High tunnel magnetoresistance in fully epitaxial magnetic tunnel junctions with a full-Heusler alloy Co2Cr0.6Fe0.4Al thin film

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 26, 2006, Pages

  Marukame, Takao ^a   Ishikawa, Takayuki ^a   Matsuda, Ken Ichi ^a   Uemura, Tetsuya ^a   Yamamoto, Masafumi ^a  

^a HOKKAIDO UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CRYSTALLINE MATERIALS; EPITAXIAL GROWTH; MAGNETORESISTANCE; POLARIZATION; STOICHIOMETRY; THIN FILMS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

CCFA FILMS; HIGH-RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE; MAGNETIC TUNNEL JUNCTIONS (MTJ); TMR RATIOS;

TUNNEL JUNCTIONS;

EID: 33745609837     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2217166     Document Type: Article

References (24)

1. J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey, Phys. Rev. Lett. 74, 3273 (1995).
2. T. Miyazaki and N. Tezuka, J. Magn. Magn. Mater. 139, L231 (1995).
3. S. Yuasa, T. Nagahama, A. Fukushima, Y. Suzuki, and K. Ando, Nat. Mater. 3, 868 (2004).
4. S. S. P. Parkin, C. Kaiser, A. Panchula, P. M. Rice, B. Hughes, M. Samant, and S.-H. Yang, Nat. Mater. 3, 862 (2004).
5. D. D. Djayaprawira, K. Tsunekawa, M. Nagai, H. Maehara, S. Yamagata, N. Watanabe, S. Yuasa, Y. Suzuki, and K. Ando, Appl. Phys. Lett. 86, 092502 (2005).
6. S. Ikeda, J. Hayakawa, Y. M. Lee, R. Sasaki, T. Meguro, F. Matsukura, and H. Ohno, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 48, L1442 (2005).
7. W. H. Butler, X.-G. Zhang, T. C. Schulthess, and J. M. Maclaren, Phys. Rev. B 63, 054416 (2001).
8. R. A. Groot, F. M. Mueller, P. G. van Engen, and K. H. J. Buschow, Phys. Rev. Lett. 50, 2024 (1985).
9. M. Jullière, Phys. Lett. 54, 225 (1975).
10. S. Ishida, S. Fujii, S. Kashiwagi, and S. Asano, J. Phys. Soc. Jpn. 64, 2152 (1995).
11. S. Picozzi, A. Continenza, and A. J. Freeman, Phys. Rev. B 66, 094421 (2002).
12. P. J. Webster, J. Phys. Chem. Solids 32, 1221 (1971).
13. Y. Miura, K. Nagao, and M. Shirai, Phys. Rev. B 69, 144413 (2004).
14. T. Block, C. Felser, G. Jakob, J. Ensling, B. Mühling, P. Gütlich, and R. J. Cava, J. Solid State Chem. 176, 646 (2003).
15. G. H. Fecher, H. C. Kandpal, S. Wurmehl, J. Morais, H.-J. Lin, H.-J. Elmers, G. Schönhense, and C. Felser, J. Phys.: Condens. Matter 17, 7237 (2005).
16. S. Wurmehl, G. H. Fecher, K. Kroth, F. Kronast, H. A. Dürr, Y. Takeda, Y. Saitoh, K. Kobayashi, H.-J. Lin, G. Schönhense, and C. Felser, J. Phys. D 39, 803 (2006).
17. K. Inomata, S. Okamura, R. Goto, and N. Tezuka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 42, L419 (2003).
18. Y. Sakuraba, J. Nakata, M. Oogane, Y. Ando, H. Kato, A. Sakuma, T. Miyazaki, and H. Kubota, Appl. Phys. Lett. 88, 022503 (2006).
19. K. Inomata, S. Okamura, A. Miyazaki, M. Kikuchi, N. Tezuka, M. Wojcik, and E. Jedryka, J. Phys. D 39, 816 (2006).
20. Y. Sakuraba, J. Nakata, M. Oogane, H. Kubota, Y. Ando, A. Sakuma, and T. Miyazaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 44, L1100 (2005).
21. T. Marukame, T. Kasahara, K.-I. Matsuda, T. Uemura, and M. Yamamoto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 44, L521 (2005).
22. T. Marukame, T. Kasahara, K.-I. Matsuda, T. Uemura, and M. Yamamoto, IEEE Trans. Magn. 41, 2603 (2005).
23. M. Yamamoto, T. Marukame, T. Ishikawa, K.-I. Matsuda, T. Uemura, and M. Arita, J. Phys. D 39, 824 (2006).
24. T. Marukame, T. Ishikawa, K.-I. Matsuda, T. Uemura, and M. Yamamoto, J. Appl. Phys. 99, 08A904 (2006).