An a Si:H TFT manufactured on an ultra-thin Mo foil

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 54, Issue 1 PART 2, 2009, Pages 427-431

  Cheon, Jun Hyuk ^a   Lee, Won Gyu ^a   Kim, Se Hwan ^a   Jang, Jin ^a   Kumer, Prabhat ^b  

^a Kyung Hee University   (South Korea)

^b H C Starck Inc   (United States)

Author keywords

Amorphous silicon; Mechanical stress; Mo foil; Thin film transistor

Indexed keywords

EID: 60049087277     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.54.427     Document Type: Conference Paper

References (20)

1. J. Jeon, K. S. Choo, W. K. Lee, J. H. Song and H. G. Kim, SID'04 Digest 10 (2004).
2. J. H. Koo, J. W. Choi, Y. S. Kim, M. H. Kang, S. H. Kim, E. B. Kim, H. Uchiike, S. W. Lee and J. Jang, J. Korean Phys. Soc. 50, L933 (2007).
3. A. Nathan, A. Kumar, K. Sakariya, P. Servati, S. Sambandan and D. Striakhilev, IEEE J. Solid-State Circuits 39, 1477 (2004).
4. S. H. Kim, J. H. Hur, K. M. Kim, J. H. Koo and J. Jang, J. Korean Phys. Soc. 48, S80 (2006).
5. N. C. Bird, C. J. Curling and C. van Berkel, Sensors and Actuators A 46-47, 444 (1995).
6. J. Jang, Materials Today 9, 46 (2006).
7. E. T. Ma and S. Wagner, Appl. Phys. Lett. 74, 2661 (1999).
8. J. I. Ryu, S. H. Won, J. H. Hur, H. J. Kim, J. Jang, G. J. Jang, C. W. Lee and S. T. Jung, J. Korean Phys. Soc. 39, 264 (2001).
9. J. H. Park, Y. C. Cho, J. M. Shin, S. Y. Cha, C. R. Cho, H. S. Kim, S. J. Yoon, S. Y. Jeong, S. E. Park and A. R. Lim, J. Korean Phys. Soc. 51, 1968 (2007).
10. J. H. Cheon, J. H. Choi, J. H. Hur, J. Jang, H. S. Shin, J. K. Jeong, Y. G. Mo and H. K. Chung, IEEE Trans. Electron Dev. 53, 1273 (2006).
11. S. H. Won, J. H. Hur, C. B. Lee, H. C. Nam, J. K. Chung and J. Jang, IEEE Electron Dev. Lett. 25, 132 (2004).
12. H. Gleskova, S. Wagner, Q. Zhang and D. S. Shen, IEEE Electron Dev. Lett. 18, 523 (1997).
13. S. H. Won, C. B. Lee, J. H. Hur and J. Jang, J. Korean Phys. Soc. 42, 685 (2003).
14. Y. K. Moon, S. H. Kim, D. Y. Moon, W. S. Kim and J. W. Park, J. Korean Phys. Soc. 51, 1732 (2007).
15. Z. Suo, E. Y. Ma, H. Gleskova and S. Wagner, Appl. Phys, Lett. 74, 1177 (1999).
16. H. Gleskova and S. Wagner, Appl. Phys. Lett. 75, 3011 (1999).
17. G. D. Cody, C. R. Wronski, B. Abeles, R. B. Stephens and B. Brooks, Sol. Cells 2, 227 (1980).
18. M. Ohring, The Materials Science of Thin Films (Academic Press, 1992), Chap. 9.
19. H. Gleskova, P. I. Hsu, Z. Xi, J. C. Sturm, Z. Suo and S. Wagner, J. Non-Cryst. Solids 338-340, 732 (2004).
20. S. H. Won, J. K. Chung, C. B. Lee, H. C. Nam, J. H. Hur and J. Jang, J. Electrochem. Soc. 151, G167 (2004).