Synthesis of metal-semiconductor core-shell nanoparticles using electrochemical surface-limited reactions

Langmuir

Volumn 25, Issue 1, 2009, Pages 410-414

  Gu, Chaokang ^a   Xu, Hui ^a   Park, Minseo ^a   Shannon, Curtis ^a  

^a AUBURN UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALTERNATING LAYERS; ATOMIC LAYERS; AU NANOPARTICLES; CDS FILMS; CO DEPOSITIONS; CO-DEPOSITION METHODS; CORE-SHELL NANOPARTICLES; DIMETHYLAMMONIUM; ELECTRO-CHEMICAL REACTIONS; ELECTROCHEMICAL SURFACES; GLASSY CARBONS; POLYOXOMETALLATE;

ALUMINA; ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMS; CADMIUM COMPOUNDS; CARBON FILMS; ELECTRIC CONDUCTIVITY; ELECTROCHEMISTRY; NANOPARTICLES; SEMICONDUCTING CADMIUM COMPOUNDS; SEMICONDUCTOR MATERIALS; SURFACE REACTIONS;

GOLD;

EID: 61849183532     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la8026607     Document Type: Article

References (41)

1. Kim, D.; Miyamoto, M.; Mishima, T.; Nakayama, M. J. Appl. Phys. 2005, 98, 083514-1-083514-4.
2. Guo, L.; Yanga, S.; Yang, C.; Yu, P.; Wang, J.; Ge, W.; Wong, G. K. L. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2901-2907.
3. Tamborra, M.; Striccoli, M.; Comparelli, R.; Curri, M. L.; Petrella, A.; Agostiano, A. Nanotechnology 2004, 15, S240-S244.
4. Harada, Y.; Hashimoto, S. Phys. Rev. B 2003, 68, 045421-5.
5. Okamoto, Y.; Ishizuka, S.; Kato, S.; Sakurai, T.; Fujiwara, T.; Kobayashi, H.; Akimoto, K. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1060-1062.
6. Xu, L.; Chen, K.; El-Khair, H. M.; Li, M.; Huang, X. Appl. Surf. Sci. 2001, 172, 84-88.
7. Menezes, F. D.; Brasil, A. G., Jr.; Moreira, W. L.; Brabosa, L. C.; Cesar, C. L.; Ferreira, R.; Farias, P. M. A.; Santos, B. S. Microelectron. J. 2005, 36, 989-991.
8. Farias, P. M. A.; Santos, B. S.; Menezes, F. D.; Brasil, A. G., Jr.; Ferreira, R.; Motta, M. A.; Castro-Neto, A. G.; Vieira, A. A. S.; Silva, D. C. N.; Fontes, A.; Cesar, C. L. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2007, 89, 957-961.
9. Lin, H. Y.; Chen, Y. F.; Wu, J. G.; Wang, D. I.; Chen, C. C. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 161911-13.
10. Kamat, P. V.; Shanghavi, B. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 7675-7679.
11. Ma, G. H.; He, J.; Rajiv, K.; Tang, S. H.; Yang, Y.; Nogami, M. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4684-6.
12. Yang, Y.; Nogami, M.; Shi, J.; Chen, H.; Liu, Y.; Qian, S. J. Appl. Phys. 2005, 98, 033528/1-5.
13. Yang, Y.; Shi, J.; Chen, H.; Dai, S.; Liu, Y. Chem. Phys. Lett. 2003, 370, 1-6.
14. Honma, I.; Sano, T.; Komiyama, H. J. Phys. Chem. 1993, 97, 6692-6695.
15. Lu, W.; Wang, B.; Zeng, J.; Wang, X.; Zhang, S.; Hou, J. G. Langmuir 2005, 21, 3684-87.
16. Sharma, A. K.; Gupta, B. D. J. Opt. A.: Pure Appl. Opt. 2007, 9, 180-185.
17. Lu, Y.; Yin, Y.; Li, Z. Y.; Xia, Y. Nano Lett. 2002, 2, 785-788.
18. Lu, Y.; Yin, Y.; Mayers, B. T.; Xia, Y. Nano Lett. 2002, 2, 183-186.
19. Venkatasamy, V.; Jayaraju, N.; Cox, S. M.; Thambidurai, C.; Happek, U.; Stickney, J. L. J. Appl. Electrochem. 2006, 36, 1223-1229.
20. Vaidyanathan, R.; Cox, S. M.; Happek, U.; Banga, D.; Mathe, M. K.; Stickney, J. L. Langmuir 2006, 22, 10590-10595.
21. Muthuvel, M.; Stickney, J. L. Langmuir 2006, 22, 5504-5508.
22. Gichuhi, A.; Boone, B. E.; Shannon, C. Langmuir 1999, 15, 763-766.
23. Zhu, W.; Yang, J. Y.; Zhou, D. X.; Xiao, C. J.; Duan, X. K. Langmuir 2008, 24, 5919-5924.
24. Wade, T. L.; Vaidyanathan, R.; Happek, U.; Stickney, J. L. J. Electroanal. Chem. 2001, 500, 322-332.
25. Torimoto, T.; Obayashi, A.; Kuwabata, S.; Yoneyama, H. Electrochem. Commun. 2000, 2, 359-362.
26. Zou, S.; Weaver, M. J. Chem. Phys. Lett. 1999, 312, 101-107.
27. Kim, Y. G.; Kim, J. Y.; Thambidurai, C.; Stickney, J. L. Langmuir 2007, 23, 2539-2545.
28. Kim, Y. G.; Kim, J. Y.; Vairavapandian, D.; Stickney, J. L. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 17998-18006.
29. Lyon, D. K.; Miller, W. K.; Novet, T.; Domaille, P. J.; Evitt, E.; Johnson, D. C.; Finke, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 7209.
30. Sisman, I.; Alanyalioglu, M.; Demir, U. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 2670-2674.
31. Hsiao, G. S.; Anderson, M. G.; Gorer, S.; Harris, D.; Penner, R. M. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 1439-1448.
32. Inukai, J.; Osawa, Y.; Itaya, K. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 10034-10040.
33. Broekmann, P.; Hai, N. T. M.; Wandelt, K. Surf. Sci. 2006, 600, 3971-3977.
34. Hai, N. T. M.; Huemann, S.; Hunger, R.; Jaegermann, W.; Wandelt, K.; Broekmann, P. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 14768-14781.
35. Arrigan, D. W. M.; Iqbal, T.; Pickup, M. J. Electroanalysis 2001, 13, 751-754.
36. Zhai, J.; Huang, M.; Dong, S. Electroanalysis 2007, 19, 506-509.
37. Zheng, Z.; Liu, A.; Wang, S.; Huang, B.; Wong, K. W.; Zhang, X.; Hark, S. K.; Lau, W. M. J. Mater. Chem. 2008, 18, 852-854.
38. Gichuhi, A.; Boone, B. E.; Shannon, C. J. Electroanal. Chem. 2002, 522, 21-25.
39. Serrano, J.; Cardona, M.; Ritter, T. M.; Weinstein, B. A.; Rubio, A.; Lin, C. T. Phys. Rev. B 2002, 66, 245202/1-14.
40. Boone, B. E.; Shannon, C. J. Phys. Chem. 1996, 100, 9480-9484.
41. Stickney, J. L.; Wade, T. L.; Flowers, B. H.; Vaidyanathan, R.; Happek, U. Electrodeposition of compound semiconductors by electrochemical atomic layer epitaxy. In Encyclopedia of Electrochemistry; Wiley: New York, 2003; Vol. 1, pp 516-560.