Interband cascade laser progress

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 6909, Issue , 2008, Pages

  Bewley, W W ^a   Canedy, C L ^a   Kim, M ^a   Kim, C S ^a   Nolde, J A ^a   Larrabee, D C ^a   Lindle, J R ^a   Vurgaftman, I ^a   Meyer, J R ^a  

^a NAVAL RESEARCH LABORATORY   (United States)

Author keywords

Diode laser; Interband cascade laser; Long wavelength infrared; Mid infrared; Photodiode; Quantum well

Indexed keywords

INTERBAND CASCADE LASER; INTERNAL LOSS; LONG-WAVELENGTH INFRARED;

LASER RESONATORS; PULSED LASER APPLICATIONS; QUANTUM CASCADE LASERS; THRESHOLD CURRENT DENSITY; WAVELENGTH;

SEMICONDUCTOR LASERS;

EID: 40749135386     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.766908     Document Type: Conference Paper

References (26)

1. C. Lin, M. Grau, O. Dier, and M.-C. Amann, Appl. Phys. Lett. 84, 5088 (2004).
2. J. S. Yu, A. Evans, S. Slivken, S. R. Darvish, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 88, 251118 (2006).
3. R. Q. Yang, Superlatt. Microstruct. 17, 77 (1995).
4. C.-H. Lin, R. Q. Yang, D. Zhang, S. J. Murry, S. S. Pei, A. A. Allerman, and S. R. Kurtz, Electron. Lett. 33, 598 (1997).
5. J. R. Meyer, I. Vurgaftman, R. Q. Yang, and L. R. Ram-Mohan, Electron. Lett. 32, 45 (1996).
6. I. Vurgaftman, J. R. Meyer, and L. R. Ram-Mohan, IEEE Phot. Tech. Lett. 9, 170 (1997).
7. L. J. Olafsen, E. H. Aifer, I. Vurgaftman, W. W. Bewley, C. L. Felix, J. R. Meyer, D. Zhang, C.-H. Lin, and S. S. Pei, Appl. Phys. Lett. 72, 2370 (1998).
8. J. L. Bradshaw, N. P. Breznay, J. D. Bruno, J. M. Gomes, J. T. Pham, F. J. Towner, D. E. Wortman, R. L. Tober, C. J. Monroy, and K. A. Olver, Physica E 20, 479 (2004).
9. R. Q. Yang, C. J. Hill, and B. H. Yang, Appl. Phys. Lett. 87, 151109 (2005).
10. C. L. Canedy, W. W. Bewley, J. R. Lindle, C. S. Kim, M. Kim, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, Appl. Phys. Lett. 88, 161103 (2006).
11. J. R. Meyer, C. A. Hoffman, F. J. Bartoli, and L. R. Ram-Mohan,Appl. Phys. Lett. 67, 757 (1995).
12. M. Kim, D. C. Larrabee, J. A. Nolde, C. S. Kim, C. L. Canedy, W. W. Bewley, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, Electron. Lett. 42, 1097 (2006).
13. C. L. Canedy, W. W. Bewley, M. Kim, C. S. Kim, J. A. Nolde, D. C. Larrabee, J. R. Lindle, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, Appl. Phys. Lett. 90, 181120 (2007).
14. K. Mansour, Y. Qiu, C. J. Hill, A. Soibel, and R. Q. Yang, Electron. Lett. 42, 1034 (2006).
15. W. W. Bewley, C. L. Canedy, M. Kim, C. S. Kim, J. A. Nolde, J. R. Lindle, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, Electron. Lett. 43, 283 (2007).
16. C. L. Canedy, W. W. Bewley, C. S. Kim, M. Kim, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, J. Appl. Phys. 94, 1347 (2003).
17. 17C. L. Canedy, G. I. Boishin, W. W. Bewley, C. S. Kim, I. Vurgaftman, M. Kim, J. R. Lindle, J. R. Meyer, and L. J. Whitman, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1575 (2004).
18. C. S. Kim, C. L. Canedy, E. H. Aifer, M. Kim, W. W. Bewley, J. G. Tischler, D. C. Larrabee, J. A. Nolde, J. H. Warner, I. Vurgaftman, E. M. Jackson, and J. R. Meyer, J. Vac. Sci. Technol. B 25, 991 (2007).
19. C. L. Canedy, W. W. Bewley, C. S. Kim, M. Kim, J. R. Lindle, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1613 (2006).
20. W. W. Bewley, J. A. Nolde, D. C. Larrabee, C. L. Canedy, C. S. Kim, M. Kim, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, Appl. Phys. Lett. 89, 161106 (2006).
21. R. Q. Yang, C. J. Hill, and B. H. Yang, Appl. Phys. Lett. 87, 151109 (2005).
22. J. R. Meyer, C. L. Felix, W. W. Bewley, I. Vurgaftman, E. H. Aifer, L. J. Olafsen, J. R. Lindle, C. A. Hoffman, M. J. Yang, B. R. Bennett, B. V. Shanabrook, H. Lee, C. H. Lin, S. S. Pei and R. H. Miles, Appl. Phys. Lett. 73, 2857 (1998).
23. W. W. Bewley, J. R. Lindle, C. L. Canedy, M. Kim, C. S. Kim, D. C. Larrabee, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, J. Appl. Phys. (in press).
24. A. Soibel, K. Mansour, Y. Qiu, C. J. Hill, and R. Q. Yang, J. Appl. Phys. 101, 093104 (2007).
25. C. J. Hill and R. Q. Yang, J. Cryst. Growth 278, 167 (2005).
26. C. L. Canedy, C. S. Kim, M. Kim, D. C. Larrabee, J. A. Nolde, W. W. Bewley, I. Vurgaftman, and J. R. Meyer, submitted to J. Vac. Sci. Technol. B.