-
2
-
-
33750588833
-
-
E. Stoffels, I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, L. J. M. van den Bedem, E. P. van der Laan, M. Steinbuch, Plasma Sources Sci. Technol. 2006, 15, S169.
-
(2006)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.15
-
-
Stoffels, E.1
Kieft, I.E.2
Sladek, R.E.J.3
van den Bedem, L.J.M.4
van der Laan, E.P.5
Steinbuch, M.6
-
3
-
-
0036860831
-
-
E. Stoffels, A. J. Flikweert, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, Plasma Sources Sci. Technol. 2002, 4, 383.
-
(2002)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.4
, pp. 383
-
-
Stoffels, E.1
Flikweert, A.J.2
Stoffels, W.W.3
Kroesen, G.M.W.4
-
4
-
-
7244242196
-
-
R. E. J. Sladek, E. Stoffels, R. Walraven, P. J. A. Tielbeek, R. Koolhoven, IEEE Trans. Plasma Sci. 2004, 32, 1540.
-
(2004)
IEEE Trans. Plasma Sci
, vol.32
, pp. 1540
-
-
Sladek, R.E.J.1
Stoffels, E.2
Walraven, R.3
Tielbeek, P.J.A.4
Koolhoven, R.5
-
5
-
-
3142594453
-
-
I. E. Kieft, J. L. V. Broers, V. Caubet-Hilloutou, D. W. Slaaf, F. C. S. Ramaekers, E. Stoffels, Bioelectromagnetics 2004, 25, 362.
-
(2004)
Bioelectromagnetics
, vol.25
, pp. 362
-
-
Kieft, I.E.1
Broers, J.L.V.2
Caubet-Hilloutou, V.3
Slaaf, D.W.4
Ramaekers, F.C.S.5
Stoffels, E.6
-
6
-
-
34250625279
-
-
Y. J. Hong, H. S. Ko, G. Y. Park, J. K. Lee, Comput. Phys. Commun. 2007, 177, 122.
-
(2007)
Comput. Phys. Commun
, vol.177
, pp. 122
-
-
Hong, Y.J.1
Ko, H.S.2
Park, G.Y.3
Lee, J.K.4
-
7
-
-
34250795605
-
-
S. H. Lee, S. M. Choi, J. W. Shon, Comput Phys. Commun. 2007, 177, 133.
-
(2007)
Comput Phys. Commun
, vol.177
, pp. 133
-
-
Lee, S.H.1
Choi, S.M.2
Shon, J.W.3
-
8
-
-
33745307758
-
-
S. S. Yang, S. M. Lee, F. Iza, J. K. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 2775.
-
(2006)
J. Phys. D: Appl. Phys
, vol.39
, pp. 2775
-
-
Yang, S.S.1
Lee, S.M.2
Iza, F.3
Lee, J.K.4
-
9
-
-
0041426377
-
-
S. S. Yang, H. C. Kim, S. W. Ko, J. K. Lee, IEEE Trans. Plasma Sci. 2003, 31, 596.
-
(2003)
IEEE Trans. Plasma Sci
, vol.31
, pp. 596
-
-
Yang, S.S.1
Kim, H.C.2
Ko, S.W.3
Lee, J.K.4
-
10
-
-
33646351031
-
-
Z. Donkó, P. Hartmann, K. Kutasi, Plasma Sources Sci. Technol. 2006, 15, 178.
-
(2006)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.15
, pp. 178
-
-
Donkó, Z.1
Hartmann, P.2
Kutasi, K.3
-
14
-
-
14644407418
-
-
J. K. Lee, O. V. Manuilenko, N. Yu., Babaeva, H. C. Kim, J. W. Shon, Plasma Sources Sci. Technol. 2005, 14, 89.
-
J. K. Lee, O. V. Manuilenko, N. Yu., Babaeva, H. C. Kim, J. W. Shon, Plasma Sources Sci. Technol. 2005, 14, 89.
-
-
-
-
15
-
-
0031144533
-
-
R. Veerasingam, R. B. Campbell, R. T. McGrath, Plasma Sources Sci. Technol. 1997, 6, 157.
-
(1997)
Plasma Sources Sci. Technol
, vol.6
, pp. 157
-
-
Veerasingam, R.1
Campbell, R.B.2
McGrath, R.T.3
-
17
-
-
25144497602
-
-
H. C. Kim, F. Iza, S. S. Yang, M. Radmilovic-Radjenovic, J. K. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, R283.
-
(2005)
J. Phys. D: Appl. Phys
, vol.38
-
-
Kim, H.C.1
Iza, F.2
Yang, S.S.3
Radmilovic-Radjenovic, M.4
Lee, J.K.5
-
20
-
-
34548062338
-
-
F. Iza, J. K. Lee, M. G. Kong, Phys. Rev. Lett. 2007, 99, 075004.
-
(2007)
Phys. Rev. Lett
, vol.99
, pp. 075004
-
-
Iza, F.1
Lee, J.K.2
Kong, M.G.3
-
21
-
-
35348899573
-
-
J. Choi, F. Iza, J. K. Lee, C. M. Ryu, IEEE Trans. Plasma Sci. 2007, 35, 1274.
-
(2007)
IEEE Trans. Plasma Sci
, vol.35
, pp. 1274
-
-
Choi, J.1
Iza, F.2
Lee, J.K.3
Ryu, C.M.4
-
22
-
-
15744371656
-
-
M. Radmilovic-Radjenovic, J. K. Lee, F. Iza, G. Y. Park, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 950.
-
(2005)
J. Phys. D: Appl. Phys
, vol.38
, pp. 950
-
-
Radmilovic-Radjenovic, M.1
Lee, J.K.2
Iza, F.3
Park, G.Y.4
-
23
-
-
34547830257
-
-
S. M. Lee, S. S. Yang, Y. S. Seo, J. K. Lee, Plasma Chem. Plasma Process 2007, 27, 349.
-
(2007)
Plasma Chem. Plasma Process
, vol.27
, pp. 349
-
-
Lee, S.M.1
Yang, S.S.2
Seo, Y.S.3
Lee, J.K.4
-
24
-
-
52349120152
-
-
F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, M. G. Kong, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 322.
-
F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, M. G. Kong, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 322.
-
-
-
|