Local retention behaviors of epitaxial and polycrystalline Pb Mg13 Nb23 O3 -PbTi O3 thin films by scanning force microscopy

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 7, 2007, Pages

  Lee, J H ^a   Choi, M R ^a   Oh, Y J ^a   Jo, W ^a  

^a Ewha Womans University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; FERROELECTRICITY; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; PULSED LASER DEPOSITION;

EXPONENTIAL DECAY; RELAXOR FERROELECTRICS;

EPITAXIAL FILMS;

EID: 34548036271     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2769945     Document Type: Article

References (23)

1. S. Nomura and K. Uchino, Ferroelectrics 41, 117 (1982).
2. S. Hirano, T. Yogo, K. Kikuta, K. Kate, W. Sakamoto, and S. Ogasahara, Ferroelectric Films, Ceramic Transactions Vol. 25, edited by, A. S. Bhalla, and, K. M. Nair, (American Ceramic Society, Westerville, Olt, 1991), p. 91.
3. S. E. Park and T. Shrout, J. Appl. Phys. 82, 1804 (1997).
4. S. Takashi, A. Ochi, M. Yonezawa, T. Yano, T. Harnatsui, and I. Fukui, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 22, 157 (1993).
5. C. S. Ganpule, A. L. Royburd, V. Nagarajan, B. K. Hillm, S. B. Ogale, E. D. Williams, and R. Ramesh, Phys. Rev. B 65, 014101 (2001).
6. C. S. Ganpule, V. Nagarajan, S. B. Ogale, A. L. Roytburd, E. D. Williams, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 77, 3275 (2001).
7. V. V. Shvartsman, A. L. Kholkin, M. Tyunina, and J. Levoska, Appl. Phys. Lett. 86, 222907 (2005).
8. V. V. Shvartsman, A. Yu. Emelyanov, A. L. Kholkin, and A. Safari, Appl. Phys. Lett. 81, 117 (2002).
9. V. V. Shvartsman and A. L. Kholkin, Phys. Rev. B 69, 014102 (2004).
10. Q. M. Zhang, J. Zhao, and L. E. Cross, J. Appl. Phys. 79, 3181 (1996).
11. T. Y. Kim, J. H. Lee, Y. J. Oh, M. R. Choi, and W. Jo, Appl. Phys. Lett. 90, 082901 (2007).
12. C. B. Eom, R. B. Vandover, J. M. Phillips, D. J. Werder, J. H. Marshall, C. H. Chen, R. J. Cava, R. M. Fleming, and D. K. Fork, Appl. Phys. Lett. 63, 2570 (1993).
13. W. Jo, D. C. Kim, and J. W. Hong, Appl. Phys. Lett. 76, 390 (2000).
14. S. D. Bu, M. K. Lee, and C. B. Eom, Appl. Phys. Lett. 79, 3482 (2001).
15. S. Yokoyama, S. Okamoto, H. Funakubo, T. Iijima, K. Saito, H. Okino, T. Yamamoto, K. Nishida, T. Katoda, and J. Sakai, J. Appl. Phys. 100, 054110 (2006).
16. J. H. Lee, T. Y. Kim, Y. J. Oh, M. R. Choi, H. R. Yoon, W. Jo, and H. J. Nam, J. Korean Phys. Soc. 49, S833 (2006).
17. J. W. Hong, W. Jo, D. C. Kim, H. J. Nam, S. M. Cho, H. M. Lee, and J. U. Bu, Appl. Phys. Lett. 75, 3183 (1999).
18. Y. J. Oh, J. H. Lee, and W. Jo, Ultramicroscopy 106, 779 (2006).
19. Nanoscale Characterization of Ferroelectric Materials: Scanning Force Microscopy Approach, edited by, A. Gruverman, and, M. Alexe, (Springer, Berlin, 2003), 3, 705.
20. A. Gruverman and M. Tanaka, J. Appl. Phys. 89, 1836 (2001).
21. J. Kakalios, R. A. Street, and W. B. Jackson, Phys. Rev. Lett. 59, 1037 (1987).
22. A. Gruverman, H. Tokumoto, A. S. Prakash, S. Aggarwal, B. Yang, M. Wuttig, R. Ramesh, O. Auciello, and T. Venkatesan, Appl. Phys. Lett. 71, 3492 (1997).
23. M. Tyunina, J. Levoska, and I. Jaakola, Phys. Rev. B 74, 104112 (2006).