Peculiarities of electrochemical bismuth film formation in the presence of bromide and heavy metal ions

Electroanalysis

Volumn 21, Issue 15, 2009, Pages 1743-1749

  Grinciene, Giedre ^a   Selskiene, Aušra ^a   Verbickas, Rolandas ^a   Norkus, Eugenijus ^a   Pauliukaite, Rasa ^a,b  

^a CENTER FOR PHYSICAL SCIENCES AND TECHNOLOGY   (Lithuania)

^b UNIVERSITY OF COIMBRA   (Portugal)

Author keywords

Bi film; Bismuth; Co deposition of metals; Intermetallic compounds; Scanning electron microscopy; Thin films

Indexed keywords

BISMUTH; BROMINE COMPOUNDS; CARBON FILMS; CYCLIC VOLTAMMETRY; DEPOSITION; GLASS MEMBRANE ELECTRODES; METAL IONS; POTASSIUM COMPOUNDS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; THIN FILMS;

BI FILMS; BISMUTH FILM; CO-DEPOSITION OF METAL; CODEPOSITION; DEPOSITION OF METALS; ELECTROCHEMICALS; FILM FORMATIONS; INTERMETALLICS COMPOUNDS; SQUARE-WAVE; THIN-FILMS;

INTERMETALLICS;

EID: 69949185539     PISSN: 10400397     EISSN: 15214109     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/elan.200904659     Document Type: Article

References (54)

