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Volumn 56, Issue 5, 2010, Pages 1497-1499

Investigation of the Ru-Zr metal alloy for use as a gate electrode in NMOS devices

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Co sputtering; Gate metal; Ruthenium; Work function; Zirconium

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EID: 77954841265     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.56.1497     Document Type: Article
Times cited : (2)

References (11)
  • 1
    • 0031122158 scopus 로고    scopus 로고
    • Y. Taur et al., Proc. IEEE 85, 486 (1997).
    • (1997) Proc. IEEE , vol.85 , pp. 486
    • Taur, Y.1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.