Ferroelectricity down to at least 2nm in multiferroic BiFeO3 epitaxial thin films

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters

Volumn 45, Issue 4-7, 2006, Pages

  Bea H ^a   Fusil, S ^a   Bouzehouane, K ^a   Bibes, M ^b   Sirena, M ^a   Herranz, G ^a   Jacquet, E ^a   Contour, J P ^a   Barthelemy A ^a  

^a UNITÉ MIXTE DE PHYSIQUE CNRS THALES   (France)

^b UNIVERSITÉ PARIS SACLAY   (France)

Author keywords

BiFeO3; Critical thickness; Ferroelectric; Multiferroic; Piezoelectric force microscope

Indexed keywords

EPITAXIAL GROWTH; FERROALLOYS; FERROELECTRICITY; LEAD; POLARIZATION;

BIFEO3; CRITICAL THICKNESS; FERROELECTRIC; MULTIFERROIC; PIEZOELECTRIC FORCE MICROSCOPE;

ULTRATHIN FILMS;

EID: 33745153092     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.45.L187     Document Type: Article

References (22)

1. J. F. Scott: Ferroelectric Memories (Springer-Verlag, Berlin, 2000).
2. C. H. Ahn, K. M. Rabe and J.-M. Triscone: Science 303 (2004) 488.
3. J. Junquera and P. Ghosez: Nature 422 (2003) 506.
4. N. Sai, A. M. Kolpak and A. M. Rappe: Phys. Rev. B 72 (2005) 020101.
5. P. Ghosez and K. M. Rabe: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 2767.
6. B. Meyer and D. Vanderbilt: Phys. Rev. B 63 (2001) 2054426.
7. D. J. Kim, J. Y. Jo, Y. S. Kim, Y. J. Chang, J. S. Lee, J.-G. Yoon, T. K. Song and T. W. Noh: Phys. Rev. Lett. 95 (2005) 237602.
8. Y. S. Kim, D. H. Kim, J. D. Kim, Y. J. Chang, T. W. Noh, J. H. Kong, K. Char, Y. D. Park, S. D. Bu, J.-G. Yoon and J.-S. Chung: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 102907.
9. T. Tybell, C. H. Ahn and J.-M. Triscone: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 856.
10. C. Lichtensteiger, J.-M. Triscone, J. Junquera and P. Ghosez: Phys. Rev. Lett. 94 (2005) 047603.
11. D. D. Fong, G. B. Stephenson, S. K. Streiffer, J. A. Eastman, O. Auciello, P. H. Fuoss and C. Thompson: Science 304 (2004) 1650.
12. L. Despont, C. Lichtensteiger, C. Koitzsch, F. Clerc, M. G. Gamier, F. J. Garcia de Abajo, E. Bousquet, Ph. Ghosez, J.-M. Triscone and P. Aebi: cond-mat/0511084.
13. A. M. Kadomtseva, A. K. Zvezdin, Yu. F. Popov, A. P. Pyatakov and G. P. Vorob'ev: JETP Lett. 79 (2004) 571.
14. M. Fiebig: J. Phys. D 38 (2005) R1-30.
15. G. A. Smolenskii, V. M. Yudin, E. S. Sher and Y. E. Stolypin: Sov. Phys. JETP 16 (1963) 622.
16. P. Fischer, M. Polomska, I. Sosnowska and M. Szymanski: J. Phys. C 13 (1980) 1931.
17. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig and R. Ramesh: Science 299 (2003) 1719.
18. F. Bai, J. Wang, M. Wuttig, J. Li, N. Wang, A. P. Pyatakov, A. K. Zvezdin, L. E. Cross and D. Viehland: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 032511.
19. D. Lee, M. G. Kim, S. Ryu, H. M. Jang and S. G. Lee: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 222903.
20. H. Béa, M. Bibes, A. Barthélémy, K. Bouzehouane, E. Jacquet, A. Khodan, J.-P. Contour, S. Fusil, F. Wyczisk, A. Forget, D. Lebeugle, D. Colson and M. Viret: Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 072508.
21. H. Béa, M. Bibes, M. Sirena, G. Herranz, K. Bouzehouane, E. Jacquet, S. Fusil, P. Paruch, M. Dawber, J.-P. Contour and A. Barthélémy: to be published in Appl. Phys. Lett.
22. F. Zavaliche, R. R. Das, D. M. Kim, C. B. Eom, S. Y. Yang, P. Shafer and R. Ramesh: Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 182912.