Flexible, polymer-supported, si wire array photoelectrodes

Advanced Materials

Volumn 22, Issue 30, 2010, Pages 3277-3281

  Spurgeon, Joshua M ^a   Boettcher, Shannon W ^a   Kelzenberg, Michael D ^b   Brunschwig, Bruce S ^a   Atwater, Harry A ^b   Lewis, Nathan S ^a  

^a California Institute of Technology   (United States)

^b California Institute of Technology   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CRYSTALLINE SI; CURRENT-POTENTIAL; DIFFUSION LENGTH; GROWTH SUBSTRATES; PHOTO-ELECTRODES; POLYMER-SUPPORTED; PROCESSABLE; SI WIRE ARRAY; TRANSPARENT POLYMER FILMS;

CRYSTALLINE MATERIALS; POLYMERS; SILICON; WIRE;

POLYMER FILMS;

NANOWIRE; POLYMER; SILICON;

ARTICLE; CHEMISTRY; CRYSTALLIZATION; DIFFUSION; ELECTROCHEMISTRY; INSTRUMENTATION; METHODOLOGY; MICROELECTRODE; NANOTECHNOLOGY; PHOTOCHEMISTRY; PLIABILITY;

CRYSTALLIZATION; DIFFUSION; ELECTROCHEMISTRY; MICROELECTRODES; NANOTECHNOLOGY; NANOWIRES; PHOTOCHEMISTRY; PLIABILITY; POLYMERS; SILICON;

EID: 77955405209     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201000602     Document Type: Article

References (25)

1. B. M. Kayes, H. A. Atwater, N. S. Lewis, J. Appl. Phys. 2005, 97.
2. V. Schmidt, J. V. Wittemann, U. Gosele, Chem. Rev. 2010, 110, 361.
3. L. J. Lauhon, M. S. Gudiksen, D. Wang, C. M. Lieber, Nature 2002, 420, 57.
4. J. R. Maiolo, B. M. Kayes, M. A. Filler, M. C. Putnam, M. D. Kelzenberg, H. A. Atwater, N. S. Lewis, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 12346.
5. A. P. Goodey, S. M. Eichfeld, K. K. Lew, J. M. Redwing, T. E. Mallouk, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 12344.
6. B. Z. Tian, X. L. Zheng, T. J. Kempa, Y. Fang, N. F. Yu, G. H. Yu, J. L Huang, C. M. Lieber, Nature 2007, 449, 885.
7. L. Tsakalakos, J. Balch, J. Fronheiser, B. A. Korevaar, O. Sulima, J. Rand, Appl. Phys. Lett. 2007, 97.
8. E. C. Garnett, P. D. Yang, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 9224.
9. T. Stelzner, M. Pietsch, G. Andra, F. Falk, E. Ose, S. Christiansen, Nanotechnology 2008, 19.
10. Z. Y. Fan, H. Razavi, J. W. Do, A. Moriwaki, O. Ergen, Y. L. Chueh, P. W. Leu, J. C. Ho, T. Takahashi, L. A. Reichertz, S. Neale, K. Yu, M. Wu, J. W. Ager, A. Javey, Nat. Mater. 2009, 8, 648.
11. B. M. Kayes, M. A. Filler, M. C. Putnam, M. D. Kelzenberg, N. S. Lewis, H. A. Atwater, Appl. Phys. Lett. 2007, 97.
12. K. E. Plass, M. A. Filler, J. M. Spurgeon, B. M. Kayes, S. Maldonado, B. S. Brunschwig, H. A. Atwater, N. S. Lewis, Adv. Mater. 2009, 21, 325.
13. J. M. Spurgeon, K. E. Plass, B. M. Kayes, B. S. Brunschwig, H. A. Atwater, N. S. Lewis, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 032112.
14. R. S. Wagner, W. C. Ellis, Appl. Phys. Lett. 1964, 4, 89.
15. J. R. Davis, A. Rohatgi, R. H. Hopkins, P. D. Biais, P. Raichoudhury, J. R. McCormick, H. C. Mollenkopf, IEEE Trans. Electron Devices 1980, 27, 677.
16. M. C. Putnam, D. B. Turner-Evans, M. D. Kelzenberg, S. W. Boettcher, N. S. Lewis, H. A. Atwater, Appl. Phys. Lett. 2009, 95.
17. S. W. Boettcher, J. M. Spurgeon, M. C. Putnam, E. L. Warren, D. B. Turner-Evans, M. D. Kelzenberg, J. R. Maiolo, H. A. Atwater, N. S. Lewis, Science 2010, 327, 185.
18. D. C. Bookbinder, N. S. Lewis, M. G. Bradley, A. B. Bocarsly, M. S. Wrighton, J. Am. Chem. Soc. 1979, 101, 7721.
19. E. S. Kooij, R. W. Despo, F. P. J. Mulders, J. J. Kelly, J. Electroanal. Chem. 1996, 406, 139.
20. J. F. Stargardt, F. M. Hawkridge, Anal. Chim. Ada 1983, 146, 1.
21. H. R. Philipp, E. A. Taft, Phys. Rev. 1960, 120, 37.
22. J. M. Spurgeon, H. A. Atwater, N. S. Lewis, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 6186.
23. A. J. Bard, L. R. Faulkner, Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, John Wiley & Sons, New York 2001.
24. M. D. Kelzenberg, S. W. Boettcher, J. A. Petykiewicz, D. B. Turner-Evans, M. C. Putnam, E. L. Warren, J. M. Spurgeon, R. M. Briggs, N. S. Lewis, H. A. Atwater, Nat: Mater. 2010, 9, 239.
25. oc = 428 mV. The result is η = 5.2%.