Control of anisotropic tunnel etching of Al by indentation

Chemistry Letters

Volumn 35, Issue 10, 2006, Pages 1096-1097

  Nishio, Kazuyuki ^a,b   Kanezawa, Kenji ^a   Masuda, Hideki ^a,b  

^a TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY   (Japan)

^b JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 33846089928     PISSN: 03667022     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1246/cl.2006.1096     Document Type: Article

References (18)

1. C. G. Dunn, R. B. Bolon, A. S. Alwan, A. W. Stirling, J. Electrochem. Soc. 1971, 118, 381.
2. N. F. Jackson, Electrocomponent Sci. Technol. 1975, 2, 33.
3. J. M. Albella, A. Hornillos, J. M. Sanz, J. M. Martínez-Duart, J. Electrochem. Soc. 1978, 125, 1950.
4. T. R. Beck, R. C. Alkire, J. Electrochem. Soc. 1979, 126, 1662.
5. H. J. Wit, C. Crevecoeur, J. Electrochem. Soc. 1983, 130, 770.
6. R. S. Alwitt, H. Uchi, T. R. Beck, R. C. Alkire, J. Electrochem. Soc. 1984, 131, 13.
7. K. Arai, T. Suzuki, T. Atsumi, J. Electrochem. Soc. 1985, 132, 1667.
8. K. R. Hebert, R. C. Alkire, J. Electrochem. Soc. 1988, 135, 2146.
9. K. R. Hebert, R. C. Alkire, J. Electrochem. Soc. 1988, 135, 2447.
10. M. Baumgärtner, H. Kaesche, Corros. Sci. 1990, 31, 231.
11. B. J. Wiersma, K. R. Hebert, J. Electrochem. Soc. 1991, 138, 48.
12. K. R. Hebert, J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 83.
13. W. Lin, G. C. Tu, C. F. Lin, Y. M. Peng, Corros. Sci. 1996, 38, 889.
14. D. Goad, J. Electrochem. Soc. 1997, 144, 1965.
15. Y. Zhou, K. R. Hebert, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 3100.
16. J. Scherer, O. M. Magnussen, T. Ebel, R. J. Behm, Corros. Sci. 1999, 41, 35.
17. L. M. Serna, C. M. Johnson, F. D. Wall, J. C. Barbour, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, B244.
18. H. Masuda, M. Tajima, K. Nishio, Chem. Lett. 2002, 1150.