Novel alignment mechanism of liquid crystal on a hydrogenated amorphous silicon oxide

Langmuir

Volumn 21, Issue 24, 2005, Pages 11079-11084

  Kim, Kyung Chan ^a   Ahn, Han Jin ^a   Kim, Jong Bok ^a   Hwang, Byoung Har ^a   Baik, Hong Koo ^a  

^a Yonsei University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; DEPOSITION; HYDROGENATION; ION BEAMS; THIN FILMS; TIN COMPOUNDS;

IB ENERGIES; INORGANIC MATERIALS; LC ALIGNMENT;

LIQUID CRYSTALS;

EID: 28844435640     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la050839y     Document Type: Article

References (23)

1. Janning, J. L. Appl. Phys. Lett. 1972, 21, 173.
2. Grassland, W. A.; Morrissy, J. H.; Needham, B. J. Phys. D: Appl. Phys. 1976, 9, 2001.
3. Guyon, E.; Pieranski, P.; Boix, M. Lett. Appl. Eng. Sci. 1973, 1, 19.
4. Armitage, D. J. Appl. Phys. 1980, 51, 2552.
5. Murata, M.; Awaji, H.; Isurugi, M.; Uekita, M.; Tawada, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, L189.
6. Murata, M.; Uekita, M.; Nakajima, Y.; Saitoh, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, L679.
7. Ikeno, H.; Oh-saki, A.; Nitta, M.; Ozaki, N.; Yokoyama,Y.; Nakaya, K.; Kobayashi, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1988, 27, 475.
8. Wu, Y.; Demachi, Y.; Tsutsumi, O.; Kanazawa, A.; Shiono, T.; Ikeda, T. Macromolecules 1998, 31, 349.
9. Usami, K.; Sakamoto, K.; Ushioda, S. J. Appl. Phys. 2003, 93, 9523.
10. Chaudhari, P.; Lacey, J.; Doyle, J. P.; Galligan, E. A.; Lien, S. C.; Callegari, A. C.; Hougham, G.; Lang, N. D.; Andry, P. S.; John, R.; Yang, K. H.; Cai, C.; Speidell, J. L.; Purushothaman, S.; Ritsko, J.; Samant, M. G.; Stohr, J.; Nakagawa, Y.; Katoh, Y.; Saitoh, Y.; Sakai, K.; Satoh, H.; Satoh, H.; Odahara, S.; Nakano, H.; Nakagaki, J.; Shiota, Y. Nature 2001, 56, 56.
11. Doyle, J. P.; Chaudhari, P.; Lacey, L.; Galign, E. A.; Lien, S. C.; Callegari, A. C.; Lang, N. D.; Lu, M.; Nakagawa, Y.; Nakano, H.; Okazaki, N.; Odahara, S.; Katoh, Y.; Saitoh, Y.; Sakai, K.; Satoh, H.; Shiota, Y. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 2003, 206, 467.
12. Rho, S. J.; Lee, D. K.; Baik, H. K.; Hwang, J. Y.; Jo, Y. M.; Seo, D. S. Thin Solid Films 2002, 420-421, 259.
13. Lee, D. K.; Rho, S. J.; Baik, H. K.; Hwang, J. Y.; Jo, Y. M.; Seo, D. S.; Lee, S. J.; Song, K. M. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, L1399.
14. Song, K. M.; Rho, S. J.; Ahn, H. J.; Kim, K C.; Baik, H. K.; Hwang, J. Y.; Jo, Y. M.; Seo, D. S.; Lee, S. J. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 1577.
15. Ahn, H. J.; Kim, K. C.; Kim, J. B.; Hwang, B. H.; Baik, H. K. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 4092.
16. Janssen, R.; Janotta, A.; Dimova-Malinovska, D.; Stutzmann, M. Phys. Rev. B 1999, 60, 13561.
17. Shioda, T.; Okada, Y.; Chung, D. H.; Takanishi, Y.; Ishikawa, K.; B. C. Park, Takezoe, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, L266.
18. Smith, D. L. Thin-Film Deposition: principles and practice; McGraw-Hill: Singapore, 1997.
19. Bardley, R. M.; Harper, J. M. E. J. Vac. Sci. Technol., A 1988, 6, 2390.
20. Theil, J. A.; Tsu, D. V.; Watkins, M. W.; Kim, S. S.; Lucovsky, G. J. Vac. Sci. Technol., A 1990, 8, 1374.
21. Chang, W. J.; Houng, M. P.; Wang, Y. H. Jpn. J. Appl. Phys. 1999, 38, 4642.
22. Delfino, M.; Tsai, W.; Reynolds, G.; Day, M. E. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 3426.
23. Yoshimaru, M.; Koizumi, S.; Shimokawa, K. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 2915.