Molecular orbital study on the oxidation mechanism of hydrazine and hydroxylamine as reducing agents for electroless deposition process

Electrochemistry

Volumn 75, Issue 1, 2007, Pages 45-49

  Shimada, Takuya ^a   Tamaki, Amiko ^a   Nakai, Hiromi ^a   Homma, Takayuki ^a  

^a WASEDA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Electroless deposition process; Hydrazine; Hydroxylamine; Molecular orbital calculation

Indexed keywords

AMINES; ELECTROLESS PLATING; HYDRAZINE; OXIDATION; REACTION KINETICS; REDUCING AGENTS;

ELECTROLESS DEPOSITION PROCESS; HYDROXYLAMINE; MOLECULAR ORBITAL CALCULATION;

MOLECULAR DYNAMICS;

EID: 33847763222     PISSN: 13443542     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.5796/electrochemistry.75.45     Document Type: Article

References (30)

1. Y. Shacham-Diamand, A. Inberg, Y. Sverdlov, V. Bogush, N. Croitoru, H. Moscovich, and A. Freeman, Electrochim. Acta, 48, 2987 (2003).
2. I. Ohno, Mater. Sci. Eng., A, 146, 33 (1991).
3. D. J. Levy, Electrochem. Technol., 1, 38 (1963).
4. J. W. Dini and P. R. Coronado, Plating, 4, 385 (1967).
5. C. D. Iacovangelo, J. Electrochem. Soc., 138, 976 (1991).
6. S. S. Djokic, J. Electrochem. Soc., 144, 2358 (1997).
7. I. Ohno, O. Wakabayashi, and S. Haruyama, J. Electrochem. Soc., 132, 2323 (1985).
8. G. Stremsdoerfer, H. Perrot, J. R. Martin, and P. Clechet, J. Electrochem. Soc., 135, 2881 (1988).
9. S. Meltzer, R. Resch, B. E. Koel, M. E. Thompson, A. Madhukar, A. A. G. Requicha, and P. Will, Langmuir, 17, 1713 (2001).
10. S. Hrapovic, Y. Liu, G. Enright, F. Bensebaa, and J. H. T. Luong, Langmuir, 19, 3958 (2003).
11. S. Yae, K. Ito, K. Yamagishi, and H. Matsuda, J. Surf. Finish. Soc. Jpn., 51, 99 (2000).
12. K. Tashiro, T. Wantanabe, H. Inaba, and H. Honma, J. Surf. Finish. Soc. Jpn., 51, 606 (2000).
13. T. Homma, H. Nakai, M. Onishi, and T. Osaka, J. Phys. Chem. B, 103, 1774 (1999).
14. H. Nakai, T. Homma, I. Komatsu, and T. Osaka, J. Phys. Chem. B, 105, 1701 (2001).
15. T. Homma, H. Nakai, I. Komatsu, A. Tamaki, and T. Osaka, Electrochim. Acta, 47, 47 (2001).
16. T. Homma, A. Tamaki, H. Nakai, and T. Osaka, J. Electroanal. Chem., 559, 131 (2003).
17. T. Shimada, I. Komatsu, T. Homma, H. Nakai, and T. Osaka, Electrochemistry, 72, 462 (2004).
18. T. Shimada, K. Sakata, T. Homma, H. Nakai, and T. Osaka, Electrochim. Acta, 51, 906 (2005).
19. J. E. A. M. van den Meerakker, J. Appl. Electrochem., 11, 395 (1981).
20. J. A. Harrison and Z. A. Khan, J. Electroanal. Chem., 26, 1 (1970).
21. M. Habas, I. Baraille, C. Larrieu, and M. Chaillet, Chem. Phys., 219, 63 (1997).
22. C. Møller and M. S. Plesset, Phys. Rev., 46, 618 (1934).
23. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, V. G. Zakrzewski, J. A. Montgomery, R. E. Stratmann, J. C. Burant, S. Dapprich, J. M. Millam, A. D. Daniels, K. N. Kudin, K. N. Strain, O. Farkas, J. Tomasi, V. Barone, M. Cossi, R. Cammi, B. Mennucci, C. Pomelli, C. Adamo, S. Clifford, J. Ochterski, G. A. Petersson, P. Y. Ayala, Q. Cui, K. Morokuma, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. Cioslowski, J. V. Ortiz, B. B. Stefanov, G. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. Gomperts, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, C. Gonzalez, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. G. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, J. L. Andres, M. Head-Gordon, E. S. Replogle, and J. A. Pople, Gaussian 98, Gaussian Inc., Pittsburgh, PA, 1998.
24. D. E. Woon and T. H. Dunning Jr., J. Chem. Phys., 98, 1358 (1993).
25. R. A. Kendall, T. H. Dunning Jr., and R. J. J. Harrison, Chem. Phys., 96, 6796 (1992).
26. T. Clark, J. Chandrasekhar, G. W. Spitznagel, and P. v. R. Schleyer, J. Comput. Chem., 4, 294 (1983).
27. P. J. Hay and W. R. Wadt, J. Chem. Phys., 82, 299 (1985).
28. E. J. Hart and M. Anbar, The Hydrated Electron, Wiley, New York (1970).
29. K. Imamura, Y. Tada, H. Tanaka, T. Sakiyama, and K. Nakanishi, J. Colloid Interface Sci., 250, 409 (2002).
30. D. Behar, D. Shapira, and A. Treinin, J. Pys. Chem., 76, 180 (1972).