Fabrication of carbon nanowalls using novel plasma processing

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 45, Issue 6 B, 2006, Pages 5522-5527

  Hiramatsu, Mineo ^a   Hori, Masaru ^b  

^a MEIJO UNIVERSITY   (Japan)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Carbon nanowalls; Graphite; Plasma enhanced CVD; Radical injection

Indexed keywords

ABSORPTION SPECTROSCOPY; ELECTRODES; LIGHT ABSORPTION; MASS SPECTROMETRY; MORPHOLOGY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SEMICONDUCTOR GROWTH;

CARBON NANOWALLS; FLUOROCARBON/HYDROGEN SYSTEMS; RADICAL INJECTION; VACUUM ULTRAVIOLET ABSORPTION;

CARBON NANOTUBES;

EID: 33745645430     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.45.5522     Document Type: Review

References (23)

1. A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolaev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Cobert and R. E. Smalley: Science 269 (1995) 1550.
2. A. C. Dillon, K. M. Jones, T. A. Bekkedahl, C. H. Kiang, D. S. Bethune and M. J. Heben: Nature (London) 386 (1997) 377.
3. G. Che, B. B. Lakshmi, E. R. Fisher and C. R. Martin: Nature (London) 393 (1998) 346.
4. W. A. de Heer, A. Chatelain and D. Ugarrte: Science 270 (1995) 1179.
5. Y. Ando, X. Zhao and M. Ohkohchi: Carbon 35 (1997) 153.
6. N. G. Shang, F. C. K. Au, X. M. Meng, C. S. Lee, I. Bello and S. T. Lee: Chem. Phys. Lett. 358 (2002) 187.
7. Y. H. Wu, P. W. Qiao, T. C. Chong and Z.-X. Shen: Adv. Mater. 14 (2002) 64.
8. J. J. Wang, M. Y. Zhu, R. A. Outlaw, X. Zhao, D. M. Manos, B. C. Holloway and V. P. Mammana: Appl. Phys. Lett. 85 (2004) 1265.
9. M. Hiramatsu, K. Shiji, H. Amano and M. Hori: Appl. Phys. Lett. 84 (2004) 4708.
10. K. Shiji, M. Hiramatsu, A. Enomoto, M. Nakamura, H. Amano and M. Hori: Diamond Relat. Mater. 14 (2005) 831.
11. S. Takashima, M. Hori, T. Goto, A. Kono, M. Ito and K. Yoneda: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 3929.
12. S. Takashima, M. Hori, T. Goto, A. Kono and K. Yoneda: J. Appl. Phys. 90 (2001) 5497.
13. H. Sugai and T. Toyoda: J. Vac. Sci. Technol. A 10 (1992) 1193.
14. R. J. Nemanich and S. A. Solin: Phys. Rev. B 20 (1979) 392.
15. J. Yu, Q. Zhang, J. Ahn, S. F. Yoon, Rusli, Y. J. Li, B. Gan, K. Chew and K. H. Tan: Diamond Relat. Mater. 10 (2001) 2157.
16. S. Kurita, A. Yoshimura, H. Kawamoto, T. Uchida, K. Kojima, M. Tachibana, P. Molina-Morales and H. Nakai: J. Appl. Phys. 97 (2005) 104320.
17. H. Toyoda, M. Ito and H. Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 3730.
18. R. d'Agostino, F. Cramarossa, F. Fracassi and F. Illuzzi: in Plasma Deposition Treatment and Etching of Polymers, ed. R. d'Agostino (Academic, San Diego, 1990) p. 95.
19. R. d'Agostino, F. Cramarossa, V. Colaprico and R. d'Ettole: J. Appl. Phys. 54 (1983) 1284.
20. S. Naito, M. Ikeda, N. Ito, T. Hattori and T. Goto: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 5721.
21. K. Tachibana: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 4329.
22. K. Tanaka, M. Yoshimura, A. Okamoto and K. Ueda: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 2074.
23. M. Hiramatsu, K. Kato, C. H. Lau, J. S. Foord and M. Hori: Diamond Relat. Mater. 12 (2003) 365.