-
5
-
-
33845286940
-
-
W. Zhang, Z. H. Xi, G. M. Zhang, S. Wang, M. S. Wang, J. Y. Wang, and Z. Q. Xue, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 86, 171 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.86
, pp. 171
-
-
Zhang, W.1
Xi, Z.H.2
Zhang, G.M.3
Wang, S.4
Wang, M.S.5
Wang, J.Y.6
Xue, Z.Q.7
-
6
-
-
38349148649
-
-
X. S. Fang, Y. Bando, U. K. Gautam, C. H. Ye, and D. Golberg, J. Mater. Chem. 18, 509 (2008).
-
(2008)
J. Mater. Chem.
, vol.18
, pp. 509
-
-
Fang, X.S.1
Bando, Y.2
Gautam, U.K.3
Ye, C.H.4
Golberg, D.5
-
7
-
-
44149104309
-
-
L. G. Yu, G. M. Zhang, Y. Wu, X. Bai, and D. Z. Guo, J. Cryst. Growth 310, 3125 (2008).
-
(2008)
J. Cryst. Growth
, vol.310
, pp. 3125
-
-
Yu, L.G.1
Zhang, G.M.2
Wu, Y.3
Bai, X.4
Guo, D.Z.5
-
8
-
-
0037089883
-
-
Y. Chen, S. Z. Deng, N. S. Xu, J. Chen, X. C. Ma, and E. G. Wang, Mater. Sci. Eng., A 327, 16 (2002).
-
(2002)
Mater. Sci. Eng., A
, vol.327
, pp. 16
-
-
Chen, Y.1
Deng, S.Z.2
Xu, N.S.3
Chen, J.4
Ma, X.C.5
Wang, E.G.6
-
10
-
-
79956010166
-
-
C. J. Lee, T. J. Lee, S. C. Lyu, Y. Zhang, H. Ruh, and H. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 3648 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 3648
-
-
Lee, C.J.1
Lee, T.J.2
Lyu, S.C.3
Zhang, Y.4
Ruh, H.5
Lee, H.J.6
-
11
-
-
25444476997
-
-
X. P. Shen, A. H. Yuan, Y. M. Hu, Y. Jiang, Z. Xu, and Z. Hu, Nanotechnology 16, 2039 (2005).
-
(2005)
Nanotechnology
, vol.16
, pp. 2039
-
-
Shen, X.P.1
Yuan, A.H.2
Hu, Y.M.3
Jiang, Y.4
Xu, Z.5
Hu, Z.6
-
13
-
-
28244477649
-
-
Y. S. Zhang, K. Yu, S. X. Ouyang, and Z. Q. Zhu, Mater. Lett. 60, 522 (2006).
-
(2006)
Mater. Lett.
, vol.60
, pp. 522
-
-
Zhang, Y.S.1
Yu, K.2
Ouyang, S.X.3
Zhu, Z.Q.4
-
14
-
-
34248397705
-
-
K. F. Huo, Y. M. Hu, J. J. Fu, X. B. Wang, P. K. Chu, Z. Hu, and Y. Chen, J. Phys. Chem. C 111, 5876 (2007).
-
(2007)
J. Phys. Chem. C
, vol.111
, pp. 5876
-
-
Huo, K.F.1
Hu, Y.M.2
Fu, J.J.3
Wang, X.B.4
Chu, P.K.5
Hu, Z.6
Chen, Y.7
-
15
-
-
38949120859
-
-
C. C. Lin, W. H. Lin, C. Y. Hsiao, K. M. Lin, and Y. Y. Li, J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 045301 (2008).
-
(2008)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.41
, pp. 045301
-
-
Lin, C.C.1
Lin, W.H.2
Hsiao, C.Y.3
Lin, K.M.4
Li, Y.Y.5
-
16
-
-
38549179738
-
-
K. C. Chin, C. K. Poh, G. L. Chong, J. Lin, C. H. Sow, and A. T. S. Wee, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 90, 623 (2008).
-
(2008)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.90
, pp. 623
-
-
Chin, K.C.1
Poh, C.K.2
Chong, G.L.3
Lin, J.4
Sow, C.H.5
Wee, A.T.S.6
-
17
-
-
0142011514
-
-
X. D. Bai, E. G. Wang, P. X. Gao, and Z. L. Wang, Nano Lett. 3, 1147 (2003).
-
(2003)
Nano Lett.
, vol.3
, pp. 1147
-
-
Bai, X.D.1
Wang, E.G.2
Gao, P.X.3
Wang, Z.L.4
-
18
-
-
33744536571
-
-
N. S. Ramgir, D. J. Late, A. B. Bhise, I. S. Mulla, M. A. More, D. S. Joag, and V. K. Pillai, Nanotechnology 17, 2730 (2006).
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 2730
-
-
Ramgir, N.S.1
Late, D.J.2
Bhise, A.B.3
Mulla, I.S.4
More, M.A.5
Joag, D.S.6
Pillai, V.K.7
-
24
-
-
12344293790
-
-
M. S. Wang, L. M. Peng, J. Y. Wang, and Q. Chen, J. Phys. Chem. B 109, 110 (2005).
-
(2005)
J. Phys. Chem. B
, vol.109
, pp. 110
-
-
Wang, M.S.1
Peng, L.M.2
Wang, J.Y.3
Chen, Q.4
-
26
-
-
34047186393
-
-
X. Bai, M. S. Wang, G. M. Zhang, J. Yu, Z. X. Zhang, D. Z. Guo, X. Y. Zhao, and Z. Q. Xue, J. Vac. Sci. Technol. B 25, 561 (2007).
-
(2007)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.25
, pp. 561
-
-
Bai, X.1
Wang, M.S.2
Zhang, G.M.3
Yu, J.4
Zhang, Z.X.5
Guo, D.Z.6
Zhao, X.Y.7
Xue, Z.Q.8
-
27
-
-
34247346547
-
-
P. Feng, X. Q. Fu, S. Q. Li, Y. G. Wang, and T. H. Wang, Nanotechnology 18, 165704 (2007).
-
(2007)
Nanotechnology
, vol.18
, pp. 165704
-
-
Feng, P.1
Fu, X.Q.2
Li, S.Q.3
Wang, Y.G.4
Wang, T.H.5
-
28
-
-
0032620880
-
-
W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, G. Kochanski, and S. Jin, Appl. Phys. Lett. 75, 873 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 873
-
-
Zhu, W.1
Bower, C.2
Zhou, O.3
Kochanski, G.4
Jin, S.5
|