Effect of gas pressure on current-voltage characteristics of amorphous carbon film/silicon heterojunction

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 9, 2007, Pages

  Gao, Xili ^a   Xue, Qingzhong ^a   Hao, Lanzhong ^a   Li, Qun ^a   Zheng, Qingbin ^a   Tian, Ping ^a  

^a CHINA UNIVERSITY OF PETROLEUM   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; ELECTRIC SPACE CHARGE; HETEROJUNCTIONS; MAGNETRON SPUTTERING; PHYSISORPTION; SILICON;

AMORPHOUS CARBON FILM/SILICON HETEROJUNCTION; GAS PRESSURE; REVERSE CURRENT;

CARBON FILMS;

EID: 34548407854     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2776017     Document Type: Article

References (18)

1. R. D. Forrest, A. P. Burden, S. R. P. Silva, L. K. Cheah, and X. Shi, Appl. Phys. Lett. 73, 3784 (1998).
2. T. Inoue, D. F. Ogletree, and M. Sameron, Appl. Phys. Lett. 76, 2961 (2000).
3. N. A. Hastas, C. A. Dimitriadis, D. H. Tassis, and S. Logothetidis, Appl. Phys. Lett. 79, 638 (2001).
4. N. Konofaos, C. T. Angelis, E. K. Evangelou, Y. Panayiotatos, C. A. Dimitriadis, and S. Logothetidis, Appl. Phys. Lett. 79, 2381 (2001).
5. C. Corbella, G. Oncins, M. A. Gomez, M. C. Polo, E. Pascual, J. Garcia-Cespedes, J. L. Andujar, and E. Bertran, Diamond Relat. Mater. 14, 1103 (2005).
6. I. S. h. Trakhtenberg, A. B. Vladimirov, A. P. Rubstein, E. V. Kuzmina, K. Uemura, A. G. Gontar, and S. N. Dub, Diamond Relat. Mater. 12, 1788 (2003).
7. L. Valentini, C. Cantalini, L. Lozzi, S. Picozzi, I. Armentano, J. M. Kenny, and S. Santucci, Sens. Actuators B 100, 33 (2004).
8. J. G. Lee and S. P. Lee, Sens. Actuators B 117, 437 (2006).
9. N. A. Hastas, C. A. Dimitriadis, S. H. Tassis, Y. Panayiotatos, and S. Logothetidis, Appl. Phys. Lett. 79, 3269 (2001).
10. L. Z. Hao, Q. Z. Xue, X. L. Gao, Q. Li, Q. B. Zheng, and K. Y. Yan, J. Appl. Phys. 101, 053718 (2007).
11. G. Zhao, E. M. Charlson, E. J. Charlson, T. Stacy, and J. M. Meese, J. Appl. Phys. 73, 1832 (1993).
12. R. J. Grow, Q. Wang, J. Cao, D. W. Wang, and H. J. Dai, Appl. Phys. Lett. 86, 093104 (2005).
13. C. S. Huang, B. R. Huang, Y. H. Jang, M. S. Tsai, and C. Y. Yeh, Diamond Relat. Mater. 14, 1872 (2005).
14. Y. G. Liu, P. Feng, X. Y. Xue, S. L. Shi, X. Q. Fu, C. Wang, Y. G. Wang, and T. H. Wang, Appl. Phys. Lett. 90, 042109 (2007).
15. S. M. Guo, Y. G. Zhao, C. M. Xiong, and P. L. Lang, Appl. Phys. Lett. 89, 223506 (2006).
16. D. Dimos, W. L. Warren, M. B. Sinclair, B. A. Tuttle, and R. W. Schwartz, J. Appl. Phys. 76, 4305 (1994).
17. J. Wollenstein, F. Ihlenfeld, M. Jaegle, G. Kuhner, H. Bottner, and W. J. Becker, Sens. Actuators B 68, 22 (2000).
18. Y. Shimizu, E. D. Bartolomeo, E. Traversa, G. Gusmano, T. Hyodo, K. Wada, and M. Egashira, Sens. Actuators B 60, 118 (1999).