Ultrathin ruthenium(II) complex-H 4SiW 12O 40 multilayer film

Journal of Nanoscience and Nanotechnology

Volumn 8, Issue 3, 2008, Pages 1248-1253

  Zhang, Yu Qi ^a   Gao, Li Hua ^a,b   Wang, Ke Zhi ^a   Gao, Hong Jun ^c   Wang, Ye Liang ^c  

^a BEIJING NORMAL UNIVERSITY   (China)

^b BEIJING TECHNOLOGY AND BUSINESS UNIVERSITY   (China)

^c INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

Atomic force microscopy; Bipyridine; Optical property; Ruthenium; Self assembled film

Indexed keywords

BIPYRIDINE; SELF-ASSEMBLED FILM;

ADSORPTION; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CYCLIC VOLTAMMETRY; OPTICAL PROPERTIES; RUTHENIUM; SELF ASSEMBLY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

MULTILAYER FILMS;

EID: 42449104446     PISSN: 15334880     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/jnn.2008.334     Document Type: Conference Paper

References (68)

1. (a) M. T. Pope, Heteropoly and Isopoly Oxometalates, Springer-Verlag, Berlin (1983);
2. (b) M. T. Pope and A. Müller, Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 30, 34 (1991).
3. (a) G. G. Roberts, Langmuir-Blodgett Films, Plenum Press, New York (1990);
4. (b) A. Ulman, An Introduction to Ultrathin Organic Films, from Langmuir-Blodgett to Self Assembly, Academic Press, San Diego, London (1991).
5. G. Decher, J. Maclennan, and M. Straus, Makromol. Chem. Macromol. Symp. 46, 313 (1991).
6. (a) G. Decher and J. D. Hong, Makromol. Chem. Macromol. Symp. 321 (1991);
7. (b) G. Decher, D. Hong, and J. J. Schmitt, Thin Solid Films 210/211, 831 (1992);
8. (c) G. Decher, Science 111, 1232 (1997);
9. (d) A. A. Mamedov and N. A. Kotov, Langmuir 16, 5530 (2000);
10. (e) N. Malikova, I. Pastoriza-Santos, M. Schierhorn, N. A. Kotov, and L. M. Liz-Marzan, Langmuir 18, 3694 (2002);
11. (e) I. Pastoriza-Santos, D. S. Koktysh, A. A. Mamedov, M. Giersig, N. A. Kotov, and L. M. Liz-Marzan, Langmuir 16, 2731 (2000);
12. (f) A. L. Rogach, D. S. Koktysh, M. Harrison, and N. A. Kotov, Chem. Mater. 12, 1526 (2000);
13. (h) A. Mugweru and J. F. Rusling, Anal. Chem. 74, 4044 (2002);
14. (i) V. Panchagnula, C. V. Kumar, and J. F. Rusling, J. Am. Chem. Soc. 124, 12515 (2002).
15. (a) I. Moriguchi, K. Hanai, A. Hoshikuma, Y. Teraoka, and S. Kagawa, Chem. Lett. 691 (1994);
16. (b) D. Ingersoll, J. P. Kulesza, and L. R. Faulkler, J. Electrochem. Soc. 141, 140 (1994);
17. (c) A. Kuhn and F. C. Anson, Langmuir 12, 5481 (1996);
18. (d) I. Moriguchi and J. Fendler, Chem. Mater. 10, 2205 (1998);
