42. Hendry, E.; Koeberg, M.; Wang, F.; Zhang, H.; Donega, C. d. M.; Vanmaekelbergh, D.; Bonn, M. Phys. Rev. Lett. 2006, 96 057408-057404
43. Dakovski, G. L.; Lan, S.; Xia, C.; Shan, J. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 5904-5908
44. Beard, M. C.; Turner, G. M.; Murphy, J. E.; Micic, O. I.; Hanna, M. C.; Nozik, A. J.; Schmuttenmaer, C. A. Nano Lett. 2003, 3, 1695-1699
45. Madelung, O. Semiconductors: Data Handbook, 3rd ed.; Springer Verlag: New York, 2003; Vol. 17.
46. Knoesel, E.; Bonn, M.; Shan, J.; Wang, F.; Heinz, T. F. J. Chem. Phys. 2004, 121, 394-404
47. Nienhuys, H. K.; Sundstrom, V. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 012101-012103
48. Yu, D.; Wang, C. J.; Guyot-Sionnest, P. Science 2003, 300, 1277-1280
49. Houtepen, A. J.; Kockmann, D.; Vanmaekelbergh, D. l. Nano Lett. 2008, 8, 3516-3520
50. Choi, J. J.; Luria, J.; Hyun, B.-R.; Bartnik, A. C.; Sun, L.; Lim, Y.-F.; Marohn, J. A.; Wise, F. W.; Hanrath, T. Nano Lett. 2010, 10, 1805-1811
51. Wuister, S. F.; Koole, R.; Donega, C. D.; Meijerink, A. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 5504-5508
52. Koole, R.; Liljeroth, P.; Donega, C. D.; Vanmaekelbergh, D.; Meijerink, A. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 10436-10441
53. Gratzel, M. Nature 2001, 414, 338-344