1. K. Schwabe, Z. Elektrochem. 1949, 53, 125.
2. K. Schwabe, B. Philipp, Z. Elektrochem. 1951, 55, 411.
3. J. Wang, J. Lu, S. B. Hocevar, P. A.M. Farias, B. Ogorevc, Anal. Chem. 2000, 72, 3218.
4. A Economou, P. R. Fielden, Analyst 2003, 128, 205.
5. A Economou, Trends Anal. Chem. 2005, 24, 334.
6. J. Wang, Electroanalysis 2005, 17, 1341.
7. I. Svancara, K. Vytras, Chem. Listy (in Czech) 2006, 100, 90.
8. A. Charalambous, A. Economou, Anal. Chim. Acta 2005, 547, 53.
9. J. Wang, R. P. Deo, S. Thongngamdee, B. Ogorevc, Electroanalysis 2001, 13, 1153.
10. J. Wang, J. Lu, Ü. A. Kirgös, S. B. Hoĉevar, B. Ogorevc, Anal. Chim. Acta 2001, 434, 29.
11. J. Wang, Ü. A. Kirgös, J. Lu, Electrochem. Commun. 2001, 3, 703.
12. S. B. Hocevar, B. Ogorevc, J. Wang, B. Pihlar, Electroanalysis 2002, 14, 1707.
13. E. A. Hutton, S. B. Hocevar, B. Ogorevc, M. R. Smyth, Electrochem. Commun. 2003, 5, 765.
14. G. Kefala, A. Economou, A. Voulgaropoulos, M. Sofoniou, Talanta 2003, 61, 603.
15. C. E. Banks, J. Kruusma, R. R. Moore, P. Tomcik, J. Peters, J. Davis, S. Koromsky-Lovric, R. G. Compton, Talanta 2005, 65, 423.
16. L. Baldrianova, I. Svancara, M. Vlcek, A Economou, S. Sotiropoulos, Electrochim. Acta 2006, 52, 481
17. E. A. Hutton, J. T. van Elteren, B. Ogorevc, M. R. Smyth, Talanta 2004, 63, 849.
18. V. Rehacek, I. Hotovy, M. Vojs, Sens. Actuators B 2007, 127, 193.
19. E. A. Hutton, S. B. Hocevar, B. Ogorevc, M. R. Smyth, Electrochem. Commun. 2003, 5, 765.
20. E. A. Hutton, S. B. Hocevar, B. Ogorevc, Anal. Chim. Acta 2005, 537, 285.
21. M. Morfobos, A. Economou, A. Voulgaropoulos, Anal. Chim. Acta 2004, 519, 57
22. R. O. Kadara, I. E. Tothill, Anal. Bioanal. Chem. 2004, 378, 770.
23. G. Kefala, A. Economou, M. Sofoniou, Talanta 2006, 68, 1013.
24. A. Krolicka, Bobrowski, K. Kalcher, J. Mocak, I. Svancara, K. Vytras, Electroanalysis 2003, 15, 1859.
25. L. Lin, N. S. Lawrence, S. Thongngnamdee, J. Wang, Y. Lin, Talanta 2005, 65, 144.
26. S. B. Hocevar, J. Wang, R. P. Deo, B. Ogorevc, Electroanalysis 2002, 14, 112.
27. E. A. Hutton, B. Ogorevc, S. B. Hočevar, M. R. Smyth, F. Weldone, Electrochem. Commun. 2001, 3, 707.
28. E. Chatzitheodorou, A. Economou, A. Voulgaropoulos, Electroanalysis 2004, 16, 1745.
29. I. Svancara, M. Fairouz, Kh. Ismail, R. Metelka, K. Vytras, Sci. Pap. Univ. Pardubice, Ser. A 2003, 9, 31.
30. R. Pauliukaite, C. M. A. Brett, Electroanalysis 2005, 17, 1354.
31. A. Krolicka, A. Bobrowski, Electrochem. Commun. 2004, 6, 99.
32. A. Krolicka, R. Pauliukaite, I. Svancara, R. Metelka, A. Bobrowski, E. Norkus, K. Kalcher, K. Vytras, Electrochem. Commun. 2002, 4, 193.
33. T. Demetriadis, A. Economou, A. Voulgaropoulos, Anal. Chim. Acta 2004, 519, 167.
34. J. Wang, J. M. Lu, S. B. Hocevar, B. Ogorevc, Electroanalysis 2001, 13, 13.
35. Ü A. Kirgöz, S. Marín, M. Pumera, A. Merkoçi, S. Alegret, Electroanalysis 2005, 17, 881.
36. C. Gouveia-Caridade, R. Pauliukaite, C. M.A. Brett, Electroanalysis 2006, 18, 854.
37. L. Baldrianova, I. Svancara, M. Vlcek, A Economou, S. Sotiropoulos, Electrochim. Acta 2006, 52, 481.
38. R. Pauliukaite, S. B. Hocevar, B. Ogorevc, J. Wang, Electroanalysis 2004, 16, 719.
39. L. Hu, H. Li, S. Zhu, L. Fan, L. Shi, X. Liu, G. Xu, Chem. Commun. 2007, 4146.
40. M. A. Baldo, S. Daniele, Anal. Lett. 2005, 37, 995.
41. K. Vytřas, I. Švancara, R. Metelka, Electroanalysis 2002, 14, 1359.
42. I. Švancara, L. Baldrianova, M. Vlcek, R. Metelka, K. Vytřas, Electroanalysis 2005, 17, 120.
43. V. Guzsvány, M Kádár, F. Gaál, L. Bjelica, K. Tóth, Electroanalysis 2006, 18, 1363.
44. L. Cao, J. Jia, Z. Wang, Electrochim. Acta 2008, 53, 2177.
45. L. M. S. Nunes, R. C. Faria, Electroanalysis 2008, 20, 2259.
46. K. E. Toghill, G. G. Wildgoose, A. Moshar, C. Mulcahy, R. G. Compton, Electroanalysis 2008, 20, 1731.
47. S. B. Hočevar, S. Daniele, C. Bragato, B. Ogorevc, Electrochim. Acta 2007, 53, 555.
48. G. U. Flechsig, M. Kienbaum, P. Gründler, Electrochem. Commun. 2005, 7, 1091.
49. J. Jia, L. Cao, Z. Wang, Electroanalysis 2007, 19, 1845.
50. N. Wang, X. Dong, Anal. Lett. 2008, 41, 1267.
51. R. Pauliukaite, R. Metelka, I. Svancara, A. Krolicka, A. Bobrowski, K. Vytras, E. Norkus, K. Kalcher, Sci. Pap. Univ. Pardubice, Ser A 2004, 10, 47.
52. M. Yang, Z. Hu, J. Electroanal. Chem. 2005, 583, 46.
53. C. E. Banks, J. Kruusma, R. R. Moore, P. Tomčík, J. Peters, J. Davis, Š. Komorsky-Lovrić, R.G. Compton, Talanta 2005, 65, 423.
54. A. Bobrowski, A. Królicka, E. Łyczkowska, Electroanalysis 2008, 20, 61.