19. (e) M. Clemente-Leon, A. Beatrice, C. Mingotaud, C. J. Gomez-Garcia, E. Coronado, and P. Delhaes, Langmuir 13, 2340 (1997);
20. (f) M. Clemente-Leon, C. Mingotaud, B. Agricole, C. J. Gomez-Garcia, E. Coronado, and P. Delhaes, Angrew. Chem. Int. Ed. 36, 1114 (1997).
21. (a) I. Ichinose, H. Tagawa, S. Mizuki, Y. Lvov, and T. Kunitake, Langmuir 14, 187 (1998);
22. (b) D. G. Kurth, D. Volkmer, M. Ruttorf, B. Richer, and A. Mülller, Chem. Mater. 12, 2829 (2000);
23. (c) S. Liu, D. G. Kurth, B. Bredenkötter, and D. Volkmer, J. Am. Chem. Soc. 142, 12279 (2002);
24. (d) F. Caruso, D. G. Kurth, D. Volkmer, M. J. Koop, and A. Müller, Langmuir 14, 3462 (1998);
25. (e) K. Z. Wang and L. H. Gao, Mater. Res. Bull. 37, 2447 (2002).
26. (a) Y. Shen, J. Liu, J. Jiang, B. Liu, and S. Dong, J. Phys. Chem. B 107, 9744 (2003);
27. (b) L. Cheng and J. A. Cox, Chem. Mater. 14, 6 (2002);
28. (c) S. D. Holmstrom and J. A. Cox, Anal. Chem. 72, 3191 (2000);
29. (d) Y. Q. Zhang, L. H. Gao, Z. M. Duan, K. Z. Wang, Y L. Wang, and H. J. Gao, Acta Chim. Sinica (in Chinese) 62, 738 (2004).
30. P. Le Magueres, S. M. Hubig, S. V. Lindeman, P. Veya, and J. K. Kochi, J. Am. Chem. Soc. 122, 10073 (2000).
31. (a) K. Z. Wang, M. A. Haga, M. D. Hossain, H. Shindo, K. Hasebe, and H. Monjushiro, Langmuir 18, 3528 (2002);
32. (b) M. Ferreira, K. Wohnrath, R. M. Torresi, C. J. L. Constantino, R. F. Aroca, O. N. Oliveira, Jr., and J. A. Giacometti, Langmuir 18, 540 (2002);
33. (c) M. Ferreira, A. Riul, Jr., K. Wohnrath, F. J. Fonseca, O. N. Oliveira, Jr., and L. H. C. Mattoso, Anal. Chem. 75, 953 (2003);
34. (d) N. Fukuda, M. Mitsuishi, A. Aoki, and T. Miyashita, J. Phys. Chem. B 106, 7048 (2002);
35. (e) M. Ferreira, K. Wohnrath, A. Riul, Jr., J. A. Giacometti, and O. N. Oliveira, Jr., J. Phys. Chem. B 106, 7272 (2002);
36. (f) G. R. Torres, E. Dupart, C. Mingotaud, and S. Ravaine, J. Phys. Chem. B 104, 9487 (2000);
37. (g) J. P. Santos, M. E. D. Zaniquelli, C. Batalini, and W. F. De Giovani, J. Phys. Chem. B 105, 1780 (2001);
38. (h) A. Riul, Jr., D. S. dos Santos, Jr., K. Wohnrath, R. Di Tommazo, A. C. P. L. F. Carvalho, F. J. Fonseca, O. N. Oliveira, Jr., D. M. Taylor, and L. H. C. Mattoso, Langmuir 18, 239 (2002);
39. (i) Y. Umemura, A. Yamagishi, R. Schoonheydt, A. Persoons, and F. De Schryver, J. Am. Chem. Soc. 124, 992 (2002);
40. (j) B. W.-K. Chu and V. W.-W. Yam, Inorg. Chem. 40, 3324 (2001);
41. (k) K. Okamoto, M. Taniguchi, M. Takahashi, and A. Yamagishi, Langmuir 17, 195 (2001).
42. (a) K. Z. Wang, M. A. Haga, H. Monjushiro, M. Akiba, and Y. Sasaki, Inorg. Chem. 39, 4022 (2000);
