Structural and dielectric properties of Ba0.5Sr 0.5TiO3 thin films grown on LAO with homo-epitaxial layer for tunable applications

International Journal of Modern Physics B

Volumn 18, Issue 15, 2004, Pages 2153-2168

  Sekhar, M Chandra ^a,b  

^a OSMANIA UNIVERSITY   (India)

^b NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

AFM; Dielectric constant; Interfacial layers; Leakage current density; P E hysteresis; PLD; Thin films; Tunability; XRD

Indexed keywords

BARIUM; STRONTIUM; TITANIUM;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DIELECTRIC CONSTANT; ELECTRIC CURRENT; ELECTRICITY; FILM; HYSTERESIS; PHASE TRANSITION; STRUCTURE ANALYSIS; TEMPERATURE DEPENDENCE; X RAY DIFFRACTION;

EID: 4344574989     PISSN: 02179792     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1142/S0217979204025270     Document Type: Article

References (31)

1. O. G. Vendik, S. P. Zubko and L. T. Ter-Martirosyan, Appl. Phys. Lett. 73, 37 (1998).
2. A. M. Hermann, R. M. Yandrofski, J. F. Scott, A. Naziripour, D. Galt, J. C. Price J. Cuchario and R. K. Ahrenkiel, J. Supercond. 7, 2338 (1997).
3. A. T. Findikoglu, Q. X. Jia, I. H. Campbell, X. D. Wu, D. Reagor, C. B. Mombourquette and D. McMurry, Appl. Phys. Lett. 66, 3674 (1995).
4. A. T. Findikoglu, Q. X. Jia, X. D. Wu, G. J. Chen, T. Venkatesan and D. W. Reagor, Appl. Phys. Lett. 68, 1651 (1996).
5. W. J. Kim, W. Chang, J. M. Pond, S. W. Kirchoefer, J. S. Horwitz and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett. 76, 1185 (2000).
6. J. Im, O. Auciello, P. K. Baumann, S. K. Streiffer, D. K. Kaufman and A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 76, 625 (2000).
7. P. Padmini, T. R. Taylor, M. J. Lefevre, A. S. Nagra, R. A. York and J. S. Speck, Appl. Phys. Lett. 75, 3186 (1999).
8. T. Sakuma, S. Yamamichi, S. Matsubara, H. Yamaguchi and Y. Miyasaka, Appl. Phys. Lett. 57, 2431 (1990).
9. R. Ramesh, K. Luther, B. Wilkens, D. L. Hart, E. Wang, J. M. Tarascon, A. Inam, X. D. Wu and T. Venkatesan, Appl. Phys. Lett. 57, 1505 (1990).
10. G. Q. Li, P. T. Lai, S. H. Zeng, M. Q. Huang and B. Y. Liu, Appl. Phys. Lett. 66, 2436 (1995).
11. J. R. Belsick, PhD Thesis, The Pennsylvania State University, PA, USA (1993).
12. P. C. van Buskirk, R. Gardiner, P. S. Kirlia, S. B. Krupanidhi and S. Nutt, 4th Intl. Symposium of Integrated Ferroelectrics, Monterey, CA, 473 (1992).
13. S. Imanaga, F. Nakamura and H. Kawai, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 1194 (2001).
14. C. B. Parker, J.-P. Maria and A. I. Kingon, Appl. Phys. Lett. 81, 340 (2002).
15. D. M. Tahan, A. Safari and L. C. Klein, J. Am. Ceram. Soc. 79(6), 1593 (1996).
16. K. R. Carroll, J. M. Pond, D. B. Chrisey, J. S. Horwitz, R. E. Leuchtner and K. S. Grabowski, Appl. Phys. Lett. 62, 1845 (1993).
17. R. A. Chakalov, Z. G. Ivanov, Yu. A. Boikov, P. Larsson, E. Carlsson, S. Gevorgian and T. Claeson, Physica C308, 279 (1998).
18. D. B. Chrisey and G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition Films (Wiley, New York, 1994).
19. D. Roy, S. B. Krupanidhi and J. P. Dougherty, J. Vac. Sci. Technol. A10, 1827 (1992).
20. J. S. Horwitz, W. Chang, W. Kim, S. B. Qadri, J. M. Pond, S. W. Kirchoefer and D. B. Chrisey, Journal of Electroceramic. 4(2/3), 357 (2000).
21. W. Chang, J. S. Horwitz, A. C. Carter, J. M. Pond, S. W. Kirchoefer, C. M. Gilmore and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett. 74, 1033 (1999).
22. W. J. Kim, H. D. Wu, W. Chang, S. B. Qadri, J. M. Pond, S. W. Kirchoefer, D. B. Chrisey and J. S. Horwitz, J. Appl. Phys. 88, 5448 (2000).
23. C. M. Carlson, T. V. Rivkin, P. A. Parilla, J. D. Perkins, D. S. Ginley, A. B. Kozyrev, V. N. Oshadchy and A. S. Pavlov, Appl. Phys. Lett. 76, 1920 (1999).
24. B. H. Park, E. J. Paterson, Q. X. Jia, J. Lee, X. Zeng, W. Si and X. X. Xi, Appl. Phys. Lett. 78, 533 (2001).
25. S. K. Streiffer, C. Basceri, C. B. Parker, S. E. Lash and A. I. Kingon, J. Appl. Phys. 86, 4565 (1999).
26. Y.-A. Jeon, E.-S. Choi, T. S. Seo and S. G. Yoon, Appl. Phys. Lett. 79, 1012 (2001).
27. F. M. Pontes, E. R. Leite, E. Longo, J. A. Varela, E. B. Araujo and J. A. Eiras, Appl. Phys. Lett. 76, 2433 (2000).
28. C. S. Hwang and S. H. Joo, J. Appl. Phys. 85, 2431 (1999).
29. W.-C. Yi, T. S. Kalkur, E. Philofsky and L. Kammerdiner, Thin Solid Films 402, 307 (2002).
30. J. Ye and K. Nakamura, Phys. Rev. B48, 7554 (1993).
31. M. W. Cole, P. C. Joshi, M. H. Ervin, M. C. Wood and R. L. Pfeffer, Thin Solid Films 374, 34 (2000).