Reduced ferroelectric coercivity in multiferroic Bi0.825 Nd0.175 Fe O3 thin film

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 2, 2007, Pages

  Yuan, G L ^a   Or, Siu Wing ^a   Chan, Helen Lai Wa ^a   Liu, Z G ^b  

^a HONG KONG POLYTECHNIC UNIVERSITY   (Hong Kong)

^b NANJING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COERCIVE FORCE; FERROELECTRICITY; FILM GROWTH; PULSED LASER DEPOSITION; SEMICONDUCTING BISMUTH COMPOUNDS; SUBSTRATES;

FERROELECTRIC DOMAINS; FERROELECTRIC POLARIZATIONS; TWINBORN OXYGEN VACANCIES; WEAK FERROMAGNETISM;

THIN FILMS;

EID: 33847735067     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2423228     Document Type: Article

References (23)

1. A. V. Zalesskii, A. A. Frolov, T. A. Khimich, and A. A. Bush, Phys. Solid State 45, 141 (2003).
2. M. Fiebig, J. Phys. D 38, R123 (2005).
3. W. Eerenstein, N. D. Mathur, and J. F. Scott, Nature (London) 442, 759 (2006).
4. F. M. Bai, Appl. Phys. Lett. 86, 032511 (2005).
5. B. Ruette, S. Zvyagin, A. P. Pyatakov, A. Bush, J. F. Li, V. I. Belotelov, A. K. Zvezdin, and D. Viehland, Phys. Rev. B 69, 064114 (2004).
6. G. L. Yuan, S. W. Or, J. M. Liu, and Z. G. Liu, Appl. Phys. Lett. 89, 052905 (2006).
7. G. L. Yuan, K. Z. Baba-Kishi, J.-M. Liu, S. W. Or, Y. P. Wang, and Z. G. Liu, J. Am. Ceram. Soc. 89, 3136 (2006).
8. G. L. Yuan and S. W. Or, J. Appl. Phys. 100, 024109 (2006).
9. S. R. Das, P. Bhattacharya, R. N. P. Choudhary, and R. S. Katiyar, J. Appl. Phys. 99, 066107 (2006).
10. D. H. Wang, W. C. Goh, M. Ning, and C. K. Ong, Appl. Phys. Lett. 88, 212907 (2006).
11. J. Wang, Science 307, 1203b (2005).
12. Y. H. Lee, J. M. Wu, Y. L. Chueh, and L. J. Chou, Appl. Phys. Lett. 87, 172901 (2005).
13. W. Eerenstein, F. D. Morrison, J. Dho, M. G. Blamire, J. F. Scott, and N. D. Mathur, Science 307, 1203a (2005).
14. H. Bea, Appl. Phys. Lett. 87, 072508 (2005).
15. H. Bea, M. Bibes, S. Fusil, K. Bouzehouane, E. Jacquet, K. Rode, P. Bencok, and A. Barthelemy, Phys. Rev. B 74, 020101 (2006).
16. Y. P. Wang and T. Y. Tseng, J. Appl. Phys. 81, 6762 (1997).
17. F. D. Morrison, P. Zubko, D. J. Jung, J. F. Scott, P. Baxter, M. M. Saad, R. M. Bowman, and J. M. Gregg, Appl. Phys. Lett. 86, 152903 (2005).
18. K. Y. Yun, M. Noda, M. Okuyama, H. Saeki, H. Tabata, and K. Saito, J. Appl. Phys. 96, 3399 (2004).
19. H. Uchida, R. Ueno, H. Funakubo, and S. Koda, J. Appl. Phys. 100, 014106 (2006).
20. F. Zavaliche, P. Shafer, R. Ramesh, M. P. Cruz, R. R. Das, D. M. Kim, and C. B. Eom, Appl. Phys. Lett. 87, 252902 (2005).
21. Y. H. Lee, J. M. Wu, and C. H. Lai, Appl. Phys. Lett. 88, 042903 (2006).
22. M. K. Singh, H. M. Jang, S. Ryu, and M. H. Jo, Appl. Phys. Lett. 88, 042907 (2006).
23. M. K. Singh, S. Ryu, and H. M. Jang, Phys. Rev. B 72, 132101 (2005).