Structural, optical and electrical properties of transparent conductive In2O3-doped ZnO thin films grown by pulsed laser deposition

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 50, Issue 3, 2007, Pages 626-631

  Shan, F K ^a   Liu, G X ^a   Lee, W J ^a   Shin, B C ^a   Kim, Y C ^a  

^a Dong Eui University   (South Korea)

Author keywords

AFM; Hall effect; PL; PLD; Stokes shift; Thin film; XRD

Indexed keywords

EID: 34147168638     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.50.626     Document Type: Article

References (22)

1. T. L. Yang, D. H. Zhang, J. Ma, H. L. Ma and Y. Chen, Thin Solid Films 326, 60 (1998).
2. B. Sang, A. Yamada and M. Konagai, Jpn. J. Appl. Phys. 37, L206 (1998).
3. P. Verardi, N. Nastase, C. Gherasim, C. Ghica, M. Dinescu, R. Dinu and C. Flueraru, J. Crystal Growth 197, 523 (1999).
4. J. F. Cordaro, Y. Shim and J. E. May, J. Appl. Phys. 80, 4186 (1986).
5. W. Y. Liang and A. D. Yoffe, Phys. Rev. Lett. 20, 59 (1968).
6. Y. R. Ryu, S. Zhu, J. D. Budai, H. R. Chandrasekhar, P. F. Miceli and H. W. White, J. Appl. Phys. 88, 201 (2000).
7. D. C. Look, Mater. Sci. Eng. B 80, 383 (2001).
8. F. K. Shan, B. C. Shin, S. C. Kim and Y. S. Yu, J. Eur. Ceram. Soc. 24, 1861 (2004).
9. Y. F. Lu, H. Q. Ni, Z. H. Ni, Z. H. Mai and Z. M. Ren, J. Appl. Phys. 88, 498 (2000).
10. F. K. Shan and Y. S. Yu, J. Eur. Ceram. Soc. 24, 1869 (2004).
11. H. J. Ko, T. Yao, Y. F. Chen and S. K. Hong, Appl. Phys. Lett. 76, 1905 (2000).
12. S. Bethke, H. Pan and B. W. Wessels, Appl. Phys. Lett. 52, 138 (1988).
13. B. Guo, Z. R. Qiu and K. S. Wong, Appl. Phys. Lett. 82, 2290 (2003).
14. S. H. Jeong, B. S. Kim and B. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 82, 2625 (2003).
15. P. M. R. Kumar, C. S. Kartha and K. P. Vijayakumar, J. Appl. Phys. 98, l (2005).
16. F. K. Shan, B. I. Kim, G. X. Liu, Z. F. Liu, J. Y. Sohn, W. J. Lee, B. C. Shin and Y. S. Yu, J. Appl. Phys. 95, 4772 (2004).
17. F. K. Shan and Y. S. Yu, Thin Solid Films 435, 174 (2003).
18. H. T. Ng, B. Chen, J. Li, J. Han and M. Meyyappan, Appl. Phys. Lett. 82, 2023 (2003).
19. F. K. Shan, Z. F. Liu, G. X. Liu, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, B. C. Shin and Y. S. Yu, J. Electroceram. 13, 195 (2004).
20. X. T. Zhang, Y. C. Liu, L. G. Zhang, J. Y. Zhang, Y. M. Lu, D. Z. Shen, W. Xu, G. Z. Zhong, X. W. Fan and X. G. Kong, J. Appl. Phys. 92, 3293 (2002).
21. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim and B. C. Shin, Appl. Phys. Lett. 86, 221910 (2005).
22. F. K. Shan, B. C. Shin, S. W. Jang and Y. S. Yu, J. Eur. Ceram. Soc. 24, 1015 (2004).