43. (b) V.-W.-W. Yam, K. Z. Wang, C. R. Wang, Y. Yang, and K.-K. Cheung, Organometallics 17, 2440 (1998);
44. (c) C. H. Huang, K. Z. Wang, G. X. Xu, X. S. Zhao, X. M. Xie, Y. Xu, Y. Q. Liu, L. G. Xu, and T. K. Li, J. Phys. Chem. 99, 14397 (1995);
45. (d) D. J. Zhou, C. H. Huang, K. Z. Wang, G. X. Xu, X. S. Zhao, X. M. Xie, L. G. Xu, and T. K. Li, Langmuir 10, 1910 (1994);
46. (e) L. H. Gao, K. Z. Wang, C. H. Huang, X. S. Zhao, X. H. Xia, T. K. Li, and J. M. Xu, Chem. Mater. 1, 1047 (1995);
47. (f) L. H. Gao, K. Z. Wang, C. H. Huang, X. S. Zhao, X. H. Xia, T. K. Li, and J. M. Xu, Chem. Mater. 7, 1047 (1995).
48. L. Huang, K. Z. Wang, and C. H. Huang, J. Mater. Chem. 11, 790 (2001).
49. (a) B. P. Sullian, D. J. Salmon, and T. J. Meyer, Inorg. Chem. 17, 3334 (1978);
50. (b) Z. Ji, S. D. Huang, and A. R.Guadalupe, Inorg. Chim. Acta 305, 127 (2000).
51. (a) T. B. Cao, L. H. Wei, S. M. Yang, M. F. Zhang, C. H. Huang, and W. X. Cao, Langmuir 18, 750 (2002);
52. (b) H. Krass, G. Papastavrou, and D. G. Kurth, Chem. Mater. 15, 196 (2003).
53. I. Haller, J. Am. Chem. Soc. 100, 8050 (1978).
54. (a) L. Y. Wang, L. H. Gao, and K. Z. Wang, Acta Chim. Sinica (in Chinese) 61, 1877 (2003);
55. (b) T. R. Zhang, M. Jin, W. Feng, R. Lu, C. Y. Bao, Y Y. Zhao, T. J. Li, and J. N. Yao, Chem. J. Chinese. Univ. 10, 1979 (2002).
56. (a) A. Juris, V. Balzani, F. Barigelletti, S. Campagna, P. Belser, and A. von Lelewsky, Coord. Chem. Rev. 84, 85 (1988);
57. (b) F. R. Liu, K. Z. Wang, G. Y. Bai, Y. A. Zhang, and L. H. Gao, Inorg. Chem. 43, 1799 (2004);
58. (c) R. J. Watts, J. Chem. Educ. 60, 834 (1983).
59. (a) T. Taniguchi, Y. Fukasawa, and T. Miyashita, J. Phys. Chem. B 103, 1920 (1999);
60. (b) G. R. Torres, E. Dupart, C. Mingotaud, and S. Ravaine, J. Phys. Chem. B 104, 9487 (2000).
61. S. Shikata and M. Misono, Chem. Commun. 1293 (1998).
62. L. Xu, E. B. Wang, Z. Li, H. Y. Zhang, and C. Qin, Chin. Chem. Lett. 12, 1127 (2001).
63. H. Y Zhang, L. Xu, E. B. Wang, M. Jiang, A. G. Wu, and Z. Li, Mater. Lett. 57, 1417 (2003).
64. M. Sadakane and E. Steckhan, Chem. Rev. 982, 219 (1998).
65. (a) L. Cheng and S. J. Dong, J. Electrochem. Soc. 147, 606 (2000);
66. (b) Z. L. Cheng, L. Cheng, S. J. Dong, and X. R. Yang, J. Electrochemical Soc. 148, E227 (2001);
67. (c) J. Y. Liu, L. Cheng, and S. J. Dong, Chem. J. Chinese. Univ. 22, 1641 (2001).
68. A. J. Bard and L. R. Faulkner, Electrochemical Methods, Fundamentals and Applications, Wiley, New York (1980), Chap. 12, p. 522.