Micromachining of organic polymers by direct photo-etching using a laser plasma X-ray source

Microelectronic Engineering

Volumn 73-74, Issue , 2004, Pages 336-339

  Fiedorowicz, H ^a   Bartnik, A ^a   Bittner, M ^b   Juha, L ^b   Krasa, J ^b   Kubat, P ^b,c   Mikolajczyk, J ^a   Rakowski, R ^a  

^a MILITARY UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Poland)

^b INSTITUTE OF PHYSICS   (Czech Republic)

^c J HEYROVSKÝ INSTITUTE OF PHYSICAL CHEMISTRY   (Czech Republic)

Author keywords

Microstructures; Photo etching; X rays

Indexed keywords

ETCHING; HELIUM; LASER BEAM EFFECTS; MICROMACHINING; MICROSTRUCTURE; ORGANIC POLYMERS; PHOTONS; PLASMA APPLICATIONS; SYNCHROTRON RADIATION; X RAYS; XENON;

PHOTO-ETCHING; X RAY PULSES; X RAY RADIATION;

MICROELECTRONICS;

EID: 2542471044     PISSN: 01679317     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0167-9317(04)00121-2     Document Type: Conference Paper

References (9)

1. Zgang Y., Katoh T., Washio M., Yamada H., Hamada S. Appl. Phys. Lett. 67:1995;872-874.
2. Juha L., Krasa J., Präg A., Cejnarova A., Chvostova D., Rohlena K., Jungwirth K., Kravarik J., Kubes P., Bakshaev Yu.L., Chernenko A.S., Korolev V.D., Tumanov V.I., Ivanov M.I., Bernardinello A., Ullschmied J., Boody F.P. Surf. Rev. Lett. 9:2002;347-352.
3. Juha L., Krasa J., Präg A., Cejnarova A., Chvostova D., Kravarik J., Kubes P., Bakshaev Yu.L., Chernenko A.S., Korolev V.D., Tumanov V.I., Ivanov M.I., Scholz M., Ryc L., Tomaszewski K., Viskup R., Boody F.P., Kodymova J. Proc. SPIE. 4760:2002;1098-1105.
4. L. Juha, A. Präg, J. Krása, A. Cejnarová, B. Králiková, J. Skála, D. Chvostová, V. Vorlíek, J. Krzywinski, A. Andrejczuk, M. Jurek, D. Klinger, R. Sobierajski, H. Fiedorowicz, A. Bartnik, L. Pína, J. Kravárik, P. Kubes, Yu.L. Bakshaev, A.S. Chernenko, V.D. Korolev, M.I. Ivanov, M. Scholz, L. Ryc, K. Tomaszewski, R. Viskup, F.P. Boody, in: J.J. Rocca, J. Dunn, S. Suckewer (Eds.), AIP Conference Proceedings, 8th International Conference on X-Ray Lasers, vol. 641, May 27-31, Aspen, CO, USA, 2002, pp. 504-509.
5. Juha L., Krása J., Cejnarová A., Chvostová D., Vorlicek V., Krzywinski J., Sobierajski R., Andrejczuk A., Jurek M., Klinger D., Fiedorowicz H., Bartnik A., Pfeifer M., Kubat P., Pína L., Kravárik J., Kubes P., Bakshaev Yu., Korolev V.D., Chernenko A.S., Ivanov M.I., Scholz M., Ryc L., Feldhaus J., Ullschmied J., Boody F.P. Nucl. Instrum. Meth. Phys. Res. A. 507:2003;577-581.
6. Fiedorowicz H., Bartnik A., Patron Z., Parys P. Appl. Phys. Lett. 62:1993;2778-2781.
7. Jungwirth K., Cejnarova A., Juha L., Kralikova B., Krasa J., Krousky E., Krupickova P., Laska L., Masek K., Mocek T., Pfeifer M., Prag A., Renner O., Rohlena K., Rus B., Skala J., Straka P., Ullschmied J. Phys. Plasmas. 8:2001;2495-2503.
8. Fiedorowicz H., Bartnik A., Jarocki R., Rakowski R., Szczurek M. Appl. Phys. B. 70:2000;305-308.
9. Fiedorowicz H., Bartnik A., Juha L., Jungwirth K., Králiková B., Krása J., Kubat P., Pfeifer M., Pína L., Prchal P., Rohlena K., Skála J., Ullschmied J., Horvath M., Wawer J. J. Alloys Comp. 362:2004;67-70.