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Volumn 43, Issue 17, 2008, Pages 5952-5955

Loading rate sensitivity of nanoindentation creep in polycrystalline Ni films

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CREEP; MOLECULAR BEAM EPITAXY; NANOINDENTATION; NICKEL; NICKEL ALLOYS; PHOTORESISTS; THICK FILMS;

EID: 50849087336     PISSN: 00222461     EISSN: 15734803     Source Type: Journal    
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.