Low voltage electron beam lithography in PMMA

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 17, Issue 4, 1999, Pages 1366-1370

  Olkhovets, A ^a   Craighead, H G ^a  

^a Cornell University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 22644449818     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.590762     Document Type: Article

References (11)

1. E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2498 (1995).
2. K. Kragler, E. Günther, R. Leuschner, G. Falk, and H. von Seggern, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1327 (1996).
3. E. A. Dobisz, C. R. K. Marrian, R. E. Salvino, M. A. Ancona, F. K. Perkins, and N. H. Turner, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2733 (1993).
4. K. J. Polasko, Y. W. Yan, and R. F. W. Pease, Proc. SPIE 333, 76 (1982).
5. M. J. Lercel, H. G. Craighead, A. N. Parikh, K. Seshadi, and D. L. Allara, Appl. Phys. Lett. 68, 1504 (1996).
6. D. M. Tanenbaum, C. W. Lo, M. Isaacson, H. G. Craighead, M. J. Rooks, K. Y. Lee, W. S. Huang, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3829 (1996).
7. M. A. McCord and T. H. Newman, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 3083 (1992).
8. C. W. Lo, M. J. Rooks, W. K. Lo, M. Isaacson, and H. G. Craighead, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 812 (1995).
9. Y.-H. Lee, R. Browning, N. Maluf, G. Owen, and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 3094 (1992).
10. H. A. Bethe, Ann. Phys. (Leipzig) 5, 325 (1930).
11. C. W. Lo, W. K. Lo, M. J. Rooks, M. Isaacson, H. G. Craighead, and A. E. Novembre, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2980 (